KR101351926B1 - 벤튜리조절스크러버 및 이를 포함하는 집진기 - Google Patents

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남연우
김영수
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신도이앤씨 (주)
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Abstract

본 발명의 벤튜리조절스크러버 및 이를 포함하는 집진기는 가스유입부와 벤튜리처리가스배출부를 갖고 내부이 벤튜리처리공간이 마련되는 벤튜리스크러버본체, 상기 벤튜리처리공간에 반응액을 분사하기 위한 반응액분사장치, 상기 벤튜리처리공간을 통과하는 유체흐름에 벤튜리를 형성하는 벤튜리영역를 형성하는 벤튜리목부, 그리고 상기 벤튜리목부에 의하여 형성되는 벤튜리영역의 면적을 조절하는 이동형조절부를 포함한다. 상기 벤튜리조절스크러버 및 이를 포함하는 집진기는 벤튜리영역을 조절하여, 1 ㎛ 이하의 미세물질까지도 효율적으로 제거가 가능하고, 처리과정에서 형성되는 스케일의 제거를 위한 청소 빈도를 줄일 수 있다.

Description

벤튜리조절스크러버 및 이를 포함하는 집진기{VENTURI CONTROLLED SCRUBBER AND DUST COLLECTOR COMPRISING THE SAME}
본 발명은 벤튜리조절스크러버 및 이를 포함하는 집진기에 관한 것으로, 벤튜리조절스크러버 내의 벤튜리영역을 조절하여, 1 um 이하의 미세물질까지도 효율적으로 제거가능하고, 처리과정에서 형성되는 스케일의 제거 주기를 늘릴 수 있는 벤튜리조절스크러버 및 이를 포함하는 집진기에 관한 것이다.
산업시설에서 배출되는 배가스에 함유된 입자물질을 제거하기 위하여 벤튜리의 원리를 사용하는 벤튜리스크러버가 사용될 수 있다. 이러한 벤튜리 스크러버는 배출되는 배가스의 유량, 온도, 수분함량과 같은 배가스의 특성변화나, 제거하려는 입자물질의 입경분포, 밀도와 같은 성상변화에 의하여, 벤튜리스크러버 내에 스케일이 발생할 수 있고, 이에 의하여 벤튜리 홀 등의 특정구역에서 막힘현상이 발생할 수 있으며, 이로 인하여 스크러버의 안정적인 운전에 어려워지고, 스케일제거를 위하여 자주 스크러버 내부를 청소해야하는 등과 같은 제약을 받는다.
한편, 태양광전지 및 반도체 산업 분야에서는, 규소화합물(SiCl4, SiHCl3, SiF4 등 Si를 함유하고 있는 가스상의 물질, 실란가스)을 함유한 배가스가 배출되고, 이러한 실란가스는 폭발성이 매우 높아서 완전한 처리가 매우 중요하다.
이러한 배가스를 처리하기 위하여, 배가스에 물을 분사시켜 실란가스를 SiO2로 전환시켜 제거하는 방법을 적용하기도 하지만, 형성되는 SiO2가 점착력을 지니고 있어서 스케일에 의한 막힘 현상이 발생하기도 한다.
도1은 기존의 벤튜리스크러버의 일 태양을 나타내는 도면이다.
상기 도1을 참조하면, 상기한 점착력을 가지는 물질 등에 의하여 벤튜리 스크러버에서는 a와 b부분에서 스케일에 의한 막힘 현상이 발생될 수 있다.
한편, 축전지 생산회사 및 금속을 가공하는 산업에서 발생하는 배가스에는 다량의 미세 금속물질(Pb, Mn, Al, Fe, Ti, Zn, Cu, Ni, Cd, Li, Ag, Au, Pt 또는 이들 물질이 구성원소로 되어 있는 화합물질 및 이들의 조합을 포함하는 입자물질) 이 함유되어 있다.
도2는 기존의 벤튜리스크러버의 일 태양을 나타내는 도면이다. 상기 도2를 참조하면, 상기한 점착력을 가지는 물질 등에 의하여 상기 벤튜리스크러버에 다수 존재하는 일부의 벤튜리 홀(c)에서 막힘현상이 발생하기 시작하고, 일정시간이 경과하면 벤튜리스크러버 전체에 스케일이 형성되면서 막힘현상이 발생할 수 있다.
또한 미세한 금속물질을 함유하는 배가스의 처리를 위하여 충진물을 사용하는 packed tower 또는 마블 스크러버에서도 충진물에 금속물질이 부착되어 스케일을 형성하면서 처리효율을 저감시킬 수 있어서, 스케일의 발생에도 불구하고 막힘현상을 저감시키고 있다.
따라서 금속입자를 비롯한 미세한 입자물질을 함유하는 배가스를 처리하는 과적과정에서 가스상 질과 함께 미세분진까지 제거할 수 있는 벤튜리스크러버나 집진기가 요구된다.
특허문헌 1. 공개공보 10-2006-0127512 (공개일: 2006년 12월 13일), 폐가스로부터의 가스상 및 입자상 물질 동시 처리 스크러버 특허문헌 2. 공개공보 10-2006-0003979 (공개일: 2007년 07년 24일), 복합오염물질을 동시에 처리하는 멀티스크러버
본 발명의 목적은 벤튜리조절스크러버 내의 벤튜리영역을 조절하여, 1 um 이하의 미세물질까지도 효율적으로 제거가 가능하고, 처리과정에서 형성되는 스케일에도 불구하고, 효과적이고 연속적으로 배가스의 처리가 가능하며, 스케일 제거를 위한 청소의 빈도를 줄일 수 있는 벤튜리조절스크러버 및 이를 포함하는 집진기를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 벤튜리조절스크러버는 가스유입부와 벤튜리처리가스배출부를 갖고 내부에 벤튜리처리공간이 마련되는 벤튜리스크러버본체, 상기 벤튜리처리공간에 반응액을 분사하기 위한 반응액분사장치, 상기 벤튜리처리공간을 통과하는 유체흐름에 벤튜리를 형성하는 벤튜리영역을 형성하는 벤튜리목부, 그리고 상기 벤튜리목부에 의하여 형성되는 벤튜리영역의 단면적의 크기를 조절하는 이동형조절부를 포함한다.
상기 벤튜리조절스크러버는 상기 이동형조절부의 동작을 제어하기 위한 제어부를 더 포함할 수 있고, 상기 제어부는 상기 벤튜리영역에 의하여 형성되는 압력차에 의하여 상기 이동형조절부의 위치를 조절할 수 있다.
상기 벤튜리목부는 상기 반응액분사장치와 상기 벤튜리처리가스배출부의 사이에 위치할 수 있며, 상기 이동형조절부의 일 말단은 상기 벤튜리목부에 의하여 형성되는 벤튜리영역의 단면적에 대향하여 위치하는 것일 수 있다.
상기 반응액은 상기 가스유입부로 유입되는 가스 1 m3당 1 내지 20 L로 분사되는 것일 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예인 집진기는 원심력집진장치와 상기 벤튜리조절스크러버를 포함한다.
상기 원심력집진장치는 원심력집진공간이 마련되는 원심력집진장치본체, 상기 원심력집진장치본체의 측면에 위치하는 벤튜리처리가스유입부, 상기 원심력집진장치본체의 상부 또는 측면상부에 연결되는 가스배출부, 및 상기 원심력집진공간의 하부에 위치하며 반응액저장공간이 마련되는 반응액저장부를 포함하고, 상기 원심력집진장치의 벤튜리처리가스유입부와 상기 벤튜리조절스크러버의 벤튜리처리가스배출부는 처리가스연결부에 의하여 연결되는 것일 수 있다.
상기 반응액저장부는 상기 반응액저장공간의 상부에 반응액증발방지장치와 상기 반응액저장공간의 하부 또는 측면하부에 반응액배출구를 포함하는 것일 수 있다.
상기 반응액배출구는 반응액순환펌프와 연결될 수 있고, 상기 반응액순환펌프는 상기 반응액분사장치과 연결되어 상기 반응액저장공간의 반응액을 벤튜리조절스크러버의 벤튜리처리공간에 분사되는 반응액으로 순환시키는 것일 수 있다.
상기 원심력집진장치본체의 단면은 원형일 수 있고, 상기 처리가스연결부는 상기 벤튜리처리가스유입부로 유입되는 가스가 원심력집진장치본체의 단면의 접선방향으로 유입되도록 형성되는 것일 수 있다.
본 발명의 벤튜리조절스크러버 및 이를 포함하는 집진기는 1 ㎛ 이하의 미세물질까지도 효율적으로 제거가 가능하고, 배가스에 포함되는 실란가스나 금속성 입자에 의하여 처리공간 내에 스케일이 형성되어도 계속적인 배가스의 처리가 가능하며, 처리공간 내의 스케일 처리주기를 늘릴 수 있다.
나아가, 상기 집진기는 반응액을 이용하는 세정원리와 함께, 벤튜리 원리와 원심력를 함께 이용하여, 효과적으로 유독한 가스상 물질이나 입자상 물질을 포함하는 배가스를 효과적으로 처리할 수 있고, 반응액을 회수하여 재사용 할 수 있으며, 상기 배가스의 처리과정에서 포집되는 입자상 물질 등으로부터 금속물질 등을 효율적으로 회수할 수도 있다.
도1은 기존의 벤튜리스크러버의 일 태양을 나타내는 정면도이다.
도2는 기존의 벤튜리스크러버의 다른 일 태양의 일부를 나타내는 상면도이다.
도3은 본 발명의 일 실시예인 벤튜리조절스크러버의 개념도이다.
도4는 본 발명의 다른 일 실시예인 집진기의 개념도이다.
도5는 상기 도4의 X-X’단면에서 바라본 단면도이다.
도6은 본 발명의 일 실시예인 집진기의 일부인 원심력집진장치의 원리를 나타내는 개념도이다.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.
본 발명의 일 실시예인 벤튜리조절스크러버는 벤튜리스크러버본체, 반응액분사장치, 벤튜리목부, 그리고 이동형조절부를 포함한다. 도3은 본 발명의 일 실시예인 벤튜리조절스크러버(100)의 개념도이다. 이하 상기 도3을 참조하여 본 발명의 벤튜리조절스크러버를 설명한다.
상기 벤튜리스크러버본체(1)는 가스유입부(2)와 벤튜리처리가스배출부(41)를 갖고, 내부에 벤튜리처리공간이 마련된다.
상기 벤튜리스크러버본체(1)는 사각형, 오각형 등의 다각형의 단면을 갖는 행태, 원통형일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 형태로 구현될 수 있다.
상기 가스유입부(2)와 벤튜리처리가스배출부(41)는 상기 벤튜리스크러버본체(1)에 대향되게 위치할 수 있고, 바람직하게 가스유입부(2)가 벤튜리스크러버본체(1)의 상부 또는 측면 상부에, 벤튜리처리가스배출부(41)가 상기 벤튜리스크러버본체(1)의 하부 또는 하부측면에 형성될 수 있다.
상기 반응액분사장치(3)는 상기 벤튜리처리공간에 유입되는 가스(배가스)의 유해가스상 물질과 반응하여 무해한 물질로 전환하거나, 제거할 수 있고, 미세분진상물질 등도 세정, 제거할 수 있다.
상기 반응액분사장치(3)에는 반응액을 분사하는 반응액분사노즐(31)이 단수 또는 복수개로 형성될 수 있다.
상기 벤튜리목부(11)는 상기 벤튜리처리공간을 통과하는 기체를 포함하는 유체의 흐름에 벤튜리를 형성하는 벤튜리영역(15)를 제공하기 위한 것으로, 벤튜리원리를 이용하여 가스(배가스)의 미세입자물질을 포집할 수 있다. 상기 벤튜리목부(11)는 상기 반응액분사장치(3)와 상기 벤튜리처리가스배출부(41)의 사이에 위치할 수 있으며, 이러한 경우 특히 반응액과 가스(배가스)의 접촉 확률을 높일 수 있어서 가스상 유독물질, 미세입자물질 등의 제거효율을 더욱 높일 수 있다.
상기 벤튜리목부(11)에 의하여 형성되는 벤튜리영역(15)은 이동형조절부(12)에 의하여 그 단면적의 크기가 조절될 수 있다. 상기 이동형조절부(12)는 상기 벤튜리영역(15)의 단면적의 크기를 적절하게 조절할 수 있는 것이라면 적용될 수 있고, 바람직하게 상기 이동형조절부(12)의 일 말단이 상기 벤튜리목부(11)에 의하여 형성되는 벤튜리영역(15)의 단면적에 대향하여 위치하는 것일 수 있다.
상기 이동형조절부(12)의 일 말단의 위치를 조절하여서, 상기 벤튜리목부(11)와 상기 이동형 조절부의 일 말단과의 사이의 거리를 조절할 수 있고, 이에 의하여 상기 벤튜리영역(15)의 단면적의 크기를 조절할 수 있다.
상기 이동형조절부(12)의 일 말단은 구형 또는 반구형일 수 있다.
상기 이동형조절부(12)는 일 말단은 상기 벤튜리스크러버본체(1)의 하부에 위치하고, 다른 일 말단은 상기 벤튜리목부(11)에 의하여 형성되는 벤튜리영역(15)의 단면적에 대향하도록 위치하며, 상기 이동형조절부(12)는 상기 벤튜리영역(15)의 단면적에 대항하는 일 말단의 위치를 수직이동시켜서 상기 벤튜리영역(15)의 크기를 조절할 수 있다.
상기 벤튜리조절스크러버(100)는 상기 이동형조절부(12)의 동작을 제어하기 위한 제어부를 더 포함할 수 있다. 상기 제어부는 상기 벤튜리영역(15)에 의하여 형성되는 벤튜리의 상부와 하부의 압력차를 측정할 수 있고, 상기 측정된 압력차에 의하여 상기 이동형조절부(12)의 위치를 조절할 수 있으며, 상기 조절은 자동 또는 수동으로 이루어질 수 있다.
상기 벤튜리조절스크러버(100)는 상기 벤튜리스크러버본체(1)의 일부에 공기의 흐름을 가이드할 수 있는 가이드부(14)를 더 포함할 수 있다.
상기 벤튜리조절스크러버(100)는 벤튜리의 원리와 동시에 반응액을 이용한 세정원리를 이용하여 다양한 크기의 입자상 물질을 포함하는 가스(배가스)에서 유독물질 및 입자상 물질을 효과적으로 제거할 수 있고, 직경 1 um 이하의 미세먼지까지도 제거할 수 있다.
벤튜리 윈리를 이용하여 반응액과 가스와의 접촉확률을 현저하게 높여 처리효율을 향상시키면서도, 이러한 과정에서 발생할 수 있는 스케일을 최소화할 수 있으며, 스케일에도 불구하고, 이동형조절부(12)에 의하여 벤튜리영역(15)의 단면적, 크기 등을 조절, 유지할 수 있어서, 스케일 제거를 위한 내부청소의 빈도도 줄일 수 있다.
특히, 상기 벤튜리조절스크러버(100)는 반응액과 벤튜리조절스크러버(100)에 유입되는 가스의 비율인 액기비(분사되는 반응액의 양/가스의 양)는 가스의 온도, 습도, 유량, 제거하고자 하는 미세입자물질의 종류 및 목적하는 제거 정도에 따라서 달라질 수 있으나, 효과적인 처리를 위하여 가스 1 m3당 1 내지 20 L로 조절될 수 있다. 이러한 경우에 효율적인 유해물질 및 미세입자상 물질의 제거가 가능하다.
또한, 상기 벤튜리조절스크러버(100)가 입경 1 um 이하의 미세입자물질을 제거하고자 하는 경우에는 가스 1 m3당 5 내지 15 L의 비율로 반응액을 사용할 수 있으며, 이러한 경우에 제거가 어려운 입경 1 um 이하의 미세입자물질까지도 효율적으로 제거가 가능하다.
상기 벤튜리조절스크러버(100)는 가스상물질을 입자화하거나 입자상물질을 조대화하여 제거하는 기존의 벤튜리스크러버가, 운전조건의 변화나 입자물질의 특성변화에 의하여 스케일이 발생하여 벤튜리 홀 등의 특정 구역이 막혀서 발생하는 막힘현상으로 인하여 설비의 운전을 중단하게 되는 문제점을 해결할 수 있다.
또한, 벤튜리에 의하여 발생하는 압력손실과 분사되는 반응액의 양을 조절하여서 스케일의 형성을 방지할 수 있고, 이를 이용하여 제거가 어려운 1 um 이하의 미세입자까지도 효율적으로 제거할 수 있다.
나아가, 상기 벤튜리조절스크러버(100)는 운전조건 또는 입자물질의 특성변화가 발생하는 경우에도 벤튜리에 의하여 발생하는 압력거동을 자동 또는 수동으로 측정하여 벤튜리영역(15)의 단면적이나 크기, 유입되는 가스의 유량이나 반응액의 양 등을 자동 또는 수동으로 조절할 수 있어서 벤튜리조절스크러버(100)의 설비 운전상의 효율성까지도 확보할 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따른 집진기는 원심력집진장치와 벤튜리조절스크러버를 포함한다. 도4는 본 발명의 다른 일 실시예인 집진기(300)의 개념도이고, 도5는 상기 도4의 X-X'에서 위를 바라본 집진기(300)의 단면도이며, 도6은 상기 집진기의 일부인 원심력집진장치의 원리를 나타내는 개념도이다. 이하 상기 도4 내지 도6를 참고하여 상기 집진기를 설명한다.
상기 집진기(300)는 원심력집진장치(200)와 벤튜리조절스크러버(100)를 포함하고, 처리가스연결부(4)에 의하여 서로 연결된다. 상기 벤튜리조절스크러버(100)에 대한 구체적인 설명은 상기 본 발명의 일 실시예에 따른 벤튜리조절스크러버(100)에 대한 설명과 중복되므로 생략한다.
상기 원심력집진장치(200)는 원심력집진공간이 마련되는 원심력집진장치본체(5), 상기 원심력집진장치본체(5)의 측면 하부에 위치하는 벤튜리처리가스유입부(42), 상기 원심력집진장치본체(5)의 상부에 연결되는 가스배출부(7), 및 상기 원심력집진공간의 하부에 위치하며 반응액저장공간이 마련된 반응액저장부(6)를 포함한다.
상기 반응액저장부(6)는 상기 반응액저장공간의 상부에 반응액증발방지장치(61)와 상기 반응액저장공간의 하부 또는 측면하부에 반응액배출구(62)를 더 포함할 수 있다. 상기 반응액배출구(62)는 상기 반응액저장부(6)의 측면의 하부에서 1/4 내지 1/3 의 높이에 위치할 수 있다.
상기 반응액저장부는 밑면이 기울어진 형태로 제조될 수 있고, 이러한 경우에 스케일물질이나 밀도가 큰 침전물질 등은 기울어진 부분으로 모일 수 있으며, 반응액과 침전물질 등의 분리가 용이할 수 있다.
또한, 상기 반응액배출구(62)는 반응액순환펌프(63)과 연결되고, 상기 반응액순환펌프(63)는 상기 반응액분사장치(3)과 연결되어서, 상기 반응액저장공간의 반응액을 벤튜리조절스크러버(100)의 벤튜리처리공간에 분사되는 반응액으로 순환시킬 수 있다. 구체적으로, 상기 반응액순환펌프(63)는 상기 반응액배출구(62)로 나오는 반응액을, 상기 반응액순환관(33)을 통하여 반응액분사장치(3)에 연결할 수 있고, 반응액제어부(32)에 의하여 반응액의 분사량 등을 조절할 수 있다.
상기 원심력집진장치본체(5)는 효과적인 원심력에 의한 집진 효과를 위하여 단면이 원형일 수 있다.
상기 처리가스연결부(4)는 원심력집진장치(200)의 벤튜리처리가스배출부(41)와, 상기 원심력집진장치본체(5)의 측면 하부에 위치하는 벤튜리처리가스유입부(42)를 연결하는 구조이다. 상기 처리가스연결부(4)는, 집진효율을 높이기 위하여 상기 벤튜리처리가스유입부(42)로 유입되는 가스가 상기 원형의 원심력집진장치본체(5)의 단면의 접선방향으로 유입되도록 형성된 것일 수 있다.
상기 집진기(300)는 상기 벤튜리조절스크러버(100)와 상기 원심력집진장치(200)를 연결하여 반응액의 분리 수집을 용이하게 하고, 기체 내에 포함되는 입자물질 등의 제거 효율을 더욱 높일 수 있다.
이하 본 발명의 다른 일 실시예인 집진기의 원리를, 실란가스를 포함하는 규소화합물 또는 금속물질 함유 미세입자를 포함하는 배가스를 처리하는 경우의 예로 설명한다. 그러나, 본 발명의 집진기(300)는 실란가스를 포함하는 규소화합물 또는 금속물질 함유 미세입자를 포함하는 배가스를 처리하는 것이 한정되는 것은 아니다.
상기 배가스는 벤튜리스크러버본체(1)의 가스유입부(2)를 통하여 벤튜리처리공간에 유입되며, 벤튜리목부(11)와 이동형조절부(12)가 형성하는 벤튜리영역(15)을 통과한다. 상기 벤튜리영역(15)은 벤튜리스크러버본체(1)의 단면적보다 작아서 벤튜리영역(15)의 상부와 하부에 압력차(압력손실)이 발생하며, 상기 벤튜리영역(15)이 좁을수록 압력손실이 증가하고, 상기 벤튜리영역(15)에서의 배가스의 유속도 빨라진다.
반응액분사장치(3)가 가스유입부(2)와 벤튜리목부(11)의 사이에 형성되면, 반응액이 벤튜리영역(15)에 의하여 압력이 높아진 배가스에 분사되어 배가스와 반응액의 접촉확률이 증대된다. 즉, 벤튜리영역(15)의 면적이 작을수록 벤튜리 영역의 상부 압력이 높아지며, 따라서, 배가스와 반응액의 접촉확률이 높아져서 상기 배가스에 포함되어있는 실란가스를 포함하는 규소화합물 또는 금속물질 함유 미세입자의 포집, 제거 효율이 향상된다.
상기 실란가스를 포함하는 규소화합물 또는 금속물질 함유 미세입자와 반응액의 접촉확률을 높이기 위하여 액기비를 조절하는 것이 중요하며, 구체적인 내용은 상기 본 발명의 일 실시예인 벤튜리조절스크러버(100)에 대한 설명에서와 중복되므로 그 기재를 생략한다.
상기 벤튜리영역(15)에 의하여 충분히 반응액과 접촉한 배가스는 배가스에 포함되어 있던 실란가스를 포함하는 규소화합물 또는 금속물질 함유 미세입자가 반응액에 흡수되어 반응액적 상태를 유지하며 벤튜리영역(15)을 통과하며, 이때 배가스의 유속이 반응액적의 유속보다 빠르게 된다.
유속이 상대적으로 느린 반응액적과 빠른 배가스는 벤튜리처리가스배출부(41)를 통과하고, 처리가스연결부(4)로 이동하며, 벤튜리처리가스유입부(42)를 통하여 원심력집진장치(200)에 유입된다. 이때, 효과적인 원심력집진효과를 얻기 위하여, 단면이 원형인 원심력집진장치(200)를 이용하고, 상기 원형의 접선방향으로 유입되는 것이 바람직하다.
상기 유입된 배가스와 반응액적은 상기 도6에서와 같이 원심력 운동을 하면서 상부로 이동하게 되며, 이때 유속이 빠른 배가스는 도6의 화살표 방향으로 상부로 이동하여 원심력집진장치본체(5)의 상부에 연결되는 가스배출부(7)로 외부로 배출되고, 유속이 느린 반응액적은 원심력운동을 하는 과정에서 중력에 의하여 도6의 화살표 방향과 같이 하부로 이동하여 반응액저장부(6)로 침강된다.
상기 반응액저장부(6)는 상기 벤튜리처리가스유입부(42)에서 유입되는 반응액적 및 배가스에 의하여 상기 반응액저장부(6)에 침강되어 있는 반응액의 비산을 방지하기 위하여 반응액증발방지장치(61)가 더 형성될 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
100: 벤튜리조절스크러버 200: 원심력집진장치
300: 집진기 1: 벤튜리스크러버본체
2: 가스유입부 3: 반응액분사장치
4: 처리가스연결부 5: 원심력집진장치본체
6: 반응액저장부 7: 가스배출부
11: 벤튜리목부 12: 이동형조절부
14: 가이드부 15: 벤튜리영역
31: 반응액분사노즐 32: 반응액제어부
33: 반응액순환관 41: 벤튜리처리가스배출부
42: 벤튜리처리가스유입부 61: 반응액증발방지장치
62: 반응액배출구 63: 반응액순환펌프

Claims (8)

  1. 벤튜리조절스크러버와 원심력집진장치를 포함하고,
    상기 벤튜리조절스크러버는, 가스유입부와 벤튜리처리가스배출부를 갖고 내부에 벤튜리처리공간이 마련되는 벤튜리스크러버본체; 상기 벤튜리처리공간에 반응액을 분사하기 위한 반응액분사장치; 상기 벤튜리처리공간을 통과하는 유체흐름에 벤튜리를 형성하는 벤튜리영역을 형성하는 벤튜리목부; 상기 벤튜리목부에 의하여 형성되는 벤튜리영역의 단면적의 크기를 조절하는 이동형조절부; 그리고 상기 이동형조절부의 동작을 제어하기 위한 제어부를 포함하며,
    상기 반응액분사장치는 상기 반응액을 상기 가스유입부로 유입되는 가스 1 m3당 1 내지 20 L로 분사하는 것이고, 상기 제어부는 상기 벤튜리영역의 상부와 하부의 압력차를 측정하여 상기 이동형조절부의 위치를 조절함으로써 상기 벤튜리영역의 단면적의 크기를 조절하는 것이며,
    상기 반응액의 양과 상기 벤튜리영역에서 발생하는 압력차를 조절하여 상기 벤튜리목부의 스케일 형성을 방지하는 것이고,
    상기 원심력집진장치는, 원심력집진공간이 마련되는 원심력집진장치본체; 상기 원심력집진장치본체의 측면에 위치하는 벤튜리처리가스유입부; 상기 원심력집진장치본체의 상부 또는 측면상부에 연결되는 가스배출부; 및 상기 원심력집진공간의 하부에 위치하며 반응액저장공간이 마련되는 반응액저장부를 포함하며,
    상기 원심력집진장치의 벤튜리처리가스유입부와 상기 벤튜리조절스크러버의 벤튜리처리가스배출부는 처리가스연결부에 의하여 연결되고, 상기 반응액저장부는 밑면이 기울어진 형태로 제조된 것인, 집진기.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 이동형조절부의 일 말단은 구형 또는 반구형인 것인, 집진기.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 벤튜리목부는 상기 반응액분사장치와 상기 벤튜리처리가스배출부의 사이에 위치하며, 상기 이동형조절부의 일 말단은 상기 벤튜리목부에 의하여 형성되는 벤튜리영역의 단면적에 대향하여 위치하는 것인, 집진기.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 반응액은 상기 가스유입부로 유입되는 가스 1 m3당 5 내지 15 L로 분사되어 입경 1 ㎛ 이하의 미세물질까지 제거하는 것인, 집진기.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 반응액저장부는 상기 반응액저장공간의 상부에 반응액증발방지장치와 상기 반응액저장공간의 하부 또는 측면 하부에 반응액배출구를 포함하는 것인, 집진기.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 반응액배출구는 상기 반응액저장부의 측면 하부에서 1/4 내지 1/3의 높이에 위치하는 것인, 집진기.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 반응액배출구는 반응액순환펌프와 연결되고,
    상기 반응액순환펌프는 상기 반응액분사장치과 연결되어 상기 반응액저장공간의 반응액을 벤튜리조절스크러버의 벤튜리처리공간에 분사되는 반응액으로 순환시키는 것인, 집진기.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 원심력집진장치본체의 단면은 원형이고,
    상기 처리가스연결부는 상기 벤튜리처리가스유입부로 유입되는 가스가 원심력집진장치본체의 단면의 접선방향으로 유입되도록 형성되는 것인, 집진기.
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