JPS5930174B2 - スコ−チ防止剤含有加硫性ゴム組成物 - Google Patents
スコ−チ防止剤含有加硫性ゴム組成物Info
- Publication number
- JPS5930174B2 JPS5930174B2 JP52087233A JP8723377A JPS5930174B2 JP S5930174 B2 JPS5930174 B2 JP S5930174B2 JP 52087233 A JP52087233 A JP 52087233A JP 8723377 A JP8723377 A JP 8723377A JP S5930174 B2 JPS5930174 B2 JP S5930174B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- alkyl group
- scorch
- cyclohexyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/43—Compounds containing sulfur bound to nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は改良されたゴム加硫法およびこの改良法を用い
て得られる配合ゴムに関する。
て得られる配合ゴムに関する。
また、本発明は、ゴム中における早期加硫の阻止剤とし
て有用な化合物に関する。さらに詳しくは、本発明は、
配合ゴムの早期加硫を防止する方法およびこの方法を用
いて得られた配合ゴムに関する。ゴム加工時のスコーチ
現象は、早期加硫ないし早期架橋に起因し、この早期加
硫は最終加硫工程に先立つ任意の処理工程もしくは上記
処理工程の間の貯蔵期間中に発生する。適当に配合した
スコーチを起さないゴム配合物は滑らかに且つつぶつぶ
を生じることなくダイ押出しもしくはカレンダーシート
成形し得るが、スコーチを起こした材料は押出し後もし
くはシート成形後に波打つたりつぶつぶを生じたりし、
廃棄せざるを得ない。本発明の目的は、ゴムの早期加硫
を阻止する方法を提供するにある。本発明の他の目的は
、ゴム加工用のスコーチ阻止剤および防止剤を提供する
にある。その他の目的は下記の記載より明らかに成るで
あろう。本発明の目的は、いおう加硫性ゴムのいおう加
硫し得る組合せと、N−スルホニルスルフイルイミン部
分すなわちを有する少くとも1種の化合物とによつて達
成される。
て有用な化合物に関する。さらに詳しくは、本発明は、
配合ゴムの早期加硫を防止する方法およびこの方法を用
いて得られた配合ゴムに関する。ゴム加工時のスコーチ
現象は、早期加硫ないし早期架橋に起因し、この早期加
硫は最終加硫工程に先立つ任意の処理工程もしくは上記
処理工程の間の貯蔵期間中に発生する。適当に配合した
スコーチを起さないゴム配合物は滑らかに且つつぶつぶ
を生じることなくダイ押出しもしくはカレンダーシート
成形し得るが、スコーチを起こした材料は押出し後もし
くはシート成形後に波打つたりつぶつぶを生じたりし、
廃棄せざるを得ない。本発明の目的は、ゴムの早期加硫
を阻止する方法を提供するにある。本発明の他の目的は
、ゴム加工用のスコーチ阻止剤および防止剤を提供する
にある。その他の目的は下記の記載より明らかに成るで
あろう。本発明の目的は、いおう加硫性ゴムのいおう加
硫し得る組合せと、N−スルホニルスルフイルイミン部
分すなわちを有する少くとも1種の化合物とによつて達
成される。
上記の化合物は〔式中、R1は第1級アルキル基(炭素
原子数1〜20)、第2級アルキル基(炭素原子数3〜
20)、シクロアルキル基(炭素原子数5〜20)、ア
ラルキル基(炭素原子数7〜20)およびアリール基(
炭素原子数6〜20)より成る群から選ばれ、上記アラ
ルキル基およびアリール基は所望により1個もしくは2
個のアルキル基(炭素原子数1〜4)、アルコキシ基(
炭素原子数1〜4)、ハロゲン(たとえば塩素もしくは
ニトロ基で核置換されており、R2は第1級アルキル基
(炭素原子数2〜20)、第2級アルキル基(炭素原子
数3〜20)、第3級アルキル基(炭素原子数4〜20
)およびシクロアルキル基(炭素原子数5〜20)より
成る群から選ばれ、R3およびR4はR1として上記し
た基および第3級アルキル基(炭素原子数4〜20)よ
り成る群から選ばれ、R5は第1級アルキル基(炭素原
子数2〜20)、第2級アルキル基(炭素原子数3〜2
0)およびシクロアルキル基(炭素原子数5〜20)よ
り成る群から選ばれ、R6、R7およびR8は水素およ
び第1級アルキル基(炭素原子数1〜4)より成る群か
ら選ばれ、Xは−CN、−CO2R3、−CO2NH2
、−CO2NHR3、−CO2N(R1)2、C(0)
R3および−SO2R3より成る群から選ばれ、Yは−
C(0)一および−SO2− より成る群から選ばれる
。
原子数1〜20)、第2級アルキル基(炭素原子数3〜
20)、シクロアルキル基(炭素原子数5〜20)、ア
ラルキル基(炭素原子数7〜20)およびアリール基(
炭素原子数6〜20)より成る群から選ばれ、上記アラ
ルキル基およびアリール基は所望により1個もしくは2
個のアルキル基(炭素原子数1〜4)、アルコキシ基(
炭素原子数1〜4)、ハロゲン(たとえば塩素もしくは
ニトロ基で核置換されており、R2は第1級アルキル基
(炭素原子数2〜20)、第2級アルキル基(炭素原子
数3〜20)、第3級アルキル基(炭素原子数4〜20
)およびシクロアルキル基(炭素原子数5〜20)より
成る群から選ばれ、R3およびR4はR1として上記し
た基および第3級アルキル基(炭素原子数4〜20)よ
り成る群から選ばれ、R5は第1級アルキル基(炭素原
子数2〜20)、第2級アルキル基(炭素原子数3〜2
0)およびシクロアルキル基(炭素原子数5〜20)よ
り成る群から選ばれ、R6、R7およびR8は水素およ
び第1級アルキル基(炭素原子数1〜4)より成る群か
ら選ばれ、Xは−CN、−CO2R3、−CO2NH2
、−CO2NHR3、−CO2N(R1)2、C(0)
R3および−SO2R3より成る群から選ばれ、Yは−
C(0)一および−SO2− より成る群から選ばれる
。
〕より、成る群から選ばれる。好ましい化合物は、R1
を第1級アルキル基(炭素原子数(2〜13)、第2級
アルキル基(炭素原子数3〜12)、シクロヘキシル基
およびフエニル基より成る群から選び、R2を第2級ア
ルキル基(炭素原子数3〜12)、第3級アルキル基(
炭素原子数4〜12)およびシクロヘキシル基より成る
群から選び、S3を第1級アルキル基(炭素原子数1〜
12)、第2級アルキル基(炭素原子数3〜12)、第
3級アルキル基(炭素原子数4〜12)、シクロヘキシ
ル基、フエニル基、p−クロロフエニル基、p−トリル
基およびp−ニトロフエニル基より成る群から選び、R
6、R7およびR8を水素と成し、Xを−CN、CO2
CH3もしくは−CO2CH2CH3と成し、Yを−S
O2−と成した化合物である。下記に本発明のスルフイ
ルイミン類を例示するが、これらが全てではない。
を第1級アルキル基(炭素原子数(2〜13)、第2級
アルキル基(炭素原子数3〜12)、シクロヘキシル基
およびフエニル基より成る群から選び、R2を第2級ア
ルキル基(炭素原子数3〜12)、第3級アルキル基(
炭素原子数4〜12)およびシクロヘキシル基より成る
群から選び、S3を第1級アルキル基(炭素原子数1〜
12)、第2級アルキル基(炭素原子数3〜12)、第
3級アルキル基(炭素原子数4〜12)、シクロヘキシ
ル基、フエニル基、p−クロロフエニル基、p−トリル
基およびp−ニトロフエニル基より成る群から選び、R
6、R7およびR8を水素と成し、Xを−CN、CO2
CH3もしくは−CO2CH2CH3と成し、Yを−S
O2−と成した化合物である。下記に本発明のスルフイ
ルイミン類を例示するが、これらが全てではない。
S−S−ジ(イソプロピル)−N−(エタンスルホニル
)−スルフイルイミン、S−S−ジ(イソプロピル)−
N−(0−トルエンスルホニル)−スルフイルイミン、
S−S−ジ(イソプロピル)−N−(1−ヘキサデカン
スルホニル)−スルフイルイミン、S−(n−オクチル
)−S−(イソプロピル)N−(p−トリエンスルホニ
ル)−スルフイルイミンs−(t−ブチル)−S−(n
−プロピル)−N−(p−クロロベンゼンスルホニル)
、スルフイルイミン、S−(n−ドデシル)−S−シク
ロヘキシルN−(p−ニトロベンゼンスルホニル)−ス
ルフイルイミン、S−S−ジ(2−ヘキシル)−N−(
p−トルエンスルホニル)−スルフイルイミン、S−イ
ソプロピル−S−(2−カルボメトキシプロピル)−N
−(p−トルエンスルホニル)スルフイルイン、S−イ
ソプロピル−S−(2−シアノエチル)一N−(p−ト
ルエンスルホニルースルフイルイミン)、S−シクロヘ
キシル−S−(1・1−ジメチルー2−アセチルエチル
)−N−(ベンゼンスルホニル)−スルフイルイミン、
S−シクロヘキシル−S−(2−カルバミルプロピル)
−N−(p−トルエンスルホニル)−スルフイルイミン
、S−シクロヘキシル−S−〔2−(t−ブチルカルバ
ミル)一エチル〕−N−(p−トルエンスルホニル)−
スルフイルイミン、S−(p−クロロフエニル)−S−
〔2−(ジメチルカルバミル)エチル〕−N−(p−メ
トキシベンゼンスルホニル)−スルフイルイミン、S−
(n−ヘキシル)−S−(2−カルボフエノキシエチル
)−N−(p−トルエンスルホニル)−スルフイルイミ
ン、S−(イソプロピル)−S−(1−メチル−2 ?
−カルボエトキシエチル)−N−(p−トルエンスルホ
ニル)−スルフイルイミン、S−(2−ドデシル)−S
−(2−カルボメトキシエチル)−N−(pトルエンス
ルホニル)スルフイルイミン、
JS−シクロヘキシル−S−(2−カルボイ
ソプロポキシエチル)−N−(0−クロロベンゼンスル
ホニル)−スルフイルイミン、S−(0−トリル)−S
−(2−シアノエチル)N−(p−クロロベンゼンスル
ホニル)−スルフイルイミン、S−S′−ジベンジル−
N−N″−ジ(p−クロロベンゼンスルホニル)−S−
S′−(3−オキソペンタメチレン)−ビス(スルフイ
ルイミン)、S−S′−ジ(イソプロピル)−N−Nl
−ジ(ベンゼンスルホニル)−S−S′−(3−ジオキ
シチアペンタメチレン)−ビス(スルフイルイミン)、
S−S7−ジフエニル一N−N−ジ(p−トルエンスル
ホニル)−S−S′一(3−ジオキシチアペンタメチレ
ン)−ビス(スルフイルイミン)、S−ベンジル一S−
(2−メチル−2−カルボフエノキシエチル)−N−(
p−ニトロベンゼンスルホニル)−スルフイルイミン、
S−(p−トリノ(ハ)−S−イソプロピル−N−(シ
クロヘキサンスルホニル)−スルフイルイミンS−S′
−ジ(2−ドデシル)−N−(プロパンスルホニル)−
スルフイルイミン、S−S−ジ(イソプロピル)−N−
(1−ドデカンスルホニル)−スルフイルイミンおよび
S−イソプロピル−S−(2−メチル−2−シアノエチ
ル)−N−(α一トルエンスルホニル)ースルフイルイ
ミン。
)−スルフイルイミン、S−S−ジ(イソプロピル)−
N−(0−トルエンスルホニル)−スルフイルイミン、
S−S−ジ(イソプロピル)−N−(1−ヘキサデカン
スルホニル)−スルフイルイミン、S−(n−オクチル
)−S−(イソプロピル)N−(p−トリエンスルホニ
ル)−スルフイルイミンs−(t−ブチル)−S−(n
−プロピル)−N−(p−クロロベンゼンスルホニル)
、スルフイルイミン、S−(n−ドデシル)−S−シク
ロヘキシルN−(p−ニトロベンゼンスルホニル)−ス
ルフイルイミン、S−S−ジ(2−ヘキシル)−N−(
p−トルエンスルホニル)−スルフイルイミン、S−イ
ソプロピル−S−(2−カルボメトキシプロピル)−N
−(p−トルエンスルホニル)スルフイルイン、S−イ
ソプロピル−S−(2−シアノエチル)一N−(p−ト
ルエンスルホニルースルフイルイミン)、S−シクロヘ
キシル−S−(1・1−ジメチルー2−アセチルエチル
)−N−(ベンゼンスルホニル)−スルフイルイミン、
S−シクロヘキシル−S−(2−カルバミルプロピル)
−N−(p−トルエンスルホニル)−スルフイルイミン
、S−シクロヘキシル−S−〔2−(t−ブチルカルバ
ミル)一エチル〕−N−(p−トルエンスルホニル)−
スルフイルイミン、S−(p−クロロフエニル)−S−
〔2−(ジメチルカルバミル)エチル〕−N−(p−メ
トキシベンゼンスルホニル)−スルフイルイミン、S−
(n−ヘキシル)−S−(2−カルボフエノキシエチル
)−N−(p−トルエンスルホニル)−スルフイルイミ
ン、S−(イソプロピル)−S−(1−メチル−2 ?
−カルボエトキシエチル)−N−(p−トルエンスルホ
ニル)−スルフイルイミン、S−(2−ドデシル)−S
−(2−カルボメトキシエチル)−N−(pトルエンス
ルホニル)スルフイルイミン、
JS−シクロヘキシル−S−(2−カルボイ
ソプロポキシエチル)−N−(0−クロロベンゼンスル
ホニル)−スルフイルイミン、S−(0−トリル)−S
−(2−シアノエチル)N−(p−クロロベンゼンスル
ホニル)−スルフイルイミン、S−S′−ジベンジル−
N−N″−ジ(p−クロロベンゼンスルホニル)−S−
S′−(3−オキソペンタメチレン)−ビス(スルフイ
ルイミン)、S−S′−ジ(イソプロピル)−N−Nl
−ジ(ベンゼンスルホニル)−S−S′−(3−ジオキ
シチアペンタメチレン)−ビス(スルフイルイミン)、
S−S7−ジフエニル一N−N−ジ(p−トルエンスル
ホニル)−S−S′一(3−ジオキシチアペンタメチレ
ン)−ビス(スルフイルイミン)、S−ベンジル一S−
(2−メチル−2−カルボフエノキシエチル)−N−(
p−ニトロベンゼンスルホニル)−スルフイルイミン、
S−(p−トリノ(ハ)−S−イソプロピル−N−(シ
クロヘキサンスルホニル)−スルフイルイミンS−S′
−ジ(2−ドデシル)−N−(プロパンスルホニル)−
スルフイルイミン、S−S−ジ(イソプロピル)−N−
(1−ドデカンスルホニル)−スルフイルイミンおよび
S−イソプロピル−S−(2−メチル−2−シアノエチ
ル)−N−(α一トルエンスルホニル)ースルフイルイ
ミン。
本発明のスコーチ防止剤はN−スルホニルスルフイルイ
ミン部分に特徴がある。
ミン部分に特徴がある。
但し、スルフイルイミンのいおうは、少くとも1個の脂
肪族性β位水素を具備する少くとも1個の置換基を有す
る。すなわち、の通りである。
肪族性β位水素を具備する少くとも1個の置換基を有す
る。すなわち、の通りである。
当業者が容易に理解し得る如く、かかるN−スルホニル
スルフイルイミン部分を、上記した構造よりも複雑な他
の構造、たとえば〔式中、R類およびYは前記の通りで
あり、Zは2価の基たとえばアルキレン基もしくはアリ
ーレン基である。
スルフイルイミン部分を、上記した構造よりも複雑な他
の構造、たとえば〔式中、R類およびYは前記の通りで
あり、Zは2価の基たとえばアルキレン基もしくはアリ
ーレン基である。
〕中に導入することもできる。しかしながら、かかる化
合物は、より単純なスルフイルイミン類に比し特に実用
的な利益を有しない。本発明は、いおう加硫剤、有機加
硫促進剤および老化防止剤(但し、いずれも用いるべき
早期加硫阻止剤ではない。)を含有するゴム配合物に適
用し得る。本発明におけるいおう加硫剤は、元素状いお
うまたはいおう供与性加硫剤たとえばアミンジスルフイ
ドもしくは高分子量ポリスルフイドを意味するものとす
る。本発明は種々の加硫促進剤に応用し得る。例を示す
と、芳香族チアゾール系加硫促進剤たとえばN−シクロ
ヘキシル−2ーベンゾチアゾールスルフエンアミド、2
・2−ジチオビス(ベンゾチアゾール)、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、N−t−ブチル−2−ベンゾチア
ゾールスルフエンアミド、2−ベンゾチアゾリルジエチ
ルジチオカルバメートおよび2−(モルホリノチオ)ベ
ンゾチアゾールを含有するゴム配合物に使用し得る。使
用し得る他のチアゾール系促進剤には、2−(アミノジ
チオ)−チアゾール類および2−(アミノトリチオ)チ
アゾール類たとえば2−(モルホリノジチオ)−ベンゾ
チアゾールがある。メルカプトベンゾチアゾール系促進
剤のアミン類たとえばメルカプトベンゾチアゾールのt
−ブチルアミン塩ならびにモルホリンおよび2・6−ジ
メチルモルホリンそれぞれの同様な塩類に本発明は使用
し得る。芳香族系以外のチアゾール系促進剤も使用し得
る。二次促進剤たとえばテトラアルキルチウラムジスル
フイドもしくは同モノスルフイド、ジチオカルバミン酸
類たとえばジアルキルジチオカルバミン酸の塩たとえば
ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、チオカルバミルスル
フエンアミド類、およびグアニジン誘導体たとえばジア
リールグアニジン類たとえばジフエニルグアニジンもし
くはジ一0−トリルグアニジンを含有する配合ゴムを本
発明法によつて改良し得る。本発明のスコーチ防止剤は
、任意のいおう加硫性ゴムたとえば天然ゴム、合成ゴム
およびこれらの混合物に使用し得る。
合物は、より単純なスルフイルイミン類に比し特に実用
的な利益を有しない。本発明は、いおう加硫剤、有機加
硫促進剤および老化防止剤(但し、いずれも用いるべき
早期加硫阻止剤ではない。)を含有するゴム配合物に適
用し得る。本発明におけるいおう加硫剤は、元素状いお
うまたはいおう供与性加硫剤たとえばアミンジスルフイ
ドもしくは高分子量ポリスルフイドを意味するものとす
る。本発明は種々の加硫促進剤に応用し得る。例を示す
と、芳香族チアゾール系加硫促進剤たとえばN−シクロ
ヘキシル−2ーベンゾチアゾールスルフエンアミド、2
・2−ジチオビス(ベンゾチアゾール)、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、N−t−ブチル−2−ベンゾチア
ゾールスルフエンアミド、2−ベンゾチアゾリルジエチ
ルジチオカルバメートおよび2−(モルホリノチオ)ベ
ンゾチアゾールを含有するゴム配合物に使用し得る。使
用し得る他のチアゾール系促進剤には、2−(アミノジ
チオ)−チアゾール類および2−(アミノトリチオ)チ
アゾール類たとえば2−(モルホリノジチオ)−ベンゾ
チアゾールがある。メルカプトベンゾチアゾール系促進
剤のアミン類たとえばメルカプトベンゾチアゾールのt
−ブチルアミン塩ならびにモルホリンおよび2・6−ジ
メチルモルホリンそれぞれの同様な塩類に本発明は使用
し得る。芳香族系以外のチアゾール系促進剤も使用し得
る。二次促進剤たとえばテトラアルキルチウラムジスル
フイドもしくは同モノスルフイド、ジチオカルバミン酸
類たとえばジアルキルジチオカルバミン酸の塩たとえば
ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、チオカルバミルスル
フエンアミド類、およびグアニジン誘導体たとえばジア
リールグアニジン類たとえばジフエニルグアニジンもし
くはジ一0−トリルグアニジンを含有する配合ゴムを本
発明法によつて改良し得る。本発明のスコーチ防止剤は
、任意のいおう加硫性ゴムたとえば天然ゴム、合成ゴム
およびこれらの混合物に使用し得る。
本発明を実施することにより改良される合成ゴムには、
ブチルゴム、共役1・3−ジエンモノマ一たとえば1・
3−ブタジエンもしくはイソプレンのホモポリマーたと
えばCis−1・4−ポリブタジエン(Cis−1.4
構造30%以上、好ましくは85%以上)およびCis
−1・4−ポリイソプレン(Cis−1・4構造80%
以上)、ならびに共役1・3−ジエ2ゃノ、一と他のモ
ノ、一たとえばスチレン、アクリロニトリル、イソブチ
レンおよびメチルメタクリレートとのコポリマーがある
。エチレンプロピレンターポリマ一たとえばエチレンプ
ロプレンジシクロペンタジエンターポリマーも、またシ
クロオレフイン類の間環重合によつて誘導されたゴムた
とえばポリベンゼンも本発明によつて改良される。本発
明のスコーチ防止剤を製造するには、Nソジオ一N−ク
ロロ−スルホンアミドと適当な硫化物とを反応させる。
ブチルゴム、共役1・3−ジエンモノマ一たとえば1・
3−ブタジエンもしくはイソプレンのホモポリマーたと
えばCis−1・4−ポリブタジエン(Cis−1.4
構造30%以上、好ましくは85%以上)およびCis
−1・4−ポリイソプレン(Cis−1・4構造80%
以上)、ならびに共役1・3−ジエ2ゃノ、一と他のモ
ノ、一たとえばスチレン、アクリロニトリル、イソブチ
レンおよびメチルメタクリレートとのコポリマーがある
。エチレンプロピレンターポリマ一たとえばエチレンプ
ロプレンジシクロペンタジエンターポリマーも、またシ
クロオレフイン類の間環重合によつて誘導されたゴムた
とえばポリベンゼンも本発明によつて改良される。本発
明のスコーチ防止剤を製造するには、Nソジオ一N−ク
ロロ−スルホンアミドと適当な硫化物とを反応させる。
たとえば次式の通りである。R1およびR2が炭化水素
基である場合にかかる製造法については文献中に充分な
記載がある。〔辻原ほか、日本化学会誌、第42巻、第
2631頁ないし第2635頁(1969年)およびエ
フ・ィ一・ハーデイ(F.E.Hardy)、ジヤーナ
ル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエテイ(JOUrIl
alOftheC?MicalSOciety)(ロン
ドン)、パートC、第2087頁ないし第2089頁(
1970年)を参照されたい。′)X基もしくはY基(
前記による)を有するスルフイルイミン類は、明らかに
これまで報告されてはいないが、本質的に同じ方法によ
つて製造し得る。他のスルフイルイミン製造法も従来技
術中に見られる。たとえば、脱水素化条件下でスルホキ
シドとスルホンアミドとを反応させる方法がある。〔デ
イ一・エス・ターベル(D.S.Tarbell)およ
びシ一・ウイーバ一(C.Weaver)、米国化学会
誌、第63巻、第2939頁ないし第2942頁(19
41年)を参照されたい。〕しかしながら、本発明に係
る化合物のスコーチ防止剤としての性能はその製造法と
無関係である。次に実施例を示し本発明をさらに具体的
に説明する。
基である場合にかかる製造法については文献中に充分な
記載がある。〔辻原ほか、日本化学会誌、第42巻、第
2631頁ないし第2635頁(1969年)およびエ
フ・ィ一・ハーデイ(F.E.Hardy)、ジヤーナ
ル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエテイ(JOUrIl
alOftheC?MicalSOciety)(ロン
ドン)、パートC、第2087頁ないし第2089頁(
1970年)を参照されたい。′)X基もしくはY基(
前記による)を有するスルフイルイミン類は、明らかに
これまで報告されてはいないが、本質的に同じ方法によ
つて製造し得る。他のスルフイルイミン製造法も従来技
術中に見られる。たとえば、脱水素化条件下でスルホキ
シドとスルホンアミドとを反応させる方法がある。〔デ
イ一・エス・ターベル(D.S.Tarbell)およ
びシ一・ウイーバ一(C.Weaver)、米国化学会
誌、第63巻、第2939頁ないし第2942頁(19
41年)を参照されたい。〕しかしながら、本発明に係
る化合物のスコーチ防止剤としての性能はその製造法と
無関係である。次に実施例を示し本発明をさらに具体的
に説明する。
下記の実施例1ないし4は、本発明の実施に用いるスコ
ーチ防止剤の製造法を示す。その他の実施例は、他のス
コーチ防止剤とそのゴムへの使用を示す。実施例は全て
本発明の実施態様を例示するものであり、これらによつ
て本発明は些かも限定されるものではない。実施例 1 S−S−ジ(イソプロピル)−N−(p−トルエンスル
ホニル)−スルフイルイミンを調製すべく、23.64
7のイソプロピルスルフイドを、Nソジオ一N−クロロ
−p−トルエンスルホンアミド・3H20607のイソ
プロピルアルコール90m1中攪拌懸濁液に添加した。
ーチ防止剤の製造法を示す。その他の実施例は、他のス
コーチ防止剤とそのゴムへの使用を示す。実施例は全て
本発明の実施態様を例示するものであり、これらによつ
て本発明は些かも限定されるものではない。実施例 1 S−S−ジ(イソプロピル)−N−(p−トルエンスル
ホニル)−スルフイルイミンを調製すべく、23.64
7のイソプロピルスルフイドを、Nソジオ一N−クロロ
−p−トルエンスルホンアミド・3H20607のイソ
プロピルアルコール90m1中攪拌懸濁液に添加した。
添加には9分間をかけ、この間自然に温度が20℃から
44℃まで上昇するようにした。反応混合物をさらに1
0分間攪拌し、次いで300m1の水と徐々に混合し、
混合物に3m1の2,2モル/l次亜塩素酸ナトリウム
水溶液を加えた。得られた白色の結晶性沈澱物を濾過し
、水洗し、再度濾過し、乾燥し、て50.8f(収率8
8%)を得た。このものは融点115〜117℃を有し
、融解の際気泡の形成によつて示される通り分解を伴う
。前掲の文献(辻原)は融点を117〜118℃と報告
している。実施例 2S−シクロヘキシル−S−(2−
カルボエトキシエチル)−N−(p−トルエンスルホニ
ル)スルフイルイミンを調製すべく、8.97のエチル
−3−(シクロヘキシルチオ)プロピオネートを、N−
ソジオ一N−クロロ−(p−トルエンスルホンアミド)
・3H2011.55f7のエタノール200m1中攪
拌懸濁液中に添加した。
44℃まで上昇するようにした。反応混合物をさらに1
0分間攪拌し、次いで300m1の水と徐々に混合し、
混合物に3m1の2,2モル/l次亜塩素酸ナトリウム
水溶液を加えた。得られた白色の結晶性沈澱物を濾過し
、水洗し、再度濾過し、乾燥し、て50.8f(収率8
8%)を得た。このものは融点115〜117℃を有し
、融解の際気泡の形成によつて示される通り分解を伴う
。前掲の文献(辻原)は融点を117〜118℃と報告
している。実施例 2S−シクロヘキシル−S−(2−
カルボエトキシエチル)−N−(p−トルエンスルホニ
ル)スルフイルイミンを調製すべく、8.97のエチル
−3−(シクロヘキシルチオ)プロピオネートを、N−
ソジオ一N−クロロ−(p−トルエンスルホンアミド)
・3H2011.55f7のエタノール200m1中攪
拌懸濁液中に添加した。
添加は20℃にて3分間かけて行なつた。こののち、温
度は自然に上昇した。混合物を冷却して温度を30℃未
満に保え、次いで20〜25℃にて30分間攪拌し、真
空下でもとの体積の半分にまで濃縮した。次いで攪拌し
つつ除々に水を加えて全液量を600m1とした。水を
加えて行くと最初の沈殿物(NaCl)が溶解し、その
のち目的物質が沈殿する。これを濾過し、水洗し、再度
濾過し、乾燥して融点99〜101℃を有する白色結晶
13.4V(収率84%)を得た。エタノールからの再
結晶物は融点101〜102.5℃を示した。再結晶物
を分析したところ、炭素56.50%、水素7.20%
、窒素3.65%およびいおう16.68%であつた。
理論値は、炭素56.07%、水素7.06%、窒素3
.63%およびいおう16.63%である。赤外吸収ス
ペクトルおよびプロトンNMRスペクトルも目的とした
構造に矛盾しなかつた。実施例 3 S−S″−ジ(シクロヘキシル)−N−マージ(p−ト
ルエンスルホニル)−S−S′−(3−ジオキシチアペ
ンタメチレン)−ビス(スルフイルイミン)を調製すべ
く、N−ソジオ一N−クロロ−(p−トルエンスルホン
アミド)・3H2018.037のメタノール100m
1中水溶液を、35〜40℃にて、ジ(2−シクロヘキ
シルチオエチル)スルホン10.527のメタノール1
00m1中攪拌溶液に10分間かけて添加した。
度は自然に上昇した。混合物を冷却して温度を30℃未
満に保え、次いで20〜25℃にて30分間攪拌し、真
空下でもとの体積の半分にまで濃縮した。次いで攪拌し
つつ除々に水を加えて全液量を600m1とした。水を
加えて行くと最初の沈殿物(NaCl)が溶解し、その
のち目的物質が沈殿する。これを濾過し、水洗し、再度
濾過し、乾燥して融点99〜101℃を有する白色結晶
13.4V(収率84%)を得た。エタノールからの再
結晶物は融点101〜102.5℃を示した。再結晶物
を分析したところ、炭素56.50%、水素7.20%
、窒素3.65%およびいおう16.68%であつた。
理論値は、炭素56.07%、水素7.06%、窒素3
.63%およびいおう16.63%である。赤外吸収ス
ペクトルおよびプロトンNMRスペクトルも目的とした
構造に矛盾しなかつた。実施例 3 S−S″−ジ(シクロヘキシル)−N−マージ(p−ト
ルエンスルホニル)−S−S′−(3−ジオキシチアペ
ンタメチレン)−ビス(スルフイルイミン)を調製すべ
く、N−ソジオ一N−クロロ−(p−トルエンスルホン
アミド)・3H2018.037のメタノール100m
1中水溶液を、35〜40℃にて、ジ(2−シクロヘキ
シルチオエチル)スルホン10.527のメタノール1
00m1中攪拌溶液に10分間かけて添加した。
添加したのち、加熱することなく混合物を2時間攪拌し
た。この期間中、粘調な沈殿物が生成したので25m1
のメタノールを追加して攪拌を促進した。生成物を40
0m1のH2Oと混合し、濾過し、水およびメタノール
で洗浄し、再度濾過し、乾燥して融点90〜94℃を有
する白色粉末17.87(収率86%)を得た。メタノ
ールからの再結晶物は融点93.5〜95℃を示した。
再結晶物を分析したところ、窒素4.14%であつた。
理論値は窒素4.07%である。実施例 4 S−S−ジイソプロピル−N−メタンスルホニルスルフ
イルイミンを調製すべく、9.517のメタンスルホン
アミドを、5分間かけて25℃未満にて、49m1の2
.04モル/l次亜塩素酸ナトリウム水溶液に分割添加
した。
た。この期間中、粘調な沈殿物が生成したので25m1
のメタノールを追加して攪拌を促進した。生成物を40
0m1のH2Oと混合し、濾過し、水およびメタノール
で洗浄し、再度濾過し、乾燥して融点90〜94℃を有
する白色粉末17.87(収率86%)を得た。メタノ
ールからの再結晶物は融点93.5〜95℃を示した。
再結晶物を分析したところ、窒素4.14%であつた。
理論値は窒素4.07%である。実施例 4 S−S−ジイソプロピル−N−メタンスルホニルスルフ
イルイミンを調製すべく、9.517のメタンスルホン
アミドを、5分間かけて25℃未満にて、49m1の2
.04モル/l次亜塩素酸ナトリウム水溶液に分割添加
した。
約8ミリモルの遊離の水酸化ナトリウムは、10m1f
)H2OVcO.47のH2SO4を溶解したものを加
えて中和した。このものと、イソプロピルスルフイド1
1.8およびテトラブルルアンモニウム臭化物0.1f
のジクロロメタン70m1中溶液とを反応させて、還流
温度(42℃)にまで昇温させた。5分後にジクロロメ
タン層を分液し、水洗し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
した。
)H2OVcO.47のH2SO4を溶解したものを加
えて中和した。このものと、イソプロピルスルフイド1
1.8およびテトラブルルアンモニウム臭化物0.1f
のジクロロメタン70m1中溶液とを反応させて、還流
温度(42℃)にまで昇温させた。5分後にジクロロメ
タン層を分液し、水洗し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
した。
この溶液を真空下で濃縮し、得られた残留物をジメチル
エーテルで洗浄し、濾過し、乾燥し、融点74.5〜7
7℃を有する白色固体5.57を得た。プロトンNMR
スペクトル(CDCl3溶媒中、テトラメチルシラン内
部標準)は、δ1.41にイソプロピル基の12個のメ
チルプロトンに起因する2重線(J−6.2Hz)、δ
2,91にスルホニルメチル基の3個のプロトンによる
1重線およびδ3.18にイソプロピル基の2個のメチ
ンプロトンによる7重線(J−6.2Hz)をそれぞれ
示した。ベンゼンーヘキサンからの再結晶物を分析した
ところ、炭素39.76%、水素7.88%、窒素6.
71%およびいおう30.64%であつた。理論値は、
炭素39.78%、水素 AA8.11%、窒素6.6
2%およびいおう30.34%である。実施例 5 実施例1ないし3記載の方法と同様にして下記のものを
調製した。
エーテルで洗浄し、濾過し、乾燥し、融点74.5〜7
7℃を有する白色固体5.57を得た。プロトンNMR
スペクトル(CDCl3溶媒中、テトラメチルシラン内
部標準)は、δ1.41にイソプロピル基の12個のメ
チルプロトンに起因する2重線(J−6.2Hz)、δ
2,91にスルホニルメチル基の3個のプロトンによる
1重線およびδ3.18にイソプロピル基の2個のメチ
ンプロトンによる7重線(J−6.2Hz)をそれぞれ
示した。ベンゼンーヘキサンからの再結晶物を分析した
ところ、炭素39.76%、水素7.88%、窒素6.
71%およびいおう30.64%であつた。理論値は、
炭素39.78%、水素 AA8.11%、窒素6.6
2%およびいおう30.34%である。実施例 5 実施例1ないし3記載の方法と同様にして下記のものを
調製した。
第1表ないし第3表に示す通り、本発明のスルフイルイ
ミン類をスコーチ防止剤として種々の配合ゴムに使用し
た。
ミン類をスコーチ防止剤として種々の配合ゴムに使用し
た。
組成は本発明の実施を例示するのみであり、本発明を限
定するものではない。ASTMDl646−61記載の
大形ローターを用いてムー[メ[スコーチ試験を行なつた
。レコーダーを用いて粘度対時間を連結的にプロツトし
た。粘度カーブが最低値から1ポイントもしくは5ポイ
ント上昇するに要した時間(分数)すなわちそれぞれt
Δ1およびt△5をスコーチ阻止の指標とした。t△1
もしくはtΔ5の値が大きい程、スコーチ(早期加硫)
に対する抵抗性が大きいことに成る。スコーチ遅延およ
び加硫特性に関するその他のデータは、デツカ一(De
cker)、ワイス(Wise)およびゲ一り一(Gu
erry)、ラバ一・ワールド(RllbberWOr
ld)、第68頁、1962年12月記載のモンサント
、式振動円板レオメータ一を用いて得た。
定するものではない。ASTMDl646−61記載の
大形ローターを用いてムー[メ[スコーチ試験を行なつた
。レコーダーを用いて粘度対時間を連結的にプロツトし
た。粘度カーブが最低値から1ポイントもしくは5ポイ
ント上昇するに要した時間(分数)すなわちそれぞれt
Δ1およびt△5をスコーチ阻止の指標とした。t△1
もしくはtΔ5の値が大きい程、スコーチ(早期加硫)
に対する抵抗性が大きいことに成る。スコーチ遅延およ
び加硫特性に関するその他のデータは、デツカ一(De
cker)、ワイス(Wise)およびゲ一り一(Gu
erry)、ラバ一・ワールド(RllbberWOr
ld)、第68頁、1962年12月記載のモンサント
、式振動円板レオメータ一を用いて得た。
この装置より得られた関連データは、レオメータートル
クカーブが最小トルク値から4単位(インチ・ポンド単
位)上昇するのに要する時間(分数)T4(スコーチ遅
延の指標)、およびトルクカーブがこれによつて決定さ
れる最大トルク値と最小トルク値との間の差の90%に
達するに要する時間(分数)T9O%である。T9O%
値は最適加硫状態に達するのに要する時間と考えられて
いる。差(T9O%−T4)は、スコーチ遅延期間が終
わつてから実際の加硫が起こるまでに要する時間 .′
を示す。
クカーブが最小トルク値から4単位(インチ・ポンド単
位)上昇するのに要する時間(分数)T4(スコーチ遅
延の指標)、およびトルクカーブがこれによつて決定さ
れる最大トルク値と最小トルク値との間の差の90%に
達するに要する時間(分数)T9O%である。T9O%
値は最適加硫状態に達するのに要する時間と考えられて
いる。差(T9O%−T4)は、スコーチ遅延期間が終
わつてから実際の加硫が起こるまでに要する時間 .′
を示す。
すなわち、加硫速度の相対的指標である。T4値を増加
させしかも(T9O%−T4)を大きく増加させないス
コーチ防止剤が好ましい。その理由は、かかるスコーチ
防止剤は加工を安全と成し、にもかかわらず著しく長い
加硫時間を必要と 1しないからである。レオメーター
カーブ上で得られる最大トルクと最小トルクとの差△ト
ルク(インチ・ポンド単位)は加硫の程度ないし加硫状
態の指標と考えられる。
させしかも(T9O%−T4)を大きく増加させないス
コーチ防止剤が好ましい。その理由は、かかるスコーチ
防止剤は加工を安全と成し、にもかかわらず著しく長い
加硫時間を必要と 1しないからである。レオメーター
カーブ上で得られる最大トルクと最小トルクとの差△ト
ルク(インチ・ポンド単位)は加硫の程度ないし加硫状
態の指標と考えられる。
標準的な試験法に従つて引張強度、伸び率および300
%モジユラスを得た。その際、加硫シートからタンペル
形試験片を打抜き、常用の引張試験機で試験した。この
試験法については、ジ一・シュー・アルベルトー[メiG
.J.AlbertOni)が「インダストリアル・ア
ンド・エンジニアリング・ケミストリ一(Indust
rialandEngineeringChemist
Iy)」の分析篇(AnalyticalEditlO
n)、第3巻、第236頁(1931年)のゴムの゛引
張特性試験用の最新自記装置゛の項にさらに詳しく記載
している。試験用配合ゴムは、レオメーターカーブより
決まるT9O%の時間(分数)加硫した。種々の配合ゴ
ムを第1表に示す。
%モジユラスを得た。その際、加硫シートからタンペル
形試験片を打抜き、常用の引張試験機で試験した。この
試験法については、ジ一・シュー・アルベルトー[メiG
.J.AlbertOni)が「インダストリアル・ア
ンド・エンジニアリング・ケミストリ一(Indust
rialandEngineeringChemist
Iy)」の分析篇(AnalyticalEditlO
n)、第3巻、第236頁(1931年)のゴムの゛引
張特性試験用の最新自記装置゛の項にさらに詳しく記載
している。試験用配合ゴムは、レオメーターカーブより
決まるT9O%の時間(分数)加硫した。種々の配合ゴ
ムを第1表に示す。
これらの配合ゴムを、いおう、種々の加硫促進剤−スコ
ーチ防止剤系および種々の添加剤と混練した。これらの
配合ゴムのレオメーターデータ、応力/歪データ★およ
びムー[メ[試験データを第2表ないし第7表に示す。「
部」は全て「重量部」である。本発明のスコーチ防止剤
の性能評価に当り、配合ゴムA(162.5部)には加
硫促進剤として0.5部の2−(4−モルホリノチオ)
−ベンズチァゾールおよび0.6部のスコーチ防止剤を
用いた。
ーチ防止剤系および種々の添加剤と混練した。これらの
配合ゴムのレオメーターデータ、応力/歪データ★およ
びムー[メ[試験データを第2表ないし第7表に示す。「
部」は全て「重量部」である。本発明のスコーチ防止剤
の性能評価に当り、配合ゴムA(162.5部)には加
硫促進剤として0.5部の2−(4−モルホリノチオ)
−ベンズチァゾールおよび0.6部のスコーチ防止剤を
用いた。
R−100型レオメータ一を100cpmで使用した。
結果を第2表にまとめる。他のスコーチ防止剤を第2表
と同一条件 (162.5部の配合ゴムAlO.5部の2−(4モル
ホリノチオ)−ベンゾチアゾール、0.6部のスコーチ
防止剤、R−100型レオメータ一100cpm、13
5℃)下で性能評価した。
結果を第2表にまとめる。他のスコーチ防止剤を第2表
と同一条件 (162.5部の配合ゴムAlO.5部の2−(4モル
ホリノチオ)−ベンゾチアゾール、0.6部のスコーチ
防止剤、R−100型レオメータ一100cpm、13
5℃)下で性能評価した。
スコーチの防止は、スコーチ防止剤を加えた配合ゴムの
T4値を対照実験(スコーチ防止剤を含有しない同じ配
合ゴム)のT4値(T4c)で割つたもので示す。この
比T4/T4Oが1より大きい場合には、試験した化合
物はスコーチ防止剤である。結果を第3表に示す。スル
フイルイミン系スコーチ防止剤(0.6部)を配合ゴム
中で加硫促進剤として0.5部のN一(t−ブチル)−
2−ベンゾチアゾールスルフエンアミを用いて性能評価
した。
T4値を対照実験(スコーチ防止剤を含有しない同じ配
合ゴム)のT4値(T4c)で割つたもので示す。この
比T4/T4Oが1より大きい場合には、試験した化合
物はスコーチ防止剤である。結果を第3表に示す。スル
フイルイミン系スコーチ防止剤(0.6部)を配合ゴム
中で加硫促進剤として0.5部のN一(t−ブチル)−
2−ベンゾチアゾールスルフエンアミを用いて性能評価
した。
結果は第4表の通りである。LHS型レオメータ一を3
00cpmで使用した。本発明のスコーチ防止剤は、第
5表および第6表に示される通り、天然ゴム以外のいお
う加硫性ゴムに使用し得る。
00cpmで使用した。本発明のスコーチ防止剤は、第
5表および第6表に示される通り、天然ゴム以外のいお
う加硫性ゴムに使用し得る。
R−100型レオメータ一を100cpmにて使用した
。実施例1および3のスコーチ防止剤ならびにスコーチ
防止剤滝13および應18は、上記の配合中でスコーチ
防止作用を発揮した。
。実施例1および3のスコーチ防止剤ならびにスコーチ
防止剤滝13および應18は、上記の配合中でスコーチ
防止作用を発揮した。
実施例1、2および3のスコーチ防止剤(各0.8部)
はまた、210.5部の配合ゴムBに対し、1.8部の
いおうおよび0.7部のN−(シクロヘキシル)−2−
ベンゾチアゾールスルフエンアミドの使用下でスコーチ
防止作用を発揮した。
はまた、210.5部の配合ゴムBに対し、1.8部の
いおうおよび0.7部のN−(シクロヘキシル)−2−
ベンゾチアゾールスルフエンアミドの使用下でスコーチ
防止作用を発揮した。
スコーチ防止剤./F6.lOならびに実施例1および
3のスコーチ防止剤は、210.5部の配合ゴムBに対
し、1.6部のいおうおよび1.0部のスコーチ防止剤
および0.9部の2−(4−モルホリノジチオ)ベンゾ
チアゾールの使用下でスコーチ防止作用を発揮した。
3のスコーチ防止剤は、210.5部の配合ゴムBに対
し、1.6部のいおうおよび1.0部のスコーチ防止剤
および0.9部の2−(4−モルホリノジチオ)ベンゾ
チアゾールの使用下でスコーチ防止作用を発揮した。
市販の配合ゴムはしばしばある種の添加助剤を含有して
おり、これがスコーチの助長に寄与している。
おり、これがスコーチの助長に寄与している。
その例には、レゾルシノール/ヘキサメチレンテトラミ
ン(布接着用ゴム)およびN−Nビス(1−メチルヘプ
チル)−p−フエニレンジアミン(オゾン亀裂防止剤)
がある。第7表に示す通り、本発明のスルフイルイミン
類は、かかる配合ゴムのスコーチを有効に抑制する。レ
オメータ一試験はR行なつた。
ン(布接着用ゴム)およびN−Nビス(1−メチルヘプ
チル)−p−フエニレンジアミン(オゾン亀裂防止剤)
がある。第7表に示す通り、本発明のスルフイルイミン
類は、かかる配合ゴムのスコーチを有効に抑制する。レ
オメータ一試験はR行なつた。
上記した実施例は全て例示を目的としており、本発明を
限定するものではない。
限定するものではない。
上記した実施例において、スコーチ防止剤、加硫促進剤
およびゴムを、さきに記載したものと任意に取りかえて
同様のスコーチ防止効果を得ることができる。さらに、
上記実施例においてスコーチ防止剤および他の成分の量
をさきの一般的記載に従つて変えてもスコーチ防止効果
が得られる。本発明のスコーチ防止剤の使用濃度はゴム
100重量部当り0.10〜5.0重量部であり、0.
05〜10.0部でも有効である。
およびゴムを、さきに記載したものと任意に取りかえて
同様のスコーチ防止効果を得ることができる。さらに、
上記実施例においてスコーチ防止剤および他の成分の量
をさきの一般的記載に従つて変えてもスコーチ防止効果
が得られる。本発明のスコーチ防止剤の使用濃度はゴム
100重量部当り0.10〜5.0重量部であり、0.
05〜10.0部でも有効である。
好ましい濃度範囲は0.25〜5.0部であり、さらに
好ましい範囲は0325〜3.0部であり、最も好まし
い範囲は0.25〜1.50部である。本発明のスコー
チ防止剤は、加硫促進剤の添加と同時にゴム状ポリマー
に添加するのが好ましい。
好ましい範囲は0325〜3.0部であり、最も好まし
い範囲は0.25〜1.50部である。本発明のスコー
チ防止剤は、加硫促進剤の添加と同時にゴム状ポリマー
に添加するのが好ましい。
但し、この添加順序は、本発明の化合物を有効に使用す
る上で本質的ではない。さきの実施例のデータが示す事
実によれば、加硫促進剤がジアリールグアニジン類たと
えばジフエニルグアニジンであるが、またはチアゾール
類詳しくはベンゾチアシルアミノジスルフィド類たとえ
ば2−(モルホリノジチオ)−ベンゾチアゾールもしく
はチアゾール類(スルフエンアミド類を含む)、さらに
詳しくはチアゾールスルフエンアミド類、またさらに詳
しくはベンゾチアゾールスルフエンアミド類たとえば2
−(モルホリノチオ)−ベンゾチアゾールおよびシクロ
ヘキシル一2−ベンゾチアゾールスルフエンアミドであ
るかを問わず、すなわち使用する加硫促進剤の種類に関
係なくその存在下で、本発明の化合物はスコーチ防止剤
として有効である。
る上で本質的ではない。さきの実施例のデータが示す事
実によれば、加硫促進剤がジアリールグアニジン類たと
えばジフエニルグアニジンであるが、またはチアゾール
類詳しくはベンゾチアシルアミノジスルフィド類たとえ
ば2−(モルホリノジチオ)−ベンゾチアゾールもしく
はチアゾール類(スルフエンアミド類を含む)、さらに
詳しくはチアゾールスルフエンアミド類、またさらに詳
しくはベンゾチアゾールスルフエンアミド類たとえば2
−(モルホリノチオ)−ベンゾチアゾールおよびシクロ
ヘキシル一2−ベンゾチアゾールスルフエンアミドであ
るかを問わず、すなわち使用する加硫促進剤の種類に関
係なくその存在下で、本発明の化合物はスコーチ防止剤
として有効である。
チウラムスルフイドたとえばテトラメチルチウラムモノ
スルフイドおよび同ジスルフイドならびにテトラエチル
チウラムモノスルフイドおよび同ジスルフイド、さらに
また他のベンゾチアゾールスルフエンアミドたとえばN
−(t−ブチル)−2−ベンゾチアゾールスルフエンア
ミドも使用し得る。本発明の実施が有効である多種の加
硫促進剤は、バンダービルト・ラバ一・ハンドブツク(
VanderbildRubberHandbOOk)
、1968年版、アール、テイ一 ・バンダービルト(
R.T.Vanderbild)社の第242頁ない
し第244頁、およびデユポン社エラストマー ・ケミ
カルズ・ディパートメントの技術報「加硫促進剤、加硫
剤およびスコーチ防止剤小報( Accerlerat
Ors)VulcanizingAgentsandR
etarders)BrOchure)A6.SDA5
4457」に記載および例示されている。
スルフイドおよび同ジスルフイドならびにテトラエチル
チウラムモノスルフイドおよび同ジスルフイド、さらに
また他のベンゾチアゾールスルフエンアミドたとえばN
−(t−ブチル)−2−ベンゾチアゾールスルフエンア
ミドも使用し得る。本発明の実施が有効である多種の加
硫促進剤は、バンダービルト・ラバ一・ハンドブツク(
VanderbildRubberHandbOOk)
、1968年版、アール、テイ一 ・バンダービルト(
R.T.Vanderbild)社の第242頁ない
し第244頁、およびデユポン社エラストマー ・ケミ
カルズ・ディパートメントの技術報「加硫促進剤、加硫
剤およびスコーチ防止剤小報( Accerlerat
Ors)VulcanizingAgentsandR
etarders)BrOchure)A6.SDA5
4457」に記載および例示されている。
本発明のスコーチ防止剤を添加したポリマーは、その分
野でたとえばタイヤおよび他の工業製品に好適に使用し
得る。
野でたとえばタイヤおよび他の工業製品に好適に使用し
得る。
本発明を説明するために上記にいくつかの代表的な実施
態様を示したが、本発明の技術思想および技術的範囲を
離れることなく種々の変更および変形がなし得ることは
言うまでもない。
態様を示したが、本発明の技術思想および技術的範囲を
離れることなく種々の変更および変形がなし得ることは
言うまでもない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ および ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は第1級アルキル基(炭素原子数1〜2
0)、第2級アルキル基(炭素原子数3〜20)、シク
ロアルキル基(炭素原子数5〜20)、アラルキル基(
炭素原子数7〜20)およびアリール基(炭素原子数6
〜20)より成る群から選ばれ、上記アラルキル基およ
びアリール基は任意に1個もしくは2個のアルキル基(
炭素原子数1〜4)、アルコキシ基(炭素原子数1〜4
)、ハロゲンもしくはニトロ基で核置換されており、R
^2は第1級アルキル基(炭素原子数2〜20)、第2
級アルキル基(炭素原子数3〜20)、第3級アルキル
基(炭素原子数4〜20)およびシクロアルキル基(炭
素原子数5〜20)より成る群から選ばれ、R^3およ
びR^4はR^1として上記した基および第3級アルキ
ル基(炭素原子数4〜20)より成る群から選ばれ、R
^5は第1級アルキル基(炭素原子数2〜20)、第2
級アルキル基(炭素原子数3〜20)およびシクロアル
キル基(炭素原子数5〜20)より成る群から選ばれ、
R^6、R^7およびR^8は水素および第1級アルキ
ル基(炭素原子数1〜4)より成る群から選ばれ、Xは
−CN、−CO_2R^3、−CO_2NH_2、−C
O_2NHR^3、−CO_2N(R^1)_2、−C
(O)R^3および−SO_2R^3より成る群から選
ばれ、Yは−C(O)−および−SO_2−より成る群
から選ばれる。 〕のいずれかを有するスコーチ防止剤の少くとも1種を
遅延量含有する加硫性ゴムより成る組成物。2 R^1
を第1級アルキル基(炭素原子数2〜13)、第2級ア
ルキル基(炭素原子数3〜12)シクロヘキシル基およ
びフェニル基より成る群から選び、R^2を第2級アル
キル基(炭素原子数3〜12)、第3級アルキル基(炭
素原子数4〜12)、およびシクロヘキシル基より成る
群から選び、R^3を第1級アルキル基(炭素原子数1
〜12)、第2級アルキル基(炭素原子数3〜12)、
第3級アルキル基(炭素原子数4〜12)、シクロヘキ
シル基、フェニル基、p−クロロフェニル基、p−トリ
ル基およびp−ニトロフェニル基より成る群から選び、
R^6、R^7およびR^8は水素であり、Xは−CN
、−CO_2CH_3もしくは−CO_2C_2H_5
のいずれかであり、Yは−SO_2−である特許請求の
範囲第1項記載の組成物。 3 スコーチ防止剤が、 S・S−ジ(イソプロピル)−N−(p−トルエンスル
ホニル)スルフイルイミン、S・S−ジ(イソプロピル
)−N−(ベンゼンスルホニル)スルフイルイミン、S
−イソプロピル−S−(2−カルボメトキシエチル)−
N−(p−トルエンスルホニル)スルフイルイミン、S
−イソプロピル−S−(2−カルボメトキシエチル)−
N−(ベンゼンスルホニル)スルフイルイミン、S−シ
クロヘキシル−S−(2−カルボメトキシエチル)−N
−(p−トルエンスルホニル)スルフイルイミン、およ
び S−シクロヘキシル−3−(2−カルボメトキシエチル
)−N−(ベンゼンスルホニル)スルフイルイミンより
成る群から選択される特許請求の範囲第1項記載の組成
物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/707,970 US4085093A (en) | 1976-07-23 | 1976-07-23 | Sulfilimines as premature vulcanization inhibitors |
US000000707970 | 1976-07-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5313656A JPS5313656A (en) | 1978-02-07 |
JPS5930174B2 true JPS5930174B2 (ja) | 1984-07-25 |
Family
ID=24843889
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52087233A Expired JPS5930174B2 (ja) | 1976-07-23 | 1977-07-20 | スコ−チ防止剤含有加硫性ゴム組成物 |
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Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP58232643A Granted JPS59130266A (ja) | 1976-07-23 | 1983-12-09 | スルフイルイミン類 |
Country Status (9)
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JP (2) | JPS5930174B2 (ja) |
BE (1) | BE856883A (ja) |
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FR (2) | FR2371478A1 (ja) |
GB (1) | GB1547522A (ja) |
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-
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-
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- 1977-06-22 GB GB26121/77A patent/GB1547522A/en not_active Expired
- 1977-07-13 FR FR7721683A patent/FR2371478A1/fr active Granted
- 1977-07-15 BE BE179407A patent/BE856883A/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-07-18 IT IT50324/77A patent/IT1079341B/it active
- 1977-07-20 JP JP52087233A patent/JPS5930174B2/ja not_active Expired
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- 1977-07-22 NL NLAANVRAGE7708181,A patent/NL180325C/xx not_active IP Right Cessation
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1983
- 1983-12-09 JP JP58232643A patent/JPS59130266A/ja active Granted
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FR2371478A1 (fr) | 1978-06-16 |
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