JPH04219757A - 感放射線性混合物 - Google Patents

感放射線性混合物

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JPH04219757A
JPH04219757A JP3044834A JP4483491A JPH04219757A JP H04219757 A JPH04219757 A JP H04219757A JP 3044834 A JP3044834 A JP 3044834A JP 4483491 A JP4483491 A JP 4483491A JP H04219757 A JPH04219757 A JP H04219757A
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JP3044834A
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Kim Son Nguyen
ゾン、グイェン、キム
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BASF SE
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    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G—PHYSICS
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    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】本発明は、水に不溶性であるが、アルカリ
には可溶性の結合剤および放射線照射により強酸を形成
する化合物を本質的に含有する感放射線性混合物に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】ポジチブ処理感放射線性混合物は公知で
あり、ことにアルカリ可溶性結合剤、例えばノボラック
もしくはポリ（ｐ−ビニルフェノール）中にｏ−キノン
ジアジドを含有するポジチブ処理レジスト材料は商業的
に使用されている。しかしながら、これら組成物の感放
射線性、ことに短波長のものに対する感度は若干の場合
において不満足である。
【０００３】１次光化学反応が特定の物質を形成し、こ
れが次いで放射線と無関係に触媒的２次反応を開始させ
るようになされている感放射線性組成物の感度を増大さ
せることは公知である。例えば米国特許３，９１５，７
０６号明細書には、強酸をもたらす光重合開始剤を含有
し、この強酸が２次反応において、酸不安定基、例えば
ポリアルデヒド基を分解することが記載されている。
【０００４】さらに、アルカリに可溶性のポリマーを結
合剤として含有する酸により分解する化合物を基礎とし
、さらに光化学反応により強酸を形成する化合物および
酸の作用により分解する化合物を含有する感放射線性混
合物であって、酸の作用によりそのアルカリ性現像液に
対する溶解性が高められる混合物も公知である（西独特
許出願公開３，４０６，９２７号公報）。ここでは光化
学的に強酸を形成する化合物として、ジアゾニウム、ホ
スホニウム、スルホニウムおよびイオドニウム各化合物
ならびにハロゲン化合物が挙げられている。またこれら
オニウム塩を光化学的酸供与体としてレジスト材料に使
用することも、例えば米国特許４，４９１，６２８号か
ら公知である。オニウム塩のレジスト材料における使用
は、Ｏｒｇ．Ｃｏａｔｉｎｇｓ　　ａｎｄ　　Ａｐｐｌ
．　　Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．４８（１９８５）６５−６
９頁におけるクリヴェロの論稿で言及されている。
【０００５】酸不安定側鎖基を有するポリマーと光化学
反応酸供与体を含有する感放射線性混合物は、例えば上
記米国特許４，４９１，６２８号および佛国特許２，５
７０，８４４号から公知である。しかしながら、これら
ポリマー結合剤は疏水性であって、放射線照射により始
めてアルカリ可溶性となる。
【０００６】フェノール性の酸不安定基を有する共重合
体、例えばポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン−ｃｏ−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシスチレン）はＪ．Ｐｏｌｙｍ
．Ｓｃｉ．Ａ部、Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．２４（
１９８６）の２９７１−２９８０頁により公知である。 しかしながら、アルカリ可溶性のこの基を有する共重合
体を、同じく米国特許４，４９１，６２８号明細書に記
載されている、市販スルホニウム塩と共に使用した場合
、この混合物は、上述スルホニウム塩は十分に溶解禁止
作用を果さないので、非照射部分における著しい溶解洗
除の欠点がある。
【０００７】西独出願公開３，７２１，７４１号公報に
は、アルカリ可溶性のポリマー結合剤と、水性アルカリ
液に対する可溶性が酸により増大せしめられる有機化合
物とを含有し、後者が少くとも１個の酸不安定基を有し
、放射線照射により強酸を形成する感放射線混合物が記
載されている。
【０００８】また西独特許２，３０６，２４８号は、フ
ェノール性結合剤、光化学反応性強酸供与体（ハロゲン
含有ｓ−トリアジン誘導体もしくはジアゾニウム塩）お
よび少くとも１個のアルキルビニルエーテル基と一価も
しくは多価フェノールを含有する３成分系感光性記録材
料を開示している。しかしながら、この組成物は熱安定
性を欠き、サブミクロン領域における使用を不適当なら
しめる構造的特性を有する。
【０００９】ＣＡ　　Ｓｅｌｅｃｔｓ：　　Ｐｈｏｔｏ
ｒｅｓｉｓｔ，１９９０の２４４０１６ｍには、テトラ
ヒドロピラニルおよびテトラヒドロフラニル基で保護さ
れたヒドロキシル基を有し、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル）−イオドニウムトリフラートと結合されたポリ
ヒドロキシスチレンが開示されている。ＰＭＥ１９８９
（＝Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　　ｆｏｒ　　Ｍｉｃｒｏｅｌｅ
ｃｔｒｏｎｉｃｓ−Ｓｃｉｅｎｃｅ　　ａｎｄ　　Ｔｅ
ｃｈｎｏｌｏｇｙ）６６−６７頁には、同様に部分的に
テトラヒドロピラニル基で置換されたＯＨ基を有し、ト
リフェニルスルホニウムトリフラートと結合されたポリ
ヒドロキシスチレンが開示されている。これら組成物は
過剰露出によりポジチブ処理ではなく、著しい制約のあ
るネガチブ処理用となる欠点がある。
【００１０】また米国特許４，１０１，３２３号明細書
には、主鎖に酸分解される−Ｃ−Ｏ−Ｃ−基を有する結
合剤と、酸供与体としてポリクロリンとを含有する感放
射線性複写材料が記載され、ヨーロッパ特許出願公開３
０２，３５９号公報には、アルカリ溶解性フェノール結
合剤、酸供与体としてポリクロリン化合物および重合禁
止剤として２個のアセタール基を有する化合物から成る
３組成分系の感放射線性複写材料が記載されている。前
者は再現可能に製造することが極めて困難であり、後者
は前述の３成分系組成物と同じ欠点を有する。
【００１１】そこで本発明の目的は、水性アルカリ液で
現像可能であり、ことに感短波長紫外線性の層を形成し
得る、高感度の感放射線性、ポジチブ処理用組成物を提
供することである。
【００１２】
【発明の要約】この目的は水不溶性の、しかしながらア
ルカリ可溶性の、酸により加水分解する基を有する結合
剤と、放射線画像形成照射により強酸を形成する化合物
とを含有する組成物で達成されるべきである。しかるに
この目的は、結合剤のフェノール性ヒドロキシル基の２
０から７０％を特定のアセタール基で置換することによ
り達成され得ることが本発明者らにより見出された。得
られる混合物は短波長紫外線のほかにさらに電子ビーム
およびＸ線にも感応し、レジスト材料としてことに好適
である。
【００１３】本発明の対象は、 （ａ）水に不溶性であるがアルカリには可溶性の結合剤
または結合剤混合物および （ｂ）放射線照射により強酸を形成する化合物を本質的
に含有する感放射線性混合物であって、組成分（ａ）が
フェノール樹脂であり、そのフェノール性ヒドロキシル
基の２０から７０％が基（Ｉ）
【００１４】
【化６】 （Ｒ１はアルキル、Ｒ２はアルキル、Ｒ３は水素もしく
はアルキルを意味し、あるいはＲ１とＲ２は合体して−
（ＣＨ２）ｍ−を介して環を形成し、このｍは３から６
の数値を表わす）により置換されていることを特徴とす
る感放射線性混合物である。
【００１５】上記組成分（ａ）としては、２００から２
００，０００の平均分子量Ｍｗを有するポリ（ｐ−ヒド
ロキシスチレン）もしくはポリ（ｐ−ヒドロキシ−α−
メチルスチレンであって、そのフェノール性ヒドロキシ
ル基の２０から７０％、ことに２５から６０％が基（Ｉ
）により置換されたものが好ましい。
【００１６】ことに好ましい結合剤組成分（ａ）は、以
下の基（ＩＩ）および（ＩＩＩ）、あるいは（ＩＩ）お
よび（ＩＶ）を有するものである。
【００１７】
【化７】 組成分（ｂ）としては、以下の式（Ｖ）もしくは（ＶＩ
）のスルホニウム塩もしくはイオドニウム塩が好ましい
。
【００１８】
【化８】 Ｒα、ＲβおよびＲγは相互に同じでも異なってもよく
それぞれ１から３個の炭素原子を有するアルキル、アリ
ール、置換アリールあるいはアルアルキルを、
【００１
９】
【化９】 ことにＲα、Ｒβ、およびＲγの少なくとも１個が式（
ＶＩＩ）で表わされる基であるのが好ましい。
【００２０】
【化１０】 Ｒδ、ＲεおよびＲζは相互に同じでも異なってもよく
それぞれ水素、ヒドロキシル、ハロゲン、あるいはそれ
ぞれ１から４個の炭素原子を有するアルキル、アシルオ
キシあるいはアルコキシを意味する。
【００２１】本発明による感放射線性混合物は、一般的
に８０から９９重量％の組成分（ａ）および１から２０
重量％の組成分（ｂ）を含有する。
【００２２】本発明の混合物は、放射線を吸収し、これ
を組成分（ｂ）にもたらす増感剤および／あるいは１重
量％までの接着性増強剤、表面活性剤あるいは染料を追
加的に含有することができる。
【００２３】本発明はまた上述した感放射線性混合物を
使用して感光性被覆材料を製造する方法、およびこの感
放射線性混合物を使用し、これを常法により事前処理し
た基板上に０．１から５μｍの厚さに施こし、７０から
１３０℃で乾燥し、必要に応じて７０から１６０℃に加
熱し、水性アルカリ液で現像することを特徴とする、レ
リーフ構造を形成することを特徴とする方法に関する。
【００２４】本発明組成物は、特に廉価なノボラック樹
脂を主体とする結合剤と合併して使用され得る点におい
てことに有利である。これによりもたらされるレリーフ
構造は極めて良好な再現性および高解像度を示す。
【００２５】
【発明の構成】以下において本発明による感放射線性混
合物の組成分につきさらに詳細に説明する。
【００２６】（ａ）一般的に必要とされるプラズマエッ
チング安定性にかんがみて、水不溶性、アルカリ可溶性
の結合剤ないし結合剤混合物は、フェノール性ヒドロキ
シル基の２０から７０％、ことに２５から６０％が基（
Ｉ）で置換されているフェノール性樹脂、例えば３００
から２０，０００ｇ／モル、ことに３００から２，００
０ｇ／モルの平均分子量Ｍｗを有するフェノール性樹脂
であるのが好ましく、ことに短波長紫外線（≦３００ｎ
ｍ）に対する露出のため、ｐ−クレゾール／ホルムアル
デヒド、ポリ−ｐ−ヒドロキシスチレン（一般的に２０
０から２００，０００ｇ／モル、ことに１，０００から
４０，０００ｇ／モルの平均分子量Ｍｗを有する）ある
いはポリ−ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンを基礎
とするノボラック樹脂が好ましい。本発明によれば、こ
のポリ−ｐ−ヒドロキシスチレンは、そのヒドロキシル
基と、例えば３，４−ジヒドロピランもしくはジヒドロ
フランとの反応（重合類似反応）により変性され得る。 このようにして得られる、共重合体として理解すべき変
性ポリマー結合剤（ａ）は、本質的に以下の基（ＩＩ）
および（ＩＩＩ）、あるいは（ＩＩ）および（ＶＩ）か
ら成る。
【００２７】
【化１１】 すなわち、ｐ−ヒドロキシスチレンと２−テトラヒドロ
ピラニルオキシスチレンもしくは２−テトラヒドロフラ
ニルオキシスチレンとの共重合体であって、この共重合
体も重合類似反応により製造され得る。
【００２８】また上述した種々の結合剤（ａ）の混合物
を使用することもできる。この結合剤（ａ）は、本発明
混合物中において、すなわち（ａ）＋（ｂ）混合物の全
量に対してことに９０から９７重量％の量で存在する。
【００２９】（ｂ）放射線照射により強酸を形成する化
合物（ｂ）は、原則的にこの特性を有し、従って酸供与
体として作用する化合物であればよい。しかしながら、
短波長紫外線を使用する場合にはイオドニウム塩、こと
にスルホニウム塩を使用することが望ましい。これらは
以下の式（Ｖ）および（ＶＩ）で表わされる。
【００３０】
【化１２】 Ｒα、ＲβおよびＲγは相互に同じでも異なってもよく
、それぞれ１から５個の炭素原子を有するアルキル、こ
とにメチルもしくはエチル、フェニルのようなアリール
、ベンジルのようなアルアルキル、あるいは以下の式（
ＶＩＩ）で表わされる基を意味する。
【００３１】
【化１３】 Ｒδ、ＲεおよびＲζは相互に同じでも異なってもよく
それぞれ水素、ヒドロキシル、塩素もしくは臭素のよう
なハロゲン、１から４個の炭素原子を有するアルキル、
ことにメチルもしくはｔｅｒｔ−ブチル、アセチルもし
くはプロピオニルオキシのようなアシルオキシ、１から
４個の炭素原子を有するアルコキシ、ことにメトキシも
しくはｔｅｒｔ−ブトキシを意味し、
【００３２】
【化１４】 なお上記した種々の化合物（ｂ）の混合物を使用するこ
とも可能である。組成分（ｂ）は本発明混合物中におい
て、混合物（ａ）＋（ｂ）全量に対して１から２０重量
％、ことに３から１０重量％の量で含有される。
【００３３】この本発明組成物はさらに慣用の助剤およ
び添加剤を含有することができる。本発明混合物は有機
溶媒に溶解せしめられ、固体分５から４０重量％とする
のが好ましい。溶媒としては脂肪族、ケトン、エーテル
およびエステルならびにこれらの混合物を使用するのが
有利である。ことに好ましいのは、アルキレングリコー
ルモノアルキルエーテル、例えばエチルセロソルブ、ブ
チルグリコール、メチルセロソルブ、１−メトキシ−２
−プロパノール、アルキレングリコールアルキルエーテ
ルエステル、例えばメチルセロソルブアセタート、エチ
ルソロソルブアセタート、メチルプロピレングリコール
アセタート、エチルプロピレングリコールアセタート、
ケトン、例えばシクロヘキサノン、シクロペンタノン、
メチルエチルケトン、ブチルアセタートのようなアセタ
ート、トルエン、キシレンのような芳香族化合物である
。溶媒あるいは混合溶媒の選択は、ことにフェノール性
モノマー、ノボラックおよび感光性組成分の選択に依存
する。
【００３４】なお接着性強化剤、湿潤剤、染料、可塑剤
のような他の添加剤を１重量％までの量で添加すること
ができる。
【００３５】必要に応じて化合物の長波長紫外線から可
視光線に至る帯域における感受性を高めるために少量の
増感剤を添加することも可能である。多環式芳香族化合
物、例えばピレンおよびペリレンがこの目的のために好
ましいが、増感剤として作用する他の染料を使用するこ
とも可能である。
【００３６】本発明によるレリーフパターンの形成方法
において、本質的に本発明による感放射線性混合物を含
有する感放射線性層は、水性アルカリ液に対する画像形
成露出部分の溶解性が高められ、放射線照射部分がアル
カリ現像液により選択的に洗除されるようなエネルギー
レベルにおいて画像形成露出に附される。
【００３７】本発明による感放射線性混合物の特別の利
点は、極めて良好な構造的特性（極めて鮮鋭な縁辺、鮮
明なパターン）をもたらすことである。
【００３８】本発明による感放射線性混合物を含有する
フォトレジスト溶液は、適当な基板、例えば表面酸化シ
リコンウエーハ上にスピンコーティング法により厚さ０
．１から５μｍ、ことに０．５から１．５μｍとなるよ
うに施こされ、乾燥（例えば７０から１３０℃で）され
、フォトマスクを経て適当な光源による画像形成放射線
照射に服せしめられる。適当な光源は、ことに２００か
ら３００ｎｍの短波長紫外線であり、さらに好ましいの
はＫｒＦ（２４８ｎｍ）のエキシマーレーザである。 画像形成照射に続いて、１５０℃までの短時間加熱を行
ない、あるいは行なうことなく、慣用のｐＨ１２−１４
の水性アルカリ液で現像して照射部分を洗除する。解像
度はサブミクロン領域である。本発明による感放射線性
混合物に必要とされる線エネルギーは、層厚さを１μｍ
として５０から３００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。
【００３９】以下の実施例において本発明をさらに具体
的に説明するが、ここで使用される部および％は特に明
示されない限り重量に関するものである。
【００４０】基（Ｉ）により部分的に置換されたフェノ
ール性ヒドロキシル基を有するフェノール性樹脂（ａ）
は、Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ　　４６（１９６３
）４１５頁に記載された方法に類似した方法で形成され
得る。
【００４１】フェノール性ヒドロキシル基が部分的に２
−テトラヒドロピラニル基で保護されているポリ（ｐ−
ヒドロキシスチレン）は例えば以下のようにして製造さ
れ得る。
【００４２】すなわち、１０部のポリ（ｐ−ヒドロキシ
スチレン）（分子量＝１０，０００）と４部の３，４−
ジヒドロピランを９０部のエチルアセタートに溶解させ
、窒素ガス下に０．１５部の濃塩酸（３６％溶液）を添
加し、溶液のＩＲスペクトルが、ポリ（ｐ−ヒドロキシ
スチレン）と２−テトラヒドロピラニル−４−エチルフ
ェニルエーテルの混合物（割合１：１）の溶液のそれと
合致するまで、室温において撹拌する。これによりフェ
ノール性基の５０％がテトラヒドロピラニル基により保
護される。この生成物を１，５００部のナフサに沈殿さ
れ、吸引濾別し、減圧下５０℃で乾燥する。乾燥後のこ
の生成物のＩＲスペクトルは、ＯＨ基の約５０％がテト
ラヒドロピラニル基により保護されていることを示す。
【００４３】実施例１ 平均分子量Ｍｗ１０，０００のポリ（ｐ−ヒドロキシス
チレン）から上述のようにして製造され、フェノール性
ヒドロキシル基の５０％が２−テトラヒドロピラニル基
で保護された９５部の生成物と、トリフェニルスルホニ
ウムヘキサフルオルアルセナート５部と、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセタート２５０部から成る
フォトレジスト溶液を調製した。
【００４４】この溶液を０．２μｍの孔隙径を有するフ
ィルターで濾過した。
【００４５】このレジスト溶液を、接着性増強剤として
ヘキサメチルジシラザンを塗布したシリコンウエーハ上
に、４０００ｒｐｍで３０秒間スピンコーティング法で
施こし約１μｍ厚さの層を形成した。このウエーハを８
０℃の加熱板上で３分間乾燥し、次いで画像を有するテ
ストマスクと密着させ、エキシマレーザ（λ＝２４８ｎ
ｍ、Ｅ＝３５ｍＷ／ｃｍ２）を照射した。次いでウエー
ハを８０℃で１分間加熱し、ｐＨ１２．０−１３．６の
現像液で処理した。感光度は８０ｍＪ／ｃｍ２であった
。
【００４６】顕著なダーク洗除部分（現像過程における
非露出部分の層の洗除部分）は認められなかった。
【００４７】対比例１ 実施例１における、５０％が２−テトラヒドロピラニル
基により保護されているフェノール性ヒドロキシル基を
有するポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）９５部の代りに
、わずかに１５％が２−テトラヒドロピラニル基により
保護されているフェノール性ヒドロキシ基を有するポリ
（ｐ−ヒドロキシスチレン）９５部を使用する以外は全
く同様の処理を反覆した。この場合の感光度は６５ｍＪ
／ｃｍ２であるが、ダーク洗除部分は約２０％に達し、
到底使用に耐えるものではなかった。
【００４８】対比例２ 実施例１における、５０％が２−テトラヒドロピラニル
基により保護されているフェノール性ヒドロキシル基を
有するポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）９５部の代りに
、８０％が２−テトラヒドロキシピラニルにより保護さ
れているフェノール性ヒドロキシル基を有するポリ（ｐ
−ヒドロキシスチレン）９５部を使用する以外は全く同
様の処理を反覆した。得られたレジストは１００ｍＪ／
ｃｍ２の感光度でポジチブ処理されたが、１５０ｍＪ／
ｃｍ２の感光度でネガチブ作用、すなわち厚い残渣層を
示した。
【００４９】実施例２ 実施例１におけるトリフェニルスルホニウムヘキサフル
オルアルセナート５部の代りにジフェニルイオドニウム
アルセナート５部を使用したほかは全く同様の処理を反
覆した。感光度は２７０ｍＪ／ｃｍ２であった。
【００５０】実施例３ 実施例１におけるトリフェニルスルホニウムヘキサフル
オルアルセナート５部の代りにトリス（４−ヒドロキシ
フェニル）スルホニウムトリファート５部を使用したほ
かは全く同様の処理を反覆した。感光度は９０ｍＪ／ｃ
ｍ２であった。
【００５１】実施例４ 実施例３における８０℃の事後加熱を行わなかったほか
はこれと全く同様の処理を行なった。感光度は１３０ｍ
Ｊ／ｃｍ２であった。
【００５２】実施例５ 実施例３における８０℃の事後加熱の代りにこれを１２
０℃で行なったほかは全く同様の処理を反覆した。感光
度は６０ｍＪ／ｃｍ２であった。
【００５３】実施例６ 実施例３において、５０％が２−テトラヒドロピラニル
基により保護されているフェノール性ヒドロキシル基を
有するポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）９５部を使用し
たのに対し本例では９７部を、またトリス（４−ヒドロ
キシフェニル）スルホニウムトリフラート５部を使用し
たのに対し本例では３部を使用したほかは全く同様の処
理を反覆した。感光度は１００ｍＪ／ｃｍ２であった。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　（ａ）水に不溶性であるがアルカリに
    は可溶性の結合剤または結合剤混合物および（ｂ）放射
    線照射により強酸を形成する化合物を本質的に含有する
    感放射線性混合物であって、組成分（ａ）がフェノール
    樹脂であり、そのフェノール性ヒドロキシル基の２０か
    ら７０％が基（Ｉ） 【化１】 （Ｒ１はアルキル、Ｒ２はアルキル、Ｒ３は水素もしく
    はアルキルを意味し、あるいはＲ１とＲ２は合体して−
    （ＣＨ２）ｍ−を介して環を形成し、このｍは３から６
    の数値を表わす）により置換されていることを特徴とす
    る感放射線性混合物。
  2. 【請求項２】　　請求項（１）による感放射線性混合物
    であって、組成分（ａ）がフェノール樹脂と他のノボラ
    ックとの混合物であることを特徴とする混合物。
  3. 【請求項３】　　請求項（１）による感放射線性混合物
    であって、組成分（ａ）が平均分子量Ｍｗ２００から２
    ００，０００のポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）あるい
    はポリ（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）であっ
    て、そのヒドロキシル基の２０から７０％が上記基（Ｉ
    ）により置換されていることを特徴とする混合物。
  4. 【請求項４】　　請求項（１）から（３）のいずれかに
    よる感放射線性混合物であって、組成分（ａ）が基（Ｉ
    Ｉ）および（ＩＩＩ）、あるいは基（ＩＩ）および（Ｉ
    Ｖ） 【化２】 を有することを特徴とする混合物。
  5. 【請求項５】　　請求項（１）から（４）のいずれかに
    よる感放射線性混合物であって、組成分（ａ）が重合類
    似反応で得られる、ｐ−ヒドロキシスチレンと２−テト
    ラヒドロピラニルオキシスチレンもしくは２−テトラヒ
    ドロフラニルオキシスチレンとの共重合体であることを
    特徴とする混合物。
  6. 【請求項６】　　請求項（１）から（５）のいずれかに
    よる感放射線性混合物であって、組成分（ｂ）が式（Ｖ
    ）もしくは（ＶＩ） 【化３】 （Ｒα、ＲβおよびＲγは相互に同じでも異なってもよ
    くそれぞれ１から３個の炭素原子を有するアルキル、ア
    リール、置換アリールあるいはアルアルキルを、【化４
    】 のスルホニウム塩もしくはヨードニウム塩であることを
    特徴とする混合物。
  7. 【請求項７】　　請求項（６）による感放射線性混合物
    であって、Ｒα、ＲβおよびＲγの少なくとも１個が式
    （ＶＩＩ） 【化５】 （Ｒδ、ＲεおよびＲζは相互に同じでも異なってもよ
    くそれぞれ水素、ヒドロキシル、ハロゲン、あるいはそ
    れぞれ１から４個の炭素原子を有するアルキル、アシル
    オキシもしくはアルコキシを意味する）で表わされる基
    であることを特徴とする混合物。
  8. 【請求項８】　　請求項（１）から（７）のいずれかに
    よる感放射線性混合物であって、組成分（ａ）が８０か
    ら９９重量％、組成分（ｂ）が１から２０重量％の量で
    含有されていることを特徴とする混合物。
  9. 【請求項９】　　請求項（１）から（８）のいずれかに
    よる感放射線性混合物であって、放射線を吸収し、これ
    を組成分（ｂ）にもたらす増感剤を追加的に含有するこ
    とを特徴とする混合物。
  10. 【請求項１０】　　請求項（１）から（９）のいずれか
    による感放射線性混合物であって、１重量％までの接着
    性増強剤、表面活性剤あるいは染料を追加的に含有する
    ことを特徴とする混合物。
  11. 【請求項１１】　　請求項（１）から（１０）のいずれ
    かによる感放射線性混合物を使用することを特徴とする
    感光性被覆材料を製造する方法。
  12. 【請求項１２】　　請求項（１）から（１０）のいずれ
    かによる感放射線性混合物を使用し、これを常法により
    事前処理した基板上に０．１から５μｍの厚さに施こし
    、７０から１３０℃で乾燥し、画像形成露光し、必要に
    応じて７０から１６０℃に加熱し、水性アルカリ液で現
    像することを特徴とする、レリーフ構造を形成する方法
    。
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