JPS5934531A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

ハロゲン化銀写真感光材料

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JPS5934531A
JPS5934531A JP14483382A JP14483382A JPS5934531A JP S5934531 A JPS5934531 A JP S5934531A JP 14483382 A JP14483382 A JP 14483382A JP 14483382 A JP14483382 A JP 14483382A JP S5934531 A JPS5934531 A JP S5934531A
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町田 勝利
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晴彦 佐久間
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/06Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
    • G03C1/34Fog-inhibitors; Stabilisers; Agents inhibiting latent image regression

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、画質の劣化が少なく、安定した写真特性を得
られるようにし九ノ・ログン化銀写真感光材料に関する
。はらに詳しくは、ノーロゲン化銀写真感光材料に対し
て極めて有効な特性を与えるポリアルキレンオキサイド
系化合物を必要かつ充分に用いても、写真画像の画質の
劣化を抑制することができるハロゲン化銀写真感光材料
に関する。
近時、ハロゲン化銀写真感光材料の性能に関しては、ま
すます複雑多岐に亘る要求がなされており、特に写真性
能が安定した高感度乃至超高感度のハロゲン化銀写真感
光材料が要求されている。
特に、X線用感光材料に於ては人体に対するX線の被爆
量を少なくするため、よシ少ないX線量で多くの情報が
得られるような高感度であって、カプリの発生が少なく
、シかも高画質の写真感光材料が要求されている。
従来、ハロゲン化銀写真感光材料の感度を高める一つの
方法として、例えば、ザ・セオリー・オブ・ザφホトダ
ラフイク鴫プロセス(The Theoryof th
e photographic procasa)、(
1967)。
第3版、第369〜370頁に記載されているように、
ポリアルキレンオキサイド(特にポリエチレンオキサイ
ド)系化合物をノ・ログン化銀写真感光材料中に含有せ
しめることが知られている。また感光材料の静電気にも
とすく故障(例えば、ス 。
タテツクマークの発生、吸塵作用など)を防止する目的
から帯電防止剤の使用がなされているが、斯かる目的に
対してもポリアルキレンオキサイド系化合物が極めて有
効であることも数多く報告されている。さらに感光材料
を構成する感光層、保護層などの塗膜の均一な塗布性を
得る目的からも、ポリアルキレンオギサイド系界向活性
剤の使用が数多く報告されている。
このようにポリアルキレンオキサイド系化合物はハロゲ
ン化銀写真感光材料に対して、極めて有効な特性を与え
る化合物であるが、その使用にあたっては、大きな制約
がある。即ち、一定の限界を越えた量を用いると、写真
画像の画質を劣化する性質を有しておシ、写真特性を著
しく悪化せしめることである。特に、X線用感光材側な
どは、迅速処理の要請の下、画像形成処理において高い
pH値で30〜40℃の高い温度で20秒〜50秒間の
短時間現像処理が行なわれることから、1すまず写真画
像の画質の劣化をきたす結果となっている。
この点、ハロゲン化銀写真感光材料の画像形成の為の高
温迅速現像処理などの苛酷な条件に耐えうる方法に関し
ては、従来より数多くの報告がな式れている。このよう
な高温迅速現像処理に耐えうる高画質のハロゲン化銀写
真感光材料を得る為の代表的な方法としては、写真感光
材料のゼラチン(バインダー)を硬化させる「硬膜剤」
を使用する方法が知られている。例えばクロム明ばんの
ような無機化合物や、ホルムアルデヒド、グルタルアル
デヒドのようなアルデヒド化合物、米国特許第3,28
8,755号明細書などに記載されている如き活性ハロ
ゲンを有する化合物、米国特許第3.635.718号
明細書などに記載されている如き反応性のエチレン性不
飽和結合をもつ化合物、米国特許第3091,537号
明細書に記載されている如きエポキシ化合物、ムコクロ
ル酸のようなハロゲンカルボキシアルデヒド等の有機化
合物が知られている。
しかし、このような硬膜剤はノ)ロゲン化銀写真感光材
料の高塩迅速現像処理に耐えるのに充分な程に添加量を
増すと /%ロゲン化銀写真感光材料の性質に悪影響(
例えば、カブリの増大、感度の低下、階調の変化、最高
濃度の低下等)をおよぼしたす、「後硬膜」と称する硬
化作用の長期経時変化をひきおこしたシするなどの欠点
を持っている。
また、他の方法としては、ハロゲン化銀写真感光材料の
銀量に対するゼラチン(バインダー)の量を多くする方
法が知られているが、この方法は感度の低下をおこした
シ、現像、定着、水洗等の処理性の低下をおこしたりす
る欠点を持っている。
そこで、ポリアルキレンオキサイド系化合物を必要かつ
充分に用いても、高温迅速現像処理に耐えうる、高画質
のハロゲン化銀写真感光材料を得る為の技術の出現が強
く要望されているのが現状である。
本発明の第1の目的は、ノ・ロゲン化銀写真感光材料に
対して極めて有効な特性を与えるポリアルキレンオキサ
イド系化合物を必要かつ充分に用いても、写真画像の画
質の劣化を抑制することができるハロゲン化銀写真感光
材料を提供することである。
本発明の第2の目的は、ポリアルキレンオキサイド系化
合物を含有するハロゲン化銀写真乳剤を用いたハロゲン
化銀写真感光材料に於て、写真画像の画質の劣化を抑制
する添加剤を該感光材料の構成要素中に含有せしめたハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
本発明の第3の目的は、迅速処理の要請の下、高pHs
高渥度で迅速現像処理しても、写真画像の画質の劣化を
抑制することができる高画質のハロゲン化銀写真感光材
料を提供することである。
本発明の上記目的は、ハロゲン化銀感光材料の構成要素
中に、分子量250以上のアルキレ/オキサイド鎖を有
するポリアルキレンダリコールおよびアルキレンオキサ
イドと活性水素を有する有様化合物との縮合生成物から
選ばれた化合物(以下、ポリアルキレンオキサイド°系
化合物という。
)の少なくとも1つと、下記一般式[r]で示される化
合物とを組み合わせて含有せしめることに 。
よって達成される。
一般式[T3 式中、Rは、各々置換基を有してもよい脂肪族基、芳香
族基または複素環残基を表わし、nはO又は1の整数を
表わし、Aは−CO−又は−802−を表わす。
上記Rによって表わされる脂肪族基としては、好1しく
け分岐状、環状、直鎖状を含む、それぞれ炭素原子数1
〜18のアルキル基(例えばメチル基、n−ブチル基、
n−ドデシル基)、アルケニル基(例えばアリル基、ブ
チニル基、オクテニル基)、シクロアルキル基(例えば
シクロペンチル基、シクロヘキシル基)が挙げられる。
該脂肪族基には置換基(置換原子を含む、以下同じ。)
1以上を有する脂肪族基も含まれる。これら置換基とし
ては、例えばアルコキシ基、アリール基、アリールオキ
シ基、アミン基、ジアルキルアミノ基、ヘテロ′gl(
例えば、N−モルホリノ基、N−ビイリジノ基)、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、
スルホ基、アルコキシカルボニル基等が代表的なものと
して挙げられる。
上記Rにより表わされる芳香族基としては、好捷しくは
フェニル基、ナフチル基が挙げられる。
該芳香族基には、置換基を1以上有する芳香族基も含ま
れる。これら置換基としては、例えばアルキル基、アル
コキシ基、水酸基、ハロゲン原子、アシルアミノ基、ア
ルコキシカルボニル基、スクシンイミド基、カルバモイ
ル基、ニトロ基等が代表的なものとして挙げられる また、Rによシ表わされる複素環残基としては、好まし
くは窒素原子、酸素源子、硫黄原子のうち少なくとも1
個を有する5員または6員の複素環残基(例えばピロリ
ル基、ピロロニル基、ピリジル基、チアゾリル基、モル
ホリノ基、7ラニル基など)が挙げられる。該複素環残
基には置換基を有してもよく、これら置換基としては、
上記脂肪族基および芳香族基のところで挙げた置換基の
中から、任意に選択することができる。
本発明はポリアルキレンオキサイド系化合物の少なくと
も1つと上記一般式〔1〕で示される化合物の少なくと
も1つとをハロゲン化銀写真感光材料の構成要素中に組
み合わせて、含有せしめることを特徴とするが、これら
の化合物を組み合わせ含有せしめる態様は、少なくとも
1つの構成要素層中にそれぞれ少なくとも1つずつ含有
せしめても良いし、これら少なくとも2つの化合物を支
持体上ハロゲン化銀乳剤層と同一側にある2つ以上の異
なる構成要素層中に別々に含有せしめても、前述の本発
明の目的を達成することができる。本発明の好ましい実
施態様は、上記一般式[[]で示される化合物(以下、
化合物[A]といる)をハロゲン化銀乳剤層中に添加し
、ポリアルキレンオキサイド系化合物を該乳剤層および
/または非感光性層中に含有することである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明に用いることのできるポリアルキレンオキサイド
系化合物としてはfilt、のものがあげられるカ、例
工ばポリアルキレングリコール類、脂肪族アルコール類
、脂肪族アミン類または脂肪族アミド類とポリアルキレ
ンオキサイドとの縮合生成物、フェノール類とポリアル
キレンオキサイドとの縮合生成物、ポリアルキレンオキ
サイドとへキシトール項脱水化物との組合物、ポリアル
キレンオキサイドと7エノールホルマリン樹脂との付加
重合物などで、ポリアルキレンオキサイド鎖ノ全分子量
が少なくとも平均250以上有するものであればよく、
好ましくは500〜4,000の平均分子量であシ、そ
れ以上の分子量を有するときでも本発明は適用できる。
本発明に用いることのできるこれらのポリアルキレンオ
キサイド系化合物としては、例えば特公昭43−138
22号、同47−8742号、同47−11116号、
同40−378号等の各公報或は特開餡48−1921
3号、同49−10722号、同49−74929号、
同49−13072号、同50−57427号、同51
−3219号等の各公報、まだは米国特許第2,240
,472号、同第1.970.573号、同第2.40
0,532号、同第2.42人549号、同第2.44
1,389号、同第3,017,271号、同第3,0
62,647号、同第2,312,553号、同第3,
026,202号、英国特許第805.826号などの
各明細書に記載の方法によシ得られる化合物が挙げられ
る。その代表的具体例としては下記に列挙する化合物が
含まれる(ただし、括弧内はエチレンオキサイド鎖の平
均分子量を示す。)。
[E−1]  ポリエチレングリコール(400)[E
−23ポリエチレングリコール(1,500)[E−3
]  ポリエチレンオキサイドとポリプロピレンオキサ
イドとのブロック縮合 物(3,000) [E−4,1ポリエチレンオキサイドとパラターシャル
ブチルフェノールとの縮合物 (1,350) 11−5〕 ポリ:x−’J−レンオキサイドと7二−
ルフエノールホルマリン樹脂との伺加 重合物(500) [E−6)  ポリエチレンオキサイドとp−チオクレ
ゾールとの縮合物(1,500) CE−73ポリエチレンオキサイドとポリプロピレンオ
キサイドとの重合物にn− ブチルメルカプタン1モルを付加し た伺加重合物(1,00(1) [E−83ポリエチレンオキサイドとラウリルアルコー
ルとの縮合物(1,,250)CE−9〕 ポリエチレ
ンオキサイドとβ−エチルチオエチルインシアネートと
の付 加物(600) [E−103N−ラウリル−N、N−ジポリオキシエチ
レンーN−力ルボキシメチルー ベタイン(i、ooo) (B−111N−トリデシルアミドとポリエチレンオキ
サイドの縮合物(350) [K−12] ポリエチレンオキサイドとオクチルフェ
ノールホルマリン樹脂との付加 物(SOO) [:E−13,]  ポポリエチレンオキサイドm−ク
レゾールとの縮合物(500) [E−14E  ポリエチレンオキサイドとポリグリシ
トールの)ニールフェノールホル マリン樹脂とによる付加重合物(SOO)[E−15]
  ジーを一オグチルフェノールとポリエチレンオキサ
イドとの付加物のス ルホ/酸ソーダ塩(650) 本発明に用いられるポリアルキレンオキサイド系化合物
の使用量は、用いられるハロゲン化銀乳剤の種類、感光
材料の種類等によって異なり一律ではないが、塗布液1
を当り0.1〜20gの範囲で使用することが望ましい
次に本発明に用いられる化合物〔A〕について説明する
。本発明に用いられる化合物[A]の代表的な具体例を
以下に挙げるが、本発明の化合物〔A)はこれらに限定
されるものではない。
〔例示化合物〕
−15− 一 16一 本発明の化合物[A 、1の添加量は、ハロゲン化銀1
モル当り0.1η〜1000qの範囲が好ましく、特に
、1η〜10011vが望ましい。0.11Nj未満で
は添加効果がなく、100011vを越える量では飽和
して、増量添加の効果が顕著でない。本発明の化合物[
A]は、通常、水またはメタノール等の溶剤に0.1〜
1優になる様に溶解して用いられる。添加時期は写真感
光材料の製造工程の塗布、乾燥工程以前ならば任意の工
程で添加しうる。また添加場所は感光材料構成層のいず
れであってもよいが、ハロゲン化銀乳剤層が%に好まし
い。該乳剤層以外の中間層、保護層及び下引層に添加し
ても元弁な添加効果が誌められる。
本発明の化合物[A]は、例えば、ジャーナルφオプ・
ザ・ケミカル・ンサエティ(Journalof th
e Chemical 5oci@ty) 、 195
1年、2123〜2125頁、ジャーナル・オプ会ザ睡
オルガニックeケミストリー(Journal of 
th@OrganicChemistry) 27巻、
3140頁(1962年)に記載の方法によシ、容易に
合成はれつるものであり、壕だ一般市場より購入するこ
とも可能である。
本発明に係る写真感光材料を構成するハロゲン化銀写真
乳剤に適用できるハロゲン化銀としては塩化銀、臭化銀
、沃化銀、塩臭化銀、臭沃化銀、塩沃臭化銀及びこれら
の混合物であり、沃臭化銀が最も望ましい。
本発明に用いるバインダー即ち親水性コロイドとしては
、ゼラチンが最も望ましいが、その他必要に応じて誘導
ゼラチン、コロイド状アルブミン、寒天、アラビアゴム
、アルギン酸、セルロース誘導体、アクリルアミド、イ
ミド化ポリアクリルアミド、カセイン、ビニルアルコー
ルポリマー、ポリビニルアルコール、ポリヒニルビロリ
ドン、加水分解ポリビニルアセテート等のポリマーと併
用することができる。
本発明に用いられるハロゲン化銀写真乳剤は各種の公知
の化学増感剤、カプリ防止剤、分光増感剤、硬調化剤、
ゼラチン硬膜剤、界面活性剤、膜物性改良剤、増粘剤、
網点向上剤等の添加剤を含有することができる。前記種
々の添加剤を挙げると、化学増感剤としては、例えば、
活性ゼラチン、水溶性金塩、水溶性白金塩、水溶性パラ
ジウム塩、水溶性ロジウム塩、水溶性イリジウム塩等の
油金属増感剤;備黄増感剤;セレン増感剤;ポリアミン
、塩化第1錫等の還元増感剤等の化学増感剤等によシ単
独にあるいは併用して化学増感することができる。
分光増感剤には特に制限はなく、例えばゼロメチ7色素
、モノメチン色素、ジメチン色素、トリメテン色素等の
シアニン色素あるいはメロシアニア色素等の分光増感剤
を単独あるいは併用して光学的に増感することができる
これらの技術については米国特許第2,688,545
号、同第2,912.329号、同第3,397,06
0号、同第式615,635号、同第3,628,96
4 号明Miiz英国特許第1,195.302号、同
第1,242,588号、同第1.29人862−Q明
却1書、西独特許(OLS)第2.030,326号、
同第2,121,780号明細書、特公昭43−493
6号、同44−14030号公報等にも記載されている
。その選択は増感すべき波長域、感度等、感光材料の目
的、用途に応じて任意に定めることが可能である。
本発明に用いられる乳剤は、他の添加剤を含むことがで
きる。例えばアザインテン類、トリアゾール類、テトラ
ゾール類、イミダゾリウム塩、テトラゾリウム塩、ポリ
ヒドロキシ化合物等の安定剤やカブリ防止剤;アルデヒ
ド゛系、アジリジン系、イノオキサゾール系、ビニルス
ルホン系、アクリロイル系、アルボジイミド系、マレイ
ミド系、メタンスルホン酸エステル系、トリアジン系等
の硬膜剤:ベンジルアルコール等の現像促進剤:クロマ
ン系、クラマン系、ビスフェノール系、亜リン酸エステ
ル系の画像安定剤;ワックス、高級脂肪酸のダリセライ
ド、高級脂肪酸の高級アルコールエステル等の@滑剤等
がある。また、界面活性剤として塗布助剤、処理液等に
対する浸透性の改良剤、消泡剤あるいは感光材料の種々
の物理的性質のコントロールのだめの累材として、アニ
オン型、カチオン型、非イオン型ちるいは両性の各種の
ものが使用できる。帯電防止剤としてはジアセチルセル
ローズ、スチレンパーフルオロアルキルリジウムマレエ
ート共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体とp
−アミンベンゼンスルボン酸トの反応物のアルカリ塩等
が有効である。また膜物性を向上するために添加するラ
テックスとしてはアクリル酸エステル、ビニルエステル
等と他のエチレン基を持つ単量体との共重合体を挙げる
ことができる。ゼラチン可塑剤としてはグリセリン、グ
リコール系化合物等を挙げることができ、増粘剤として
はスチレ7−マレイン酸ソーダ共重合体、アルキルビニ
ルエーテル−マレイアe共M、合体’4?が挙げられる
本発明に係るハログア化銀写真感光材料は、ハロゲン化
銀写真乳剤を、必要にょシ下引層、中間層等を介し、バ
ライタ紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙
、ガラス紙、セルロースアセテート、セルロースナイト
レート、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、たと
えばポリエテレンテレ7タレート等のポリエステルフィ
ルム、ポリスチレン等の支持体上に公知の方法によシ塗
布して構成される。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、白黒写真感
光材料、カラー写真制科のいずれでもよく、また一般用
、印刷用、xg用、放射線用等の種々の用途に供でれる
が、特に高感度沃臭化銀写真感光材料として顕著な効果
を発揮する。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は通常の露光の
ほか短時間乃至閃光露光されてもよく、通常の方法で写
真処理ができる。基本的な写真処理工程は現像工程と定
着工程であシ、との2つの工程は同時に行なってもよい
以下実施例によシ本発明を例証するが、これによって本
発明の実施の態様がこれらに限定されることはない。
実施例−1 乳剤I Kf中に沃臭化銀(3,5モル優沃化銀含有)
を40g1ゼラチンを45g含有し、硫黄増感および金
増感を行った高感度ネガ用乳剤を40℃に加熱はせた後
、20に分割し、第1表に示した化合物を同表に示した
量だけ添加し、膜厚が4μになるようにセルローストリ
アセテートフィルムベース上に塗布、乾燥した。
このようにして得られた各試料をJIS法に基きKS−
1型センシトメーター(小西六写貞工業株式会社製)に
よυ白色露光を与えたのち、現像、定着、水洗及び乾燥
を一貫して行なうことができる連続ローラー搬送式自動
現像機にて処理した。
尚、使用した現像gは下記の通りである。
現像液処方(現像時間:35℃、30秒)このようにし
て得られた各試料についてセンシトメ) IJ−を行い
、得られた写真特性を第1表に示した。、なお表中に示
す感度は、比較試料(K相番号−1)の感度を100と
する相対感度値である。
父、第1表に示した画質性Fi、Iii度0.8におけ
る現像銀粒子の荒れ具合を目視判定したものである。
即ち、○は良好、Δは普通、×祉使用に耐えない程悪い
事を示したものであシ、これらの記号を2つ併記したも
のは各記号の中間評価を示す。
以下余白 −25−−21− 第1表から明らかな如く、ポリアルキレンオキサイド系
化合物による画質の劣化は化合物[A]によって効果的
に改良されている事が判る。
実施例−2 2モル優の沃化銀を含有するX線用沃臭化銀ゼラチン乳
剤に第2熟成終了後、塗布助剤としてサポニンを添加し
た後、20に分割し、第2表に示した化合物を同表に示
した量だけ添加し、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムベース上Ki燥[厚が5μになるよう塗布した。この
様にして得られた各試料を管電圧60 KVp、管電流
200 mAで中程度の感度を有するX線用螢光増感紙
(東京芝浦電気株式会社製)およびアルミニウム製階段
ウェッジを通してX線センシトメトリーを行った。
これらの各試料について実権例−1と同様な現像処理を
行ない、得られたカプリ、感度および最高濃度の測定結
果を第2表に示した。又、実姉例−1と同様な方法で画
質性を評価した。その結果を第2表に示した。
一27−−220− 26− * 但し、[H−11,r:H−23,[H−3]は硬
膜剤で、それぞれ(cuo)2゜ [B−1〕、[B−2,:]は抑制剤で、それの化合物
を示す。
第2表から明らかなように1本発明の試別はカプリ、感
度及び画質が良好である事が判る。
特許出願人  小西六写真工業株式会社28−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 分子量250以上のアルキレンオキサイド鎖ヲ有するポ
    リアルキレンダリコール及びアルキレンオキサイドと活
    性水素を有する有機化合物との縮合生成物から選ばれた
    化合物の少なくとも1つと、下記一般式〔■〕で示され
    る化合物とを組み合せて含有することを特徴とするハロ
    ゲン化銀写真感光材料。 一般式〔I〕 〔式中、Rは各々置換基を有してもよい脂肪族基、芳香
    族基または複素環残基を表わし、Aは−CO−または一
    5o2−を表わし、nはOまたは1を表わす。〕
JP14483382A 1982-08-23 1982-08-23 ハロゲン化銀写真感光材料 Granted JPS5934531A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH02280325A (ja) * 1989-04-21 1990-11-16 Nec Corp 半導体装置の製造方法
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