JPS5932177B2 - ガス処理装置 - Google Patents
ガス処理装置Info
- Publication number
- JPS5932177B2 JPS5932177B2 JP52013932A JP1393277A JPS5932177B2 JP S5932177 B2 JPS5932177 B2 JP S5932177B2 JP 52013932 A JP52013932 A JP 52013932A JP 1393277 A JP1393277 A JP 1393277A JP S5932177 B2 JPS5932177 B2 JP S5932177B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- solid particles
- treated
- packed bed
- adsorbent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は竪型充填層を用いて間欠移動床方式により被処
理ガス中に含まれる窒素酸化物および硫黄酸化物等望ま
しくない成分を固体粒状触媒または吸着剤（以下固体粒
子と称する）により除去する新規なガス処理装置に関す
るものである。
理ガス中に含まれる窒素酸化物および硫黄酸化物等望ま
しくない成分を固体粒状触媒または吸着剤（以下固体粒
子と称する）により除去する新規なガス処理装置に関す
るものである。
更に詳しくは本発明はボイラー排ガスのごとき被処理ガ
ス中に含まれる窒素酸化物や硫黄酸化物を固体粒子によ
って除去する際、該ガスに含有するダストによる圧損の
増加や閉塞現象あるいは固体粒子の表面被覆による性能
低下を防止するため一側面から被処理ガスを導入し、他
側面から排出される竪型充填層のガス入口接触面および
ガス出口接触面が鉛直面に対して入口ダクト側に同じ方
向に５°〜４５°傾斜しており、かつ固体粒子の重力落
差による移動方向に沿う様に、固体粒子の粒径より太き
（、固体粒子がそれぞれ重力落差による自重作用によっ
て架橋現象を生ずる最大距離以下の間隔をおいて、被処
理ガスが導入される側面及びガスが排出される側面に並
列される多数のルーバーよりなるガス処理装置を提供す
るものである。
ス中に含まれる窒素酸化物や硫黄酸化物を固体粒子によ
って除去する際、該ガスに含有するダストによる圧損の
増加や閉塞現象あるいは固体粒子の表面被覆による性能
低下を防止するため一側面から被処理ガスを導入し、他
側面から排出される竪型充填層のガス入口接触面および
ガス出口接触面が鉛直面に対して入口ダクト側に同じ方
向に５°〜４５°傾斜しており、かつ固体粒子の重力落
差による移動方向に沿う様に、固体粒子の粒径より太き
（、固体粒子がそれぞれ重力落差による自重作用によっ
て架橋現象を生ずる最大距離以下の間隔をおいて、被処
理ガスが導入される側面及びガスが排出される側面に並
列される多数のルーバーよりなるガス処理装置を提供す
るものである。
被処理ガス中にダクトを含有する場合は、固体粒子の粒
度、粒子形状、およびダストの含有濃度付着性、凝縮性
などにより異なるが、しばしば単純な固体床式ガス処理
装置では、長期運転において圧力損失の増加が目立ちつ
いには閉塞現象を生じる恐れがあるために、固体粒子充
填層を移動床方式として、ダストによる影響を軽減する
ことが行なわれている。
度、粒子形状、およびダストの含有濃度付着性、凝縮性
などにより異なるが、しばしば単純な固体床式ガス処理
装置では、長期運転において圧力損失の増加が目立ちつ
いには閉塞現象を生じる恐れがあるために、固体粒子充
填層を移動床方式として、ダストによる影響を軽減する
ことが行なわれている。
固体粒子充填層において目的とするガス成分の除去が行
なわれるが、ガス処理時間の経過と共に充填層の圧力損
失が増加して（る。
なわれるが、ガス処理時間の経過と共に充填層の圧力損
失が増加して（る。
圧力損失の増加が規定値に到達すれば、充填層から固体
粒子の一部を抜き出すことにより、固体粒子に付着して
いたダストは固体粒子と共にガス処理装置本体外に排出
され、充填層の圧力損失は低減化出来るが従来のガス処
理装置では充填層のガス入口接触面および出口接触面が
金網または格子によって形成されているか、もしくは固
体粒子の移動方向と交わる様に多数のルーパーを配した
構造となっている。
粒子の一部を抜き出すことにより、固体粒子に付着して
いたダストは固体粒子と共にガス処理装置本体外に排出
され、充填層の圧力損失は低減化出来るが従来のガス処
理装置では充填層のガス入口接触面および出口接触面が
金網または格子によって形成されているか、もしくは固
体粒子の移動方向と交わる様に多数のルーパーを配した
構造となっている。
前者の装置では金網または格子のメツシュ内にダストが
堆積した場合は、固体粒子ない（ら移動してもダストは
除去されず、圧力損失の低減化は出来ない。
堆積した場合は、固体粒子ない（ら移動してもダストは
除去されず、圧力損失の低減化は出来ない。
固体粒子を下部から抜き出した後者の装置では堆積ダス
ト量が最も多く、固体粒子の移動が最も必要であるべき
、ガス入口接触面のルーパーに保持された個所の移動が
ほとんどなされないために圧力損失が増加した際に固体
粒子を充填層から抜き出しても、ガス入口接触面近傍の
固体粒子の更新は行なわれず、圧力損失の低減化は行な
われないのである。
ト量が最も多く、固体粒子の移動が最も必要であるべき
、ガス入口接触面のルーパーに保持された個所の移動が
ほとんどなされないために圧力損失が増加した際に固体
粒子を充填層から抜き出しても、ガス入口接触面近傍の
固体粒子の更新は行なわれず、圧力損失の低減化は行な
われないのである。
以上説明した様に竪型充填層の一方の側面から被処理ガ
スを導入し、他方の側面から排出し且つ固体粒子が上部
から供給され、固体粒子充填層の圧損が増加した際に、
一定量の固体粒子を下部から抜き出す様にした間欠移動
層方式のガス処理装置はい（つか提案されてはいるが、
いずれも欠点を有し実用的ではな（、固体粒子の損耗や
崩壊が少な（てすむ様にわずかな量の固体粒子の移動で
増加した圧力損失の低減化が出来る様なガス処理装置の
出現が望まれていた。
スを導入し、他方の側面から排出し且つ固体粒子が上部
から供給され、固体粒子充填層の圧損が増加した際に、
一定量の固体粒子を下部から抜き出す様にした間欠移動
層方式のガス処理装置はい（つか提案されてはいるが、
いずれも欠点を有し実用的ではな（、固体粒子の損耗や
崩壊が少な（てすむ様にわずかな量の固体粒子の移動で
増加した圧力損失の低減化が出来る様なガス処理装置の
出現が望まれていた。
本発明は前記した様な従来技術の欠点を解決しようとす
るもので、その目的は固体粒子充填層のガス入口接触面
近傍の多量のダストが付着した固体粒子を重力落差によ
って積極的に装置外に排出し、固体粒子充填層の圧力損
失の上昇を極力少な（したガス処理装置を提供するにあ
る。
るもので、その目的は固体粒子充填層のガス入口接触面
近傍の多量のダストが付着した固体粒子を重力落差によ
って積極的に装置外に排出し、固体粒子充填層の圧力損
失の上昇を極力少な（したガス処理装置を提供するにあ
る。
また他の目的は前記目的を行なうための簡単な構造で、
保守および運転が簡素化されたガス処理装置を提供する
にある。
保守および運転が簡素化されたガス処理装置を提供する
にある。
以下本発明による′ガス処理装置をその実施例を示す図
面に基づいて説明する。
面に基づいて説明する。
第１図は装置全体を示す概略斜視図、第２図は第１図の
装置の側面図を示すものである。
装置の側面図を示すものである。
１１はボイラー等からのダストをともない同時に窒素酸
化物や硫黄酸化物等望ましくないガス成分を含有する被
処理ガスである。
化物や硫黄酸化物等望ましくないガス成分を含有する被
処理ガスである。
１２は入口ダクト、１３は出口ダクト、１４は固体粒子
１６を充填した充填層、１５は上部固体粒子貯蔵槽、１
７は固体粒子１６を支持するルーパー、１８は固体粒子
充填層１４が鉛直面となす角度、１９は排出機構、２０
はガス処理装置本体を示すものである。
１６を充填した充填層、１５は上部固体粒子貯蔵槽、１
７は固体粒子１６を支持するルーパー、１８は固体粒子
充填層１４が鉛直面となす角度、１９は排出機構、２０
はガス処理装置本体を示すものである。
被処理ガス１１と固体粒子充填層１４のガス入口接触面
およびガス出口接触面は、固体粒子１６の移動方向と平
行する様に、一定間隔をおいて配列される多数のルーパ
ー１７によって形成される。
およびガス出口接触面は、固体粒子１６の移動方向と平
行する様に、一定間隔をおいて配列される多数のルーパ
ー１７によって形成される。
更にガス入口接触面およびガス出口接触面は鉛直面に対
してそれぞれ入口ダクト側に適当な角度１８だけ傾斜さ
せ、且つルーバー１７相互間の距離を固体粒子の粒径よ
り太き（、固体粒子が重力作用によって架橋現象を生ず
る最大距離以下にしたものである。
してそれぞれ入口ダクト側に適当な角度１８だけ傾斜さ
せ、且つルーバー１７相互間の距離を固体粒子の粒径よ
り太き（、固体粒子が重力作用によって架橋現象を生ず
る最大距離以下にしたものである。
入口ダクト１２よりガス処理装置本体２０に被処理ガス
１１は導入される。
１１は導入される。
該ガス中に含まれる例えば窒素酸化物は固体粒子充填層
１４を通過する間に処理される。
１４を通過する間に処理される。
また同伴するダストはスリッピングして出口ダクト１３
より放出されるが、一部は充填層１４内に堆積し充填層
１４の圧力損失を増加させる。
より放出されるが、一部は充填層１４内に堆積し充填層
１４の圧力損失を増加させる。
この堆積するダストは充填層１４の固体粒子１６がルー
パ−１７相互間の空間に、固体粒子１６がルーパー１７
方向へのエネルギーによって架橋現象を生じることによ
り形成されるガス入口接触面近傍に特に多い。
パ−１７相互間の空間に、固体粒子１６がルーパー１７
方向へのエネルギーによって架橋現象を生じることによ
り形成されるガス入口接触面近傍に特に多い。
本発明によれば充填層１４と被処理ガス１１とのガス入
口接触面に従来技術の様な金網や格子を用いないため、
ダストがメツシュに堆積し残留することがな（恒久的な
圧力損失の増加は回避される。
口接触面に従来技術の様な金網や格子を用いないため、
ダストがメツシュに堆積し残留することがな（恒久的な
圧力損失の増加は回避される。
充填層１４内にダストが堆積し圧力損失が規定値に達す
れば、充填層１４の下部から排出機構１９により固体粒
子１６の一部を抜き出すことにより、架橋現象の要因に
なっていたルーパー１７方向へのエネルギーがルーパー
１７に沿って下部へ移動しようとするエネルギーよりも
小さくなるために、被処理ガス１１との接触面を形成し
ていた固体粒子１６の架橋現象は破壊され、固体粒子１
６間に位置的ズレが生じて固体粒子１６に付着していた
ダストの付着力を減少せしめ、通常運転時のガス流によ
ってダストを分離除去出来ることになる。
れば、充填層１４の下部から排出機構１９により固体粒
子１６の一部を抜き出すことにより、架橋現象の要因に
なっていたルーパー１７方向へのエネルギーがルーパー
１７に沿って下部へ移動しようとするエネルギーよりも
小さくなるために、被処理ガス１１との接触面を形成し
ていた固体粒子１６の架橋現象は破壊され、固体粒子１
６間に位置的ズレが生じて固体粒子１６に付着していた
ダストの付着力を減少せしめ、通常運転時のガス流によ
ってダストを分離除去出来ることになる。
またルーパ−１７相互間の距離および充填層１４の傾斜
角１８を適当な値にすることにより、固体粒子１６の抜
き出しにより架橋現象が破壊された際に、充填層１４の
被処理ガス１１との入口接触面を形成していた付着ダス
ト量の多い固体粒子１６はルーパー１７に沿ってより下
部に移動して行くが、一部は重力落差によってルーバー
１７相互間の空間から下部ホッパーに落下し、被処理ガ
ス１１との接触面における固体粒子１６０更新が積極的
に行なえる。
角１８を適当な値にすることにより、固体粒子１６の抜
き出しにより架橋現象が破壊された際に、充填層１４の
被処理ガス１１との入口接触面を形成していた付着ダス
ト量の多い固体粒子１６はルーパー１７に沿ってより下
部に移動して行くが、一部は重力落差によってルーバー
１７相互間の空間から下部ホッパーに落下し、被処理ガ
ス１１との接触面における固体粒子１６０更新が積極的
に行なえる。
更に固体粒子１６がルーバー１７相互間の空間から落下
する際、ルーバー１７表面に付着しているダストも固体
粒子１６に同伴させることで、ルーバー１７と被処理ガ
ス１１との接触面の付着ダストの自浄作用を生じさせる
ことが出来る。
する際、ルーバー１７表面に付着しているダストも固体
粒子１６に同伴させることで、ルーバー１７と被処理ガ
ス１１との接触面の付着ダストの自浄作用を生じさせる
ことが出来る。
前記目的を行なうためには、充填層１４が鉛直面に対し
て５°〜４５°傾斜させ、且つルーパ−１７相互間の距
離を固体粒子１６０粒径より大きく、重力落差による自
重作用によって架橋現象を生ずる最大距離以下にする必
要がある。
て５°〜４５°傾斜させ、且つルーパ−１７相互間の距
離を固体粒子１６０粒径より大きく、重力落差による自
重作用によって架橋現象を生ずる最大距離以下にする必
要がある。
固体粒子１６の抜き出しは、架橋現象を破壊するに必要
な量だけ抜き出せば、増加した圧力損失の低減化が出来
るので、従来技術に比較し移動する固体粒子１６の量が
少量でよい。
な量だけ抜き出せば、増加した圧力損失の低減化が出来
るので、従来技術に比較し移動する固体粒子１６の量が
少量でよい。
固体粒子１６の抜き出しを停止すれば、ルーパ−１７相
互間の空間に集中するエネルギーが増大し、再び架橋現
象を生じ被処理ガス１１との接触面が形成される。
互間の空間に集中するエネルギーが増大し、再び架橋現
象を生じ被処理ガス１１との接触面が形成される。
第３図、第４図、第５図は装置内に設けられたルーバー
の配列および形状の一例を示すものである。
の配列および形状の一例を示すものである。
第３図は平板構造のルーバーを支持枠に配列したものを
示し構造が簡単で製作保守が容易である。
示し構造が簡単で製作保守が容易である。
第４図はルーバーに機械的強度をもたせる様に配夕１ル
だもので、支持枠とルーバーのなす角度を適当に調整す
れば整流板の作用も兼ねさせることが出来る。
だもので、支持枠とルーバーのなす角度を適当に調整す
れば整流板の作用も兼ねさせることが出来る。
第５図は固体粒子のガス接触面での架橋現象をより強め
るため山形構造のルーバーを支持枠に配列したものであ
る。
るため山形構造のルーバーを支持枠に配列したものであ
る。
本発明のガス処理装置は前記のごとき、固体粒子充填層
と被処理ガスとの接触面に特徴を有するので、被処理ガ
ス中に含まれる窒素酸化物や硫黄酸化物等望ましくない
成分を固体粒子充填層により処理する際に、該ガス中に
同伴するダストが最も堆積しやすい充填層のガス入口接
触面の固体粒子を積極的に移動出来る。
と被処理ガスとの接触面に特徴を有するので、被処理ガ
ス中に含まれる窒素酸化物や硫黄酸化物等望ましくない
成分を固体粒子充填層により処理する際に、該ガス中に
同伴するダストが最も堆積しやすい充填層のガス入口接
触面の固体粒子を積極的に移動出来る。
それにより圧損の恒久的な増加や閉塞現象あるいは固体
粒子への表面被覆による性能低下を生ずることな（連続
して長時間の使用に耐えるものである。
粒子への表面被覆による性能低下を生ずることな（連続
して長時間の使用に耐えるものである。
第１図は本発明の一実施例を示すガス処理装置の全体概
略斜視図、第２図は第１図の装置の側面図、第３図、第
４図、第５図は本発明に使用するルーバーの種々の態様
を示すものである。 １１：被処理ガス、１２：入口ダクト、１３：出口ダク
ト、１４：固体粒子充填層、１５：固体粒子貯蔵槽、１
６：固体粒子、１７：ルーバー、１８：固体粒子充填層
が鉛直面となす角度、１９：排出機構、２０：ガス処理
装置本体。
略斜視図、第２図は第１図の装置の側面図、第３図、第
４図、第５図は本発明に使用するルーバーの種々の態様
を示すものである。 １１：被処理ガス、１２：入口ダクト、１３：出口ダク
ト、１４：固体粒子充填層、１５：固体粒子貯蔵槽、１
６：固体粒子、１７：ルーバー、１８：固体粒子充填層
が鉛直面となす角度、１９：排出機構、２０：ガス処理
装置本体。
Claims (1)
- １ 被処理ガス中に含まれる窒素酸化物及び硫黄酸化物
等を、固体粒状触媒又は吸着剤により除去する装置にお
いて、被処理ガスは一側面より導入し他側面に排出し、
固体粒状触媒又は吸着剤は上部より供給し下部より間欠
的に排出する様な構造とした竪型充填層の被処理ガスと
の入口接触面及び出口接触面が、鉛直面に対して入口ダ
クト側に同じ方向に５°〜４５°傾斜しており、且つ固
体粒状触媒又は吸着剤の重力落差による移動方向に沿う
様に、固体粒状触媒又は吸着剤の粒径より大きく、固体
粒状触媒又は吸着剤がそれぞれ重力落差による自重作用
によって架橋現象を生ずる最大距離以下の間隔をおいて
、被処理ガスが導入される側面及びガスが排出される側
面に並列される多数のルーバーよりなることを特徴とす
るガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52013932A JPS5932177B2 (ja) | 1977-02-10 | 1977-02-10 | ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52013932A JPS5932177B2 (ja) | 1977-02-10 | 1977-02-10 | ガス処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5399070A JPS5399070A (en) | 1978-08-30 |
| JPS5932177B2 true JPS5932177B2 (ja) | 1984-08-07 |
Family
ID=11846953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52013932A Expired JPS5932177B2 (ja) | 1977-02-10 | 1977-02-10 | ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5932177B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5760826Y2 (ja) * | 1980-12-09 | 1982-12-25 | ||
| JPS57177323A (en) * | 1981-04-27 | 1982-11-01 | Babcock Hitachi Kk | Adsorbing tower and method for operating same |
| JP2008126134A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Chubu Electric Power Co Inc | ハロゲン含有ガスの乾式処理装置及び乾式処理方法 |
| JP5053050B2 (ja) * | 2007-11-20 | 2012-10-17 | 中部電力株式会社 | ハロゲン含有ガスの乾式処理装置及び乾式処理方法 |
| JP5088796B2 (ja) * | 2008-06-06 | 2012-12-05 | 一般財団法人電力中央研究所 | 固定床反応容器 |
-
1977
- 1977-02-10 JP JP52013932A patent/JPS5932177B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5399070A (en) | 1978-08-30 |
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