JPS5935345A - エツクス線発生装置 - Google Patents
エツクス線発生装置Info
- Publication number
- JPS5935345A JPS5935345A JP57145963A JP14596382A JPS5935345A JP S5935345 A JPS5935345 A JP S5935345A JP 57145963 A JP57145963 A JP 57145963A JP 14596382 A JP14596382 A JP 14596382A JP S5935345 A JPS5935345 A JP S5935345A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- gas
- thin hole
- insulator
- rays
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ）発明の技術分野
本発明は、エックス線発生装置に係り、とくに放電によ
って生成されるプラズマから発生される。
って生成されるプラズマから発生される。
エックス線を利用するプラズマ型のエックス線発生装置
に関する。
に関する。
（ｂ）技術の背景
プラズマ型のエックス線発生装置は、従来から用いられ
ている電子衝撃型のエックス線発生装置に比ベエソクス
線発生効率が１０倍程度高く、高密度集積回路パターン
の露光等に用いるための高効率・高出力エックス線源と
してすぐれており、その実用化が期待されている。
ている電子衝撃型のエックス線発生装置に比ベエソクス
線発生効率が１０倍程度高く、高密度集積回路パターン
の露光等に用いるための高効率・高出力エックス線源と
してすぐれており、その実用化が期待されている。
（Ｃ）従来技術と問題点
プラズマ型エックス線発生装置の方式として、バルブを
用いて細孔から断続的にガスを噴出させ、これに同期し
て高電圧を印加して該ガス中を放電させるものがある。
用いて細孔から断続的にガスを噴出させ、これに同期し
て高電圧を印加して該ガス中を放電させるものがある。
この方式においては、放電にともなう大電流によってプ
ラズマが自己集束する結果、高温・高密度になりエック
ス線を発生するものである。
ラズマが自己集束する結果、高温・高密度になりエック
ス線を発生するものである。
したがって、第１図に示すように前記細孔１の放電空間
露出部分近傍２においては噴出ガス柱３の表面に沿って
形成される高エネルギー・高密度の荷電粒子流４に暴さ
れ、とくに電位勾配が急になる細孔１の終端部分は前記
荷電粒子流４により強い衝撃を受け、次第に損耗し変形
するに到る。
露出部分近傍２においては噴出ガス柱３の表面に沿って
形成される高エネルギー・高密度の荷電粒子流４に暴さ
れ、とくに電位勾配が急になる細孔１の終端部分は前記
荷電粒子流４により強い衝撃を受け、次第に損耗し変形
するに到る。
その結果、細孔１からの噴出ガス柱３の噴出角度が拡が
り、放電によって生ずるプラズマの自己集束が不完全に
なり、エックス線発生効率が低下する。すなわち、エッ
クス線源としての寿命が短いという欠点があった。
り、放電によって生ずるプラズマの自己集束が不完全に
なり、エックス線発生効率が低下する。すなわち、エッ
クス線源としての寿命が短いという欠点があった。
（ｄ）発明の目的
本発明は、長期間にわたって出力の安定したプラズマ型
エックス線発生装置を提供することを目的とする。
エックス線発生装置を提供することを目的とする。
（ｅ）発明の構成
本発明は、細孔から噴出するプラズマ用ガスを放電させ
て工・ノクス線を発生させるエックス線発生装置におい
て、前記細孔の放電空間露出部分近傍を絶縁物で形成し
たことを特徴とする。
て工・ノクス線を発生させるエックス線発生装置におい
て、前記細孔の放電空間露出部分近傍を絶縁物で形成し
たことを特徴とする。
（「）発明の実施例
以下本発明の実施例を図面を参照して説明する。
以下の図面において第１図と同しものには同一符号を付
しである。
しである。
第２図において、放電ガスを噴出する放電電極５に設番
ノられている細孔１の放電空間露出部分近傍は例えばア
ルミナのような高融点絶縁物６により形成されている。
ノられている細孔１の放電空間露出部分近傍は例えばア
ルミナのような高融点絶縁物６により形成されている。
いま、ガス導入孔７より放電ガスとして例えばクリプト
ンを流入し、スイッチ８をオン−オフさせてソレノイド
コイル９を励磁し、これにより弁１０を例えば数１０μ
ｓｅｃの時間内で開閉し、前記放電ガスを放電室１１内
に噴出させる。
ンを流入し、スイッチ８をオン−オフさせてソレノイド
コイル９を励磁し、これにより弁１０を例えば数１０μ
ｓｅｃの時間内で開閉し、前記放電ガスを放電室１１内
に噴出させる。
上記において、スイッチ■２を前記弁ＩＯの開閉と同期
してオン−オフさ−Ｕ高圧電源１３によって充電された
コンデンサー１４を瞬間的に放電させると放電室１１に
噴出された前記放電ガスが放電し、これは前記のように
自己集束してプラズマ柱１５を生成し該プラズマ柱１５
からエックス線が発生される。
してオン−オフさ−Ｕ高圧電源１３によって充電された
コンデンサー１４を瞬間的に放電させると放電室１１に
噴出された前記放電ガスが放電し、これは前記のように
自己集束してプラズマ柱１５を生成し該プラズマ柱１５
からエックス線が発生される。
このエックス線を真空室１６に設ｋＪられているエック
ス線取出し窓１７から取出し、露光等に用いる。
ス線取出し窓１７から取出し、露光等に用いる。
なお、同図において１８は前記弁１０を閉じるようＧこ
復帰させるためのばね、１９は前記プラズマ柱１５から
発生されたエックス線の吸収損失を小さくするために前
記真空室１６内の中性ガスを高速排気するための排気孔
、２０ば前記放電電極５との間に放電を起させるための
対向放電電極、２１は前記放電電極５と前記放電室１１
の側壁とを絶縁するための絶縁性側壁である。
復帰させるためのばね、１９は前記プラズマ柱１５から
発生されたエックス線の吸収損失を小さくするために前
記真空室１６内の中性ガスを高速排気するための排気孔
、２０ば前記放電電極５との間に放電を起させるための
対向放電電極、２１は前記放電電極５と前記放電室１１
の側壁とを絶縁するための絶縁性側壁である。
第３図は前記細孔１の放電空間露出部分近傍を絶縁物６
で形成し７た本発明の主要構成部分の拡大図であって、
本発明によれば前記細孔ｌより噴出された噴出ガス柱３
の表面を流れる荷電粒子ｍ４１は、前記絶縁物６を避け
て曲げられ、細孔ｌの端部を直接衝撃することが防止さ
れる。
で形成し７た本発明の主要構成部分の拡大図であって、
本発明によれば前記細孔ｌより噴出された噴出ガス柱３
の表面を流れる荷電粒子ｍ４１は、前記絶縁物６を避け
て曲げられ、細孔ｌの端部を直接衝撃することが防止さ
れる。
このために、前記のような損傷による細孔１の端部の変
形がなくなり、前記噴出ガス柱３の形状が長期間にわた
って安定に保たれる。
形がなくなり、前記噴出ガス柱３の形状が長期間にわた
って安定に保たれる。
（ｇ）発明の９Ｊｓ果
本発明によれば、プラズマ型のエックス線発生装置にお
いて、長期間の動作におりる工・ノクス綿発生効率が安
定化される効果がある。
いて、長期間の動作におりる工・ノクス綿発生効率が安
定化される効果がある。
第１図は細孔の噴出ガスの放電によって生成されるプラ
ズマからエックス線を発生させる場合における該細孔近
傍の状態を模式的に示す図、第２図は細孔の近傍を絶縁
物で構成した本発明に係るエックス線発生装置の概要を
示す図、第３図は第２図における細孔近傍の状態を示す
図である。 図において、■は細孔、２は放電空間露出部分近傍、３
は噴出ガス柱、４および４１は荷電粒子流、５ば放電電
極、６ば絶縁物、７はガス導入孔、８および１２はスイ
ッチ、９はソレノイドコイル、ｌＯば弁、１１は放電室
、１３は高圧電源、１４はコンデンサー、１５はプラズ
マ柱、１６は排気室、１７は］エックス線取出し窓、１
８ばばね、１９ば排気孔、２０は対向放電電極、２１は
絶縁性側壁、２２は充電抵抗である。 ＩＱ当丈
ズマからエックス線を発生させる場合における該細孔近
傍の状態を模式的に示す図、第２図は細孔の近傍を絶縁
物で構成した本発明に係るエックス線発生装置の概要を
示す図、第３図は第２図における細孔近傍の状態を示す
図である。 図において、■は細孔、２は放電空間露出部分近傍、３
は噴出ガス柱、４および４１は荷電粒子流、５ば放電電
極、６ば絶縁物、７はガス導入孔、８および１２はスイ
ッチ、９はソレノイドコイル、ｌＯば弁、１１は放電室
、１３は高圧電源、１４はコンデンサー、１５はプラズ
マ柱、１６は排気室、１７は］エックス線取出し窓、１
８ばばね、１９ば排気孔、２０は対向放電電極、２１は
絶縁性側壁、２２は充電抵抗である。 ＩＱ当丈
Claims (1)
- 細孔から噴出するプラズマ用ガスを放電させてエックス
線を発生させるエックス線発生装置において、前記細孔
の放電空間露出部分近傍を絶縁物で形成したことを特徴
とするエックス線発生装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57145963A JPS5935345A (ja) | 1982-08-23 | 1982-08-23 | エツクス線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57145963A JPS5935345A (ja) | 1982-08-23 | 1982-08-23 | エツクス線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5935345A true JPS5935345A (ja) | 1984-02-27 |
Family
ID=15397058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57145963A Pending JPS5935345A (ja) | 1982-08-23 | 1982-08-23 | エツクス線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5935345A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106104745A (zh) * | 2014-03-05 | 2016-11-09 | 昂达博思有限公司 | X射线发生器 |
-
1982
- 1982-08-23 JP JP57145963A patent/JPS5935345A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106104745A (zh) * | 2014-03-05 | 2016-11-09 | 昂达博思有限公司 | X射线发生器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0372184B2 (ja) | ||
| JP2011082473A (ja) | 極端紫外光源装置 | |
| US3746860A (en) | Soft x-ray generator assisted by laser | |
| JPH03501074A (ja) | 電磁放射発生装置および高電流電子銃 | |
| JPS61200695A (ja) | 軟ｘ線を発生する装置 | |
| JP2509488B2 (ja) | 高速原子線源 | |
| KR100307070B1 (ko) | 고속원자빔공급원 | |
| JP2564390B2 (ja) | 真空スイツチ | |
| JPS5935345A (ja) | エツクス線発生装置 | |
| Goebel | Cold‐cathode, pulsed‐power plasma discharge switch | |
| JPH01243349A (ja) | プラズマ極端紫外光発生装置 | |
| US2843732A (en) | Millimeter wave generator | |
| JP2657909B2 (ja) | 気体放電閉路スイッチ | |
| JPS63221547A (ja) | イオン中和器 | |
| Belchenko et al. | Surface‐plasma sources with an intense cathode and anode productions of negative ions | |
| JPH03201399A (ja) | Ｘ線発生方法 | |
| JPS63211598A (ja) | プラズマｘ線発生装置 | |
| Prelec | Progress in the development of high current, steady state H-/D-sources at BNL | |
| JP3103181B2 (ja) | 高速原子線源 | |
| JPH09223594A (ja) | ビーム源及び微細加工方法 | |
| JPS63136448A (ja) | Ｘ線発生装置 | |
| JPH01132099A (ja) | Ｘ線発生装置 | |
| JP2671219B2 (ja) | 高速原子線源 | |
| Jiang et al. | Multiple pulsed ion and electron beams produced by the multiplate chamber | |
| Bel’chenko et al. | Pulsed multiampere source of negative hydrogen ions |