JPH0824622A - 反応塔の入口ルーバクリーニング方法 - Google Patents
反応塔の入口ルーバクリーニング方法Info
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- JPH0824622A JPH0824622A JP6170970A JP17097094A JPH0824622A JP H0824622 A JPH0824622 A JP H0824622A JP 6170970 A JP6170970 A JP 6170970A JP 17097094 A JP17097094 A JP 17097094A JP H0824622 A JPH0824622 A JP H0824622A
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- inlet louver
- louver
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】反応塔の入口ルーバにおけるダスト堆積に伴う
圧損上昇、閉塞を回避させ、触媒の動きを良好にする。 【構成】入口ルーバと出口ルーバとの間に触媒から成る
移動層が形成され、該移動層を通過する被処理ガスに対
して、ダストや有害成分などの除去を施すようになって
いる。入口ルーバの被処理ガスの上流側に触媒を散布
し、該触媒を入口ルーバの外面に沿って落下させ、入口
ルーバに衝突させる。したがって、散布された触媒は、
入口ルーバの外面に沿って落下する間に入口ルーバに衝
突し、入口ルーバにダストが付着するのを防止すること
ができるとともに、入口ルーバに付着したダストを剥が
し、落下させることができる。槌打装置、バイブレータ
等を配設する必要がない。
圧損上昇、閉塞を回避させ、触媒の動きを良好にする。 【構成】入口ルーバと出口ルーバとの間に触媒から成る
移動層が形成され、該移動層を通過する被処理ガスに対
して、ダストや有害成分などの除去を施すようになって
いる。入口ルーバの被処理ガスの上流側に触媒を散布
し、該触媒を入口ルーバの外面に沿って落下させ、入口
ルーバに衝突させる。したがって、散布された触媒は、
入口ルーバの外面に沿って落下する間に入口ルーバに衝
突し、入口ルーバにダストが付着するのを防止すること
ができるとともに、入口ルーバに付着したダストを剥が
し、落下させることができる。槌打装置、バイブレータ
等を配設する必要がない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、反応塔の入口ルーバク
リーニング方法に関するものである。
リーニング方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、排ガス等のガス（以下「被処理ガ
ス」という。）に対して、ダストや有害成分などの吸
着、分解、ろ過等の処理を施すための反応塔は移動層を
有し、該移動層においては、上端の供給口から処理剤と
して炭素質吸着剤又は触媒（以下「触媒」という。）を
降下させて下方に移動させるとともに、被処理ガスを反
応塔本体の側方から供給し、移動層内を水平方向に通過
させるようにしている。
ス」という。）に対して、ダストや有害成分などの吸
着、分解、ろ過等の処理を施すための反応塔は移動層を
有し、該移動層においては、上端の供給口から処理剤と
して炭素質吸着剤又は触媒（以下「触媒」という。）を
降下させて下方に移動させるとともに、被処理ガスを反
応塔本体の側方から供給し、移動層内を水平方向に通過
させるようにしている。
【０００３】図２は反応塔の斜視図である。図におい
て、１１は内部に一対の移動層１０が形成された反応塔
本体であり、角錐（かくすい）形状の上部ホッパ１２、
該上部ホッパ１２の下端と連結された断面が矩形（くけ
い）の胴部１３、及び該胴部１３の下端と連結された角
錐形状の下部ホッパ１４から成る。そして、前記上部ホ
ッパ１２は上端に供給口１５を、前記下部ホッパ１４は
下端に排出口１６を有し、前記供給口１５から落下した
触媒は上部ホッパ１２、移動層１０及び下部ホッパ１４
内を下方に移動し、排出口１６から外部に排出される。
て、１１は内部に一対の移動層１０が形成された反応塔
本体であり、角錐（かくすい）形状の上部ホッパ１２、
該上部ホッパ１２の下端と連結された断面が矩形（くけ
い）の胴部１３、及び該胴部１３の下端と連結された角
錐形状の下部ホッパ１４から成る。そして、前記上部ホ
ッパ１２は上端に供給口１５を、前記下部ホッパ１４は
下端に排出口１６を有し、前記供給口１５から落下した
触媒は上部ホッパ１２、移動層１０及び下部ホッパ１４
内を下方に移動し、排出口１６から外部に排出される。
【０００４】また、前記胴部１３は側壁の一方に被処理
ガスを供給するための被処理ガス供給部１８を、側壁の
他方に被処理ガスを排出するための被処理ガス排出部２
０を有する。一方、前記胴部１３内においては、被処理
ガス供給部１８から供給された被処理ガスが左右に分流
され、各移動層１０内を通過し、被処理ガス排出部２０
から排出される。
ガスを供給するための被処理ガス供給部１８を、側壁の
他方に被処理ガスを排出するための被処理ガス排出部２
０を有する。一方、前記胴部１３内においては、被処理
ガス供給部１８から供給された被処理ガスが左右に分流
され、各移動層１０内を通過し、被処理ガス排出部２０
から排出される。
【０００５】そして、前記移動層１０は入口ルーバ１０
ａ及び出口ルーバ１０ｂを有する。前記入口ルーバ１０
ａは一定の傾斜角で取り付けられた複数の板から成り、
一方、出口ルーバ１０ｂは多孔プレートから成り、いず
れも被処理ガスを通過させることができるようにしてあ
る。前記移動層１０の下端、すなわち、前記胴部１３と
下部ホッパ１４との間には、移動層１０のレベルを一定
に調整しながら排出口１６から定量ずつ触媒を排出する
ための切出装置２２が配設される。したがって、移動層
１０内の触媒は一定の速度で下方に移動し、その間に被
処理ガスが処理される。
ａ及び出口ルーバ１０ｂを有する。前記入口ルーバ１０
ａは一定の傾斜角で取り付けられた複数の板から成り、
一方、出口ルーバ１０ｂは多孔プレートから成り、いず
れも被処理ガスを通過させることができるようにしてあ
る。前記移動層１０の下端、すなわち、前記胴部１３と
下部ホッパ１４との間には、移動層１０のレベルを一定
に調整しながら排出口１６から定量ずつ触媒を排出する
ための切出装置２２が配設される。したがって、移動層
１０内の触媒は一定の速度で下方に移動し、その間に被
処理ガスが処理される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図３に
示す前記従来の移動層においては、ダストを含有する被
処理ガスが入口ルーバ１０ａを通過することになるの
で、ダストが入口ルーバ１０ａに付着し、堆積（たいせ
き）してしまう。図３において、１０は移動層、１０ａ
は入口ルーバ、１０ｂは出口ルーバである。前記入口ル
ーバ１０ａは一定の傾斜角で取り付けられた複数の板３
１から成り、各板３１は上方から下方に向けて一定間隔
で配列される。
示す前記従来の移動層においては、ダストを含有する被
処理ガスが入口ルーバ１０ａを通過することになるの
で、ダストが入口ルーバ１０ａに付着し、堆積（たいせ
き）してしまう。図３において、１０は移動層、１０ａ
は入口ルーバ、１０ｂは出口ルーバである。前記入口ル
ーバ１０ａは一定の傾斜角で取り付けられた複数の板３
１から成り、各板３１は上方から下方に向けて一定間隔
で配列される。
【０００７】被処理ガスは矢印Ａ方向に流れ、各板３１
間を通過して移動層１０内に供給される。このとき、ダ
ストを含有する被処理ガスが入口ルーバ１０ａを通過す
ることになるので、ダストが入口ルーバ１０ａに付着
し、堆積して堆積ダスト３２を形成する。この場合、各
板３１間の距離が短くなって移動層１０に被処理ガスを
均一に供給することができず、処理効率が低下したり、
入口ルーバ１０ａ間の流路が閉塞（へいそく）したりし
てしまう。
間を通過して移動層１０内に供給される。このとき、ダ
ストを含有する被処理ガスが入口ルーバ１０ａを通過す
ることになるので、ダストが入口ルーバ１０ａに付着
し、堆積して堆積ダスト３２を形成する。この場合、各
板３１間の距離が短くなって移動層１０に被処理ガスを
均一に供給することができず、処理効率が低下したり、
入口ルーバ１０ａ間の流路が閉塞（へいそく）したりし
てしまう。
【０００８】そこで、槌打（ついだ）装置、バイブレー
タ等を配設し、入口ルーバ１０ａを打撃したり振動させ
たりすることによってダストを払い落とすことが考えら
れる。ところが、槌打装置、バイブレータ等を配設する
と、コストが高くなったり、高温下、ダスト雰囲気下等
において使用されることになるので駆動要素の耐久性が
低下したりしてしまうなどの問題が生じる。さらに、入
口ルーバ１０ａに加わる打撃、振動等によって移動層１
０内の触媒の粒子が密に詰まってしまうので、触媒の動
きが悪くなってしまう。
タ等を配設し、入口ルーバ１０ａを打撃したり振動させ
たりすることによってダストを払い落とすことが考えら
れる。ところが、槌打装置、バイブレータ等を配設する
と、コストが高くなったり、高温下、ダスト雰囲気下等
において使用されることになるので駆動要素の耐久性が
低下したりしてしまうなどの問題が生じる。さらに、入
口ルーバ１０ａに加わる打撃、振動等によって移動層１
０内の触媒の粒子が密に詰まってしまうので、触媒の動
きが悪くなってしまう。
【０００９】本発明は、前記従来の反応塔の問題点を解
決して、反応塔の耐久性を向上させることができ、触媒
の動きが悪くなることがない移動層式の反応塔の入口ル
ーバクリーニング方法を提供することを目的とする。
決して、反応塔の耐久性を向上させることができ、触媒
の動きが悪くなることがない移動層式の反応塔の入口ル
ーバクリーニング方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の反応塔の入口ル
ーバクリーニング方法が適用される反応塔においては、
入口ルーバと出口ルーバとの間に触媒から成る移動層が
形成され、該移動層に被処理ガスを通して被処理ガスか
らダストや有害成分などを除去する処理を施すようにな
っている。
ーバクリーニング方法が適用される反応塔においては、
入口ルーバと出口ルーバとの間に触媒から成る移動層が
形成され、該移動層に被処理ガスを通して被処理ガスか
らダストや有害成分などを除去する処理を施すようにな
っている。
【００１１】そして、入口ルーバの被処理ガスの上流側
において触媒を散布し、該触媒を入口ルーバの外面に沿
って落下させ、入口ルーバに衝突させる。
において触媒を散布し、該触媒を入口ルーバの外面に沿
って落下させ、入口ルーバに衝突させる。
【００１２】
【作用】本発明によれば、前記のように反応塔の入口ル
ーバクリーニング方法が適用される反応塔においては、
入口ルーバと出口ルーバとの間に触媒から成る移動層が
形成され、該移動層を通過する被処理ガスに対して、ダ
ストや有害成分などを除去する処理を施すようになって
いる。
ーバクリーニング方法が適用される反応塔においては、
入口ルーバと出口ルーバとの間に触媒から成る移動層が
形成され、該移動層を通過する被処理ガスに対して、ダ
ストや有害成分などを除去する処理を施すようになって
いる。
【００１３】そして、ダストを含有する被処理ガスが入
口ルーバを通過すると、ダストが入口ルーバに付着し、
堆積してしまう。そのため、入口ルーバの被処理ガスの
上流側に触媒を散布し、該触媒を入口ルーバの外面に沿
って落下させ、入口ルーバに衝突させる。したがって、
散布された触媒は、入口ルーバの外面に沿って落下する
間に入口ルーバに衝突し、入口ルーバにダストが付着す
るのを防止することができるとともに、入口ルーバに付
着したダストを剥（は）がし、落下させることができ
る。
口ルーバを通過すると、ダストが入口ルーバに付着し、
堆積してしまう。そのため、入口ルーバの被処理ガスの
上流側に触媒を散布し、該触媒を入口ルーバの外面に沿
って落下させ、入口ルーバに衝突させる。したがって、
散布された触媒は、入口ルーバの外面に沿って落下する
間に入口ルーバに衝突し、入口ルーバにダストが付着す
るのを防止することができるとともに、入口ルーバに付
着したダストを剥（は）がし、落下させることができ
る。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。なお、反応塔の構造は従来のも
のと同じであるので、図２を援用することによってその
説明を省略する。図１は本発明の第１の実施例における
反応塔におけるルーバクリーニング装置の断面図であ
る。
ながら詳細に説明する。なお、反応塔の構造は従来のも
のと同じであるので、図２を援用することによってその
説明を省略する。図１は本発明の第１の実施例における
反応塔におけるルーバクリーニング装置の断面図であ
る。
【００１５】図において、１０は移動層であり、充填さ
れた触媒は、被処理ガス中のダストや有害成分などを吸
着、分解、ろ過する。また、１０ａは被処理ガスが供給
される入口ルーバである。該入口ルーバ１０ａは一定の
傾斜角で取り付けられた複数の板３１から成り、各板３
１は上方から下方に向けて一定間隔で配列される。前記
板３１は、上端３１ａが直上の板３１の下端３１ｂより
上方に位置させられ、移動層１０内の触媒が各板３１間
を通って漏れ出すことがないようにしてある。
れた触媒は、被処理ガス中のダストや有害成分などを吸
着、分解、ろ過する。また、１０ａは被処理ガスが供給
される入口ルーバである。該入口ルーバ１０ａは一定の
傾斜角で取り付けられた複数の板３１から成り、各板３
１は上方から下方に向けて一定間隔で配列される。前記
板３１は、上端３１ａが直上の板３１の下端３１ｂより
上方に位置させられ、移動層１０内の触媒が各板３１間
を通って漏れ出すことがないようにしてある。
【００１６】ところで、被処理ガスは矢印Ａ方向に流
れ、各板３１間を通過して移動層１０内に供給される。
このとき、ダストを含有する被処理ガスが入口ルーバ１
０ａを通過することになるので、ダストが入口ルーバ１
０ａに付着してしまう。そこで、該入口ルーバ１０ａの
上方の入口ルーバ本体３０には、粒体流出口３４が側方
に向けて形成され、前記移動層１０内の触媒を流出させ
る。該粒体流出口３４の下端には、水平方向に突出する
案内片３５が形成され、流出した触媒が流体流出口３４
の直下に落下しないようになっている。なお、前記最上
段の板３１を変形させることによって案内片３５を形成
することもできる。
れ、各板３１間を通過して移動層１０内に供給される。
このとき、ダストを含有する被処理ガスが入口ルーバ１
０ａを通過することになるので、ダストが入口ルーバ１
０ａに付着してしまう。そこで、該入口ルーバ１０ａの
上方の入口ルーバ本体３０には、粒体流出口３４が側方
に向けて形成され、前記移動層１０内の触媒を流出させ
る。該粒体流出口３４の下端には、水平方向に突出する
案内片３５が形成され、流出した触媒が流体流出口３４
の直下に落下しないようになっている。なお、前記最上
段の板３１を変形させることによって案内片３５を形成
することもできる。
【００１７】また、前記案内片３５の先端の下方には、
流出した触媒を一旦（いったん）受ける整流板３８が配
設される。該整流板３８は流動層１０から離れる方向に
斜め下方に延び、触媒を案内するとともに整流し、リフ
レクタ３９に落下させる。該リフレクタ３９は、前記整
流板３８から供給された触媒を反転させ、各板３１の上
端３１ａに沿って触媒を散布する。そのために、前記リ
フレクタ３９は、移動層１０に近づく方向に斜め下方に
延びるように配設される。
流出した触媒を一旦（いったん）受ける整流板３８が配
設される。該整流板３８は流動層１０から離れる方向に
斜め下方に延び、触媒を案内するとともに整流し、リフ
レクタ３９に落下させる。該リフレクタ３９は、前記整
流板３８から供給された触媒を反転させ、各板３１の上
端３１ａに沿って触媒を散布する。そのために、前記リ
フレクタ３９は、移動層１０に近づく方向に斜め下方に
延びるように配設される。
【００１８】したがって、散布された触媒は、入口ルー
バ１０ａの外面に沿って落下する間に前記板３１の上端
３１ａに衝突し、前記板３１にダストが付着するのを防
止することができるとともに、前記板３１に付着したダ
ストを剥がし、落下させることができる。この場合、槌
打装置、バイブレータ等を配設する必要がないので、コ
ストを低くすることができる。また、散布された触媒を
回収し、移動層１０に供給することができるので、触媒
の消費量が多くなることはない。
バ１０ａの外面に沿って落下する間に前記板３１の上端
３１ａに衝突し、前記板３１にダストが付着するのを防
止することができるとともに、前記板３１に付着したダ
ストを剥がし、落下させることができる。この場合、槌
打装置、バイブレータ等を配設する必要がないので、コ
ストを低くすることができる。また、散布された触媒を
回収し、移動層１０に供給することができるので、触媒
の消費量が多くなることはない。
【００１９】さらに、入口ルーバ１０ａに打撃、振動等
が加わらないので、移動層１０内の触媒の粒子が密に詰
まってしまうことがなく、触媒の動きを良好に維持する
ことができる。なお、前記移動層１０が高く、入口ルー
バ１０ａの段数が多くなる場合は、入口ルーバ１０ａの
外面の高さ方向の全体にわたって触媒を均一に散布する
効果を高めるために移動層１０の高さに対応させて、移
動層１０の高さ方向において前記粒体流出口３４を複数
配設することもできる。
が加わらないので、移動層１０内の触媒の粒子が密に詰
まってしまうことがなく、触媒の動きを良好に維持する
ことができる。なお、前記移動層１０が高く、入口ルー
バ１０ａの段数が多くなる場合は、入口ルーバ１０ａの
外面の高さ方向の全体にわたって触媒を均一に散布する
効果を高めるために移動層１０の高さに対応させて、移
動層１０の高さ方向において前記粒体流出口３４を複数
配設することもできる。
【００２０】次に、本発明の第２の実施例について説明
する。図４は本発明の第２の実施例における反応塔にお
けるルーバクリーニング装置の断面図である。図におい
て、１０は移動層、１０ａは被処理ガスが供給される入
口ルーバである。該入口ルーバ１０ａは一定の傾斜角で
取り付けられた複数の第１の板４１及び第２の板４２か
ら成り、第１の板４１及び第２の板４２は上方から下方
に向けて交互に一定間隔で配列される。また、前記第１
の板４１は第２の板４２より短く設定され、第２の板４
２の上端４２ａが直上の第１の板４１の下端より上方に
位置させられるのに対して、第１の板４１の上端４１ａ
と直上の第２の板４２の下端４２ｂとはほぼ同じ高さに
位置させられる。
する。図４は本発明の第２の実施例における反応塔にお
けるルーバクリーニング装置の断面図である。図におい
て、１０は移動層、１０ａは被処理ガスが供給される入
口ルーバである。該入口ルーバ１０ａは一定の傾斜角で
取り付けられた複数の第１の板４１及び第２の板４２か
ら成り、第１の板４１及び第２の板４２は上方から下方
に向けて交互に一定間隔で配列される。また、前記第１
の板４１は第２の板４２より短く設定され、第２の板４
２の上端４２ａが直上の第１の板４１の下端より上方に
位置させられるのに対して、第１の板４１の上端４１ａ
と直上の第２の板４２の下端４２ｂとはほぼ同じ高さに
位置させられる。
【００２１】したがって、移動層１０内の触媒は、第２
の板４２の上側における第１の板４１との間を通って漏
れ出すことはないが、第２の板４２の下側における第１
の板４１との間を通って流出するようになっている。図
４においては、板４１、４２が交互に配列されている
が、入口ルーバ１０ａから触媒をオーバーフローさせる
ものであれば、板４１、４２の配列を変更することがで
き、板４２の間に板４１を複数段配設したり、入口ルー
バが板４１だけを配設したりすることもできる。
の板４２の上側における第１の板４１との間を通って漏
れ出すことはないが、第２の板４２の下側における第１
の板４１との間を通って流出するようになっている。図
４においては、板４１、４２が交互に配列されている
が、入口ルーバ１０ａから触媒をオーバーフローさせる
ものであれば、板４１、４２の配列を変更することがで
き、板４２の間に板４１を複数段配設したり、入口ルー
バが板４１だけを配設したりすることもできる。
【００２２】ところで、被処理ガスは矢印Ａ方向に流
れ、各板３１間を通過して移動層１０内に供給される。
このとき、ダストを含有する被処理ガスが入口ルーバ１
０ａを通過することになるので、ダストが入口ルーバ１
０ａに付着してしまう。ところが、第２の板４２の下側
における第１の板４１との間を通って流出した触媒は、
前記第１の板４１の上端４１ａにダストが付着するのを
防止することができるとともに、上端４１ａに付着した
ダストを剥がすことができる。
れ、各板３１間を通過して移動層１０内に供給される。
このとき、ダストを含有する被処理ガスが入口ルーバ１
０ａを通過することになるので、ダストが入口ルーバ１
０ａに付着してしまう。ところが、第２の板４２の下側
における第１の板４１との間を通って流出した触媒は、
前記第１の板４１の上端４１ａにダストが付着するのを
防止することができるとともに、上端４１ａに付着した
ダストを剥がすことができる。
【００２３】また、前記第１の板４１の上端４１ａから
流出した触媒は、直下に配設された第２の板４２の上端
４２ａに衝突し、前記板４２にダストが付着するのを防
止することができるとともに、前記板４２に付着したダ
ストを剥がし、落下させることができる。次に、本発明
の第３の実施例について説明する。
流出した触媒は、直下に配設された第２の板４２の上端
４２ａに衝突し、前記板４２にダストが付着するのを防
止することができるとともに、前記板４２に付着したダ
ストを剥がし、落下させることができる。次に、本発明
の第３の実施例について説明する。
【００２４】図５は本発明の第３の実施例における反応
塔におけるルーバクリーニング装置の断面図である。図
において、１０は移動層、１０ａは被処理ガスが供給さ
れる入口ルーバである。該入口ルーバ１０ａは一定の傾
斜角で取り付けられた複数の板３１から成り、各板３１
は上方から下方に向けて一定間隔で配列される。前記板
３１は、上端３１ａが直上の板３１の下端３１ｂより上
方に位置させられ、移動層１０内の触媒が各板３１間を
通って漏れ出すことがないようにしてある。
塔におけるルーバクリーニング装置の断面図である。図
において、１０は移動層、１０ａは被処理ガスが供給さ
れる入口ルーバである。該入口ルーバ１０ａは一定の傾
斜角で取り付けられた複数の板３１から成り、各板３１
は上方から下方に向けて一定間隔で配列される。前記板
３１は、上端３１ａが直上の板３１の下端３１ｂより上
方に位置させられ、移動層１０内の触媒が各板３１間を
通って漏れ出すことがないようにしてある。
【００２５】ところで、被処理ガスは矢印Ａ方向に流
れ、各板３１間を通過して移動層１０内に供給される。
このとき、ダストを含有する被処理ガスが入口ルーバ１
０ａを通過することになるので、ダストが入口ルーバ１
０ａに付着してしまう。そこで、該入口ルーバ１０ａの
上方に粒体供給器５１が配設され、該粒体供給器５１に
よって触媒を散布する。前記粒体供給器５１の下方には
移動層１０に近づく方向に斜め下方に延びるように配設
された案内板５２が配設され、該各板３１の上端３１ａ
に沿って触媒を散布する。したがって、散布された触媒
は、入口ルーバ１０ａの外面に沿って落下する間に前記
板３１の上端３１ａに衝突し、前記板３１にダストが付
着するのを防止することができるとともに、前記板３１
に付着したダストを剥がし、落下させることができる。
れ、各板３１間を通過して移動層１０内に供給される。
このとき、ダストを含有する被処理ガスが入口ルーバ１
０ａを通過することになるので、ダストが入口ルーバ１
０ａに付着してしまう。そこで、該入口ルーバ１０ａの
上方に粒体供給器５１が配設され、該粒体供給器５１に
よって触媒を散布する。前記粒体供給器５１の下方には
移動層１０に近づく方向に斜め下方に延びるように配設
された案内板５２が配設され、該各板３１の上端３１ａ
に沿って触媒を散布する。したがって、散布された触媒
は、入口ルーバ１０ａの外面に沿って落下する間に前記
板３１の上端３１ａに衝突し、前記板３１にダストが付
着するのを防止することができるとともに、前記板３１
に付着したダストを剥がし、落下させることができる。
【００２６】なお、前記粒体供給器５１にはバルブ５３
が配設され、散布される触媒の量及び触媒が散布される
タイミングをバルブ５３によって設定することができ
る。なお、本発明は前記実施例に限定されるものではな
く、本発明の趣旨に基づいて種々変形させることが可能
であり、それらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
が配設され、散布される触媒の量及び触媒が散布される
タイミングをバルブ５３によって設定することができ
る。なお、本発明は前記実施例に限定されるものではな
く、本発明の趣旨に基づいて種々変形させることが可能
であり、それらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
【００２７】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、反応塔の入口ルーバクリーニング方法が適用され
る反応塔においては、入口ルーバと出口ルーバとの間に
触媒から成る移動層が形成され、該移動層を通過する被
処理ガスに対してダストや有害成分などの吸着、分解、
ろ過等の処理を施すようになっている。
れば、反応塔の入口ルーバクリーニング方法が適用され
る反応塔においては、入口ルーバと出口ルーバとの間に
触媒から成る移動層が形成され、該移動層を通過する被
処理ガスに対してダストや有害成分などの吸着、分解、
ろ過等の処理を施すようになっている。
【００２８】そして、ダストを含有する被処理ガスが入
口ルーバを通過すると、ダストが入口ルーバに付着し、
堆積してしまう。そのため、入口ルーバの上方において
触媒を散布し、該触媒を入口ルーバの外面に沿って落下
させ、入口ルーバに衝突させる。したがって、散布され
た触媒は、入口ルーバの外面に沿って落下する間に入口
ルーバに衝突し、入口ルーバにダストが付着するのを防
止することができるとともに、入口ルーバに付着したダ
ストを剥がし、落下させることができる。
口ルーバを通過すると、ダストが入口ルーバに付着し、
堆積してしまう。そのため、入口ルーバの上方において
触媒を散布し、該触媒を入口ルーバの外面に沿って落下
させ、入口ルーバに衝突させる。したがって、散布され
た触媒は、入口ルーバの外面に沿って落下する間に入口
ルーバに衝突し、入口ルーバにダストが付着するのを防
止することができるとともに、入口ルーバに付着したダ
ストを剥がし、落下させることができる。
【００２９】この場合、槌打装置、バイブレータ等を配
設する必要がないので、コストを低くすることができ
る。また、入口ルーバに打撃、振動等が加わらないの
で、移動層内の触媒の粒子が密に詰まってしまうことが
なく、触媒の動きを良好に維持することができる。
設する必要がないので、コストを低くすることができ
る。また、入口ルーバに打撃、振動等が加わらないの
で、移動層内の触媒の粒子が密に詰まってしまうことが
なく、触媒の動きを良好に維持することができる。
【図１】本発明の第１の実施例における反応塔における
ルーバクリーニング装置の断面図である。
ルーバクリーニング装置の断面図である。
【図２】反応塔の斜視図である。
【図３】従来の移動層の断面図である。
【図４】本発明の第２の実施例における反応塔における
ルーバクリーニング装置の断面図である。
ルーバクリーニング装置の断面図である。
【図５】本発明の第３の実施例における反応塔における
ルーバクリーニング装置の断面図である。
ルーバクリーニング装置の断面図である。
１０ 移動層 １０ａ 入口ルーバ
Claims (2)
- 【請求項１】 入口ルーバと出口ルーバとの間に処理剤
が充填された移動層が形成され、該移動層を通過するダ
ストを含有する被処理ガスに対してダスト及び有害成分
を除去する処理を施す反応塔におけるルーバクリーニン
グ方法において、（ａ）被処理ガスの上流側に処理剤を
散布し、（ｂ）該触媒を入口ルーバの外面に沿って落下
させ、入口ルーバに衝突させることを特徴とする反応塔
の入口ルーバクリーニング方法。 - 【請求項２】 散布される触媒を前記移動層から流出さ
せる請求項１に記載の反応塔の入口ルーバクリーニング
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6170970A JP3012150B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 反応塔の入口ルーバクリーニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6170970A JP3012150B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 反応塔の入口ルーバクリーニング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0824622A true JPH0824622A (ja) | 1996-01-30 |
| JP3012150B2 JP3012150B2 (ja) | 2000-02-21 |
Family
ID=15914746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6170970A Expired - Lifetime JP3012150B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 反応塔の入口ルーバクリーニング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3012150B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013108920A1 (ja) | 2012-01-20 | 2013-07-25 | 新日鐵住金株式会社 | 連続式固定床触媒反応装置及びこれを用いた触媒反応方法 |
| CN109364597A (zh) * | 2018-12-05 | 2019-02-22 | 北京诺曼斯佰环保科技有限公司 | 气固分离界面上的清扫装置 |
-
1994
- 1994-07-22 JP JP6170970A patent/JP3012150B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013108920A1 (ja) | 2012-01-20 | 2013-07-25 | 新日鐵住金株式会社 | 連続式固定床触媒反応装置及びこれを用いた触媒反応方法 |
| US9314760B2 (en) | 2012-01-20 | 2016-04-19 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Continuous fixed-bed catalytic reactor and catalytic reaction method using same |
| CN109364597A (zh) * | 2018-12-05 | 2019-02-22 | 北京诺曼斯佰环保科技有限公司 | 气固分离界面上的清扫装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3012150B2 (ja) | 2000-02-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19991130 |