JPS5929070B2 - ３−アミノ−４−カルボアルコキシ安息香酸−４′−フエノキシアニリド並びにその製造及び使用方法 - Google Patents
３−アミノ−４−カルボアルコキシ安息香酸−４′−フエノキシアニリド並びにその製造及び使用方法Info
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- JPS5929070B2 JPS5929070B2 JP51054465A JP5446576A JPS5929070B2 JP S5929070 B2 JPS5929070 B2 JP S5929070B2 JP 51054465 A JP51054465 A JP 51054465A JP 5446576 A JP5446576 A JP 5446576A JP S5929070 B2 JPS5929070 B2 JP S5929070B2
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B29/00—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling
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- C09B29/18—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from coupling components containing hydroxy as the only directing group ortho-Hydroxy carbonamides
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明の対象は下記一般式（１）
〔式中、Ｒはメチル一又はエチル−基を、Ｘは同一又は
相異るハロゲン原子、殊にクロル一又はブロム一原子を
、ｎはＯ又は１〜４の整数を意味する。
相異るハロゲン原子、殊にクロル一又はブロム一原子を
、ｎはＯ又は１〜４の整数を意味する。
〕で示される３−アミノ−４−カルボアルコキシ安息香
酸−４′−フエノキシアニリド並びにその製造法であり
、この製法は下記一般式（ｎ）〔式中、Ｒは土述の意味
を有し、Ａはアミノ基に変りうる基、例えばニトロ一又
はアシルアミノ一基（例えばアセチルアミノ基）を意味
する。
酸−４′−フエノキシアニリド並びにその製造法であり
、この製法は下記一般式（ｎ）〔式中、Ｒは土述の意味
を有し、Ａはアミノ基に変りうる基、例えばニトロ一又
はアシルアミノ一基（例えばアセチルアミノ基）を意味
する。
〕で示される４−カルボアルコキシベンゾイルクロリド
を下記一般式叫〔式中、ｘ及びｎは上述の意味を有する
。
を下記一般式叫〔式中、ｘ及びｎは上述の意味を有する
。
〕で示される４−アミノジフエニルエーテルと、例えば
シヨツテン・バウマン（ＳｃｈＯｔｔｅｎＢａｕ−Ｍａ
ｒｍ）の反応により、縮合せしめ、ついで基Ａをアミノ
基に変える（例えばニトロ基を還元するか又はアシルア
ミノ基を加水分解する）ことよりなる。上記縮合反応は
酸結剤即ち無機又は有機の塩基、例えば酢酸アルカリ金
属、炭酸アルカリ金属又は重炭酸アルカリ金属或は有機
アミン殊に芳香族複素環式アミン（特にピリジン）の存
在下に行うのが好都合である。
シヨツテン・バウマン（ＳｃｈＯｔｔｅｎＢａｕ−Ｍａ
ｒｍ）の反応により、縮合せしめ、ついで基Ａをアミノ
基に変える（例えばニトロ基を還元するか又はアシルア
ミノ基を加水分解する）ことよりなる。上記縮合反応は
酸結剤即ち無機又は有機の塩基、例えば酢酸アルカリ金
属、炭酸アルカリ金属又は重炭酸アルカリ金属或は有機
アミン殊に芳香族複素環式アミン（特にピリジン）の存
在下に行うのが好都合である。
該縮合は一般に２０〜２００℃、好ましくは５０〜１５
０℃、殊に７０〜１２０℃の温度で、場合により不活性
溶剤、好ましくは芳香族溶剤、例えばトルオール、塩素
化ベンゾール又は低級安息香酸アルキルエステルの存在
下に行う。一般式叫の４−アミノジフエニルエーテルは
例えば下記一般式（代）〔式中、Ｘ及びｎは上述の意味
を有し、Ｍはカリウム一又はナトリウム一原子を意味す
る。
０℃、殊に７０〜１２０℃の温度で、場合により不活性
溶剤、好ましくは芳香族溶剤、例えばトルオール、塩素
化ベンゾール又は低級安息香酸アルキルエステルの存在
下に行う。一般式叫の４−アミノジフエニルエーテルは
例えば下記一般式（代）〔式中、Ｘ及びｎは上述の意味
を有し、Ｍはカリウム一又はナトリウム一原子を意味す
る。
〕で示されるアルカリフェノラードをｐ−ニトロクロル
ベンゾールと、フエノール又は有機溶剤、例えばジメチ
ルホルムアミド又はジメチルスルホキシドの存在下に、
反応せしめ、ついでニトロ基を還元することによつて製
造することができる。この式（ホ）の４−アミノジフエ
ニルエーテルとしては例えば下記の化合物を使用するこ
とができる：４−アミノジフエニルエーテル、４−アミ
ノ−４′ークロルジフエニルエーテル、４−アミノ−２
′・３′−ジクロルジフエニルーエーテル、４−アミノ
−２′・ｌ−ジクロルジフエニルエーテル、４−アミノ
−２１・５′−ジクロルジフエニルエーテル、４ノつ −アミノ−２′・４′・５′一トリクロルジフエニルエ
ーテル、４−アミノ−２′・３′・４！・５′−テトラ
クロルジフエニルエーテル、４−アミノ−２′−プロム
ジフエニルエーテル、４−アミノ−４′−プロムジフエ
ニルエーテル。
ベンゾールと、フエノール又は有機溶剤、例えばジメチ
ルホルムアミド又はジメチルスルホキシドの存在下に、
反応せしめ、ついでニトロ基を還元することによつて製
造することができる。この式（ホ）の４−アミノジフエ
ニルエーテルとしては例えば下記の化合物を使用するこ
とができる：４−アミノジフエニルエーテル、４−アミ
ノ−４′ークロルジフエニルエーテル、４−アミノ−２
′・３′−ジクロルジフエニルーエーテル、４−アミノ
−２′・ｌ−ジクロルジフエニルエーテル、４−アミノ
−２１・５′−ジクロルジフエニルエーテル、４ノつ −アミノ−２′・４′・５′一トリクロルジフエニルエ
ーテル、４−アミノ−２′・３′・４！・５′−テトラ
クロルジフエニルエーテル、４−アミノ−２′−プロム
ジフエニルエーテル、４−アミノ−４′−プロムジフエ
ニルエーテル。
一般式（１１）の４−カルボアルコキシベンゾイルクロ
リドは例えばニトロテレフタル酸ジアルキルエステルを
部分的加水分解に付し、ついで得られた３−ニトロ−４
−カルボアルコキシ安息香酸を酸塩化物を製造するため
の慣用の試剤、例えば塩化チオニル又はオキシ三塩化燐
と反応せしめることによつて製造することができる。
リドは例えばニトロテレフタル酸ジアルキルエステルを
部分的加水分解に付し、ついで得られた３−ニトロ−４
−カルボアルコキシ安息香酸を酸塩化物を製造するため
の慣用の試剤、例えば塩化チオニル又はオキシ三塩化燐
と反応せしめることによつて製造することができる。
この方法に準じて３−アシルアミノ−４−カルボアルコ
キシ安息香酸をその酸塩化物に変えることができる。こ
の場合ゞアシルJメ[基は殊にベンゾイル基又は炭素原子
数２〜５のアルカノイル基（殊にアセチル基）を意味す
る。式（１１）の酸塩化物と式傾のアミンとの縮合によ
つて得られた化合物はＮ−アシル基が存在する場合はこ
れを酸又はアルカリ液と処理することにより、或はニト
ロ基が存在する場合にはこれを例えば金属（例えば鉄又
は亜鉛）又は錫（３）塩で還元することにより、好まし
くは加圧下に且つニツケル触媒の存在下に水素化するこ
とにより対応する３−アミノ−４−カルボアルコキシ−
安息香酸−４′−フエノキシアニリドに変える。
キシ安息香酸をその酸塩化物に変えることができる。こ
の場合ゞアシルJメ[基は殊にベンゾイル基又は炭素原子
数２〜５のアルカノイル基（殊にアセチル基）を意味す
る。式（１１）の酸塩化物と式傾のアミンとの縮合によ
つて得られた化合物はＮ−アシル基が存在する場合はこ
れを酸又はアルカリ液と処理することにより、或はニト
ロ基が存在する場合にはこれを例えば金属（例えば鉄又
は亜鉛）又は錫（３）塩で還元することにより、好まし
くは加圧下に且つニツケル触媒の存在下に水素化するこ
とにより対応する３−アミノ−４−カルボアルコキシ−
安息香酸−４′−フエノキシアニリドに変える。
その際の処理温度は２０〜２００℃殊に５０〜１５０℃
である。本発明による化合物は良好な収率及び純度を以
て得られる。該化合物は場合により極めて種々の溶剤、
例えばアルコール、ベンゾール、トルオール又は氷酢か
ら再結晶することができる。本発明による新規な３−ア
ミノ−４−カルボアルコキシ安息香酸−４仁フエノキシ
アニリド化合物は価値あるジアゾ成分であり、殊にジア
ゾ化された形で例えば２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸
アニリド一誘導体とカツプリングしてアゾピグメントを
形成することができる。
である。本発明による化合物は良好な収率及び純度を以
て得られる。該化合物は場合により極めて種々の溶剤、
例えばアルコール、ベンゾール、トルオール又は氷酢か
ら再結晶することができる。本発明による新規な３−ア
ミノ−４−カルボアルコキシ安息香酸−４仁フエノキシ
アニリド化合物は価値あるジアゾ成分であり、殊にジア
ゾ化された形で例えば２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸
アニリド一誘導体とカツプリングしてアゾピグメントを
形成することができる。
このピグメントは鮮明な色調及び極めて良好な堅牢性、
例えば耐光性及び耐マイグレーシヨン性を示すことで卓
越している。ドイツ特許第１６４４１９１号明細書より
、カツプリング成分として２−ヒドロキシ−３ナフトー
ル−４′−ベンゾイルアミノ−アニリドを含むアゾピグ
メントが公知となつているが、しかしこのピグメントは
ジアゾ成分の点で本発明による化合物とは相違する。本
発明によるピグメントは上記ドイツ特許第１６４４１９
１号明細書に記載のピグメントに比して卓越した耐光性
及び耐候性を有する点で特にすぐれている。以下の例は
本発明による化合物の製法を説明するものである。
例えば耐光性及び耐マイグレーシヨン性を示すことで卓
越している。ドイツ特許第１６４４１９１号明細書より
、カツプリング成分として２−ヒドロキシ−３ナフトー
ル−４′−ベンゾイルアミノ−アニリドを含むアゾピグ
メントが公知となつているが、しかしこのピグメントは
ジアゾ成分の点で本発明による化合物とは相違する。本
発明によるピグメントは上記ドイツ特許第１６４４１９
１号明細書に記載のピグメントに比して卓越した耐光性
及び耐候性を有する点で特にすぐれている。以下の例は
本発明による化合物の製法を説明するものである。
なお例中に記載の２部７及び７％７は別様に記載されて
いない限り重量に関してのものである。又重量部と容量
部との関係はＫｇとｌとの関係に相当する。例１ ３−ニトロ−４−カルボメトキシ安息香酸４５０部をク
ロルベンゾール１０００容量部に溶解する。
いない限り重量に関してのものである。又重量部と容量
部との関係はＫｇとｌとの関係に相当する。例１ ３−ニトロ−４−カルボメトキシ安息香酸４５０部をク
ロルベンゾール１０００容量部に溶解する。
ついで約１００容量部のクロルベンゾールを共沸的に溜
去して該エステルを無水の状態となす。ついで予め乾燥
したジメチルホルムアミド１０容量部の添加の下に７０
℃で塩化チオニル２６０部（−１５８容量部）を滴下す
る。４〜５時間の後過剰の塩化チオニルを少量のクロル
ベンゾールと共に水流ポンプによる減圧下に溜去する。
去して該エステルを無水の状態となす。ついで予め乾燥
したジメチルホルムアミド１０容量部の添加の下に７０
℃で塩化チオニル２６０部（−１５８容量部）を滴下す
る。４〜５時間の後過剰の塩化チオニルを少量のクロル
ベンゾールと共に水流ポンプによる減圧下に溜去する。
形成された酸塩化物をクロルベンゾールに溶解された状
態で少量づＸ下記の如く反応せしめる。４−アミノジフ
エニルエーテル３７４部を８０℃でクロルベンゾール５
００容量部とピリジン１６０容量部との中に溶解し、こ
れに３時間でクロルベンゾールに溶解されている上記酸
塩化物を加え、暫時１００℃に加熱する。
態で少量づＸ下記の如く反応せしめる。４−アミノジフ
エニルエーテル３７４部を８０℃でクロルベンゾール５
００容量部とピリジン１６０容量部との中に溶解し、こ
れに３時間でクロルベンゾールに溶解されている上記酸
塩化物を加え、暫時１００℃に加熱する。
ついでこの混合物を２％炭酸ナトリウム溶液４０００容
量部に加える。次に冷却すると目的生成物が沈澱する。
水蒸気を用いてクロルベンゾールとピリジンとを駆遂す
る。ついで生成物を吸引▲取し、乾燥すると、．次式で
示される化合物（融点１４６〜１４８℃）６２０部が得
られる。
量部に加える。次に冷却すると目的生成物が沈澱する。
水蒸気を用いてクロルベンゾールとピリジンとを駆遂す
る。ついで生成物を吸引▲取し、乾燥すると、．次式で
示される化合物（融点１４６〜１４８℃）６２０部が得
られる。
この４−（３′−ニトロ−４′一カルボメトキシベンゾ
イルアミノ）−ジフエニルエーテル２５６部をエタノー
ル１５００容量部中で、珪藻土に担持せしめたニツケル
触媒１５部の添加下に、５０℃、５０バールで３時間で
還元する。
イルアミノ）−ジフエニルエーテル２５６部をエタノー
ル１５００容量部中で、珪藻土に担持せしめたニツケル
触媒１５部の添加下に、５０℃、５０バールで３時間で
還元する。
この熱い溶液を吸引ｐ過し、沢液中に水を注意深く添加
することによつて生成アミンを沈澱せしめる。これを吸
弓▲取する。乾燥後得られた次式なる生成物はエタノー
ル、ベンゾール又は氷酢から再結晶することができる。
することによつて生成アミンを沈澱せしめる。これを吸
弓▲取する。乾燥後得られた次式なる生成物はエタノー
ル、ベンゾール又は氷酢から再結晶することができる。
収率：７０％：融点：１７２〜１７５℃ｏ例２
４−アミノ−４′−クロルジフエニルエーテル１０５部
をトルオール１００容量部とピリジン５０容量部とから
なる混合物中に７０〜８０℃で溶解する。
をトルオール１００容量部とピリジン５０容量部とから
なる混合物中に７０〜８０℃で溶解する。
ついで攪拌しながら３−ニトロ−４一カルボメトキシベ
ンゾイルクロリド１２２部を滴下する。反応は約４時間
の後に終了した。ついで反応混合物を２％炭酸ナトリウ
ム溶液２０００容量部に加え、トルオールとピリジンと
を水蒸気によつて溜去する。生成物を乾燥した後の収量
は１９０部であり、その融点は１３４℃である。
ンゾイルクロリド１２２部を滴下する。反応は約４時間
の後に終了した。ついで反応混合物を２％炭酸ナトリウ
ム溶液２０００容量部に加え、トルオールとピリジンと
を水蒸気によつて溜去する。生成物を乾燥した後の収量
は１９０部であり、その融点は１３４℃である。
この４−（′３′−ニトロ−ｌ−カルボメトキシ−ベン
ゾイルアミノ）−４′−クロルジフエニルエーテル１９
０部をエタノール２０００容量部中でニツケル触媒〔Ｒ
ＣＨ５５／５； ルールヘミ一社（Ｒｕｈｒｃｈｅｍｉ
ｅ）〕１２７及び酢酸ナトリウム２０７の添加の下に５
０℃、７０バールで３時間以内で還元する。
ゾイルアミノ）−４′−クロルジフエニルエーテル１９
０部をエタノール２０００容量部中でニツケル触媒〔Ｒ
ＣＨ５５／５； ルールヘミ一社（Ｒｕｈｒｃｈｅｍｉ
ｅ）〕１２７及び酢酸ナトリウム２０７の添加の下に５
０℃、７０バールで３時間以内で還元する。
ついで例１に記載の如く後処理すると、次式なる化合物
１３４部が得られる。
１３４部が得られる。
融点：１７０〜１７５℃ｏ例３
２・５−ジクロルフエノール１７１部中に７５から１２
０℃に上昇する温度で水酸化カリウム（８６％）６７部
を徐々に導入する。
０℃に上昇する温度で水酸化カリウム（８６％）６７部
を徐々に導入する。
反応を完結せしめるために１〜２時間よく攪拌する。つ
いで９０℃で４−クロルニトロベンゾール１５７部（＝
１２５容量部）を２時間で滴下する。その際温度は１３
５℃まで土昇しうる。ついでコルベンの内容物を全体で
４時間の後２％苛性ソーダ溶液５００容量部に注ぎ、９
０℃で１時間充分に攪拌する。上部水性層を分離し、つ
いで水で数回洗滌する。次に３０〜４０℃に冷却する。
その際生成物が粒状の固体となる。洗滌水はＰＨｌとな
す。沈澱した４−ニトロ−２′・５′−ジクロルフエニ
ルエーテルを吸引沢取する。これはエタノールから再結
晶することができる（融点：９６℃：収率：８８％）。
氷酢４００容量部中に鉄瀘屑１５０部を導入し、８０℃
に加熱する。
いで９０℃で４−クロルニトロベンゾール１５７部（＝
１２５容量部）を２時間で滴下する。その際温度は１３
５℃まで土昇しうる。ついでコルベンの内容物を全体で
４時間の後２％苛性ソーダ溶液５００容量部に注ぎ、９
０℃で１時間充分に攪拌する。上部水性層を分離し、つ
いで水で数回洗滌する。次に３０〜４０℃に冷却する。
その際生成物が粒状の固体となる。洗滌水はＰＨｌとな
す。沈澱した４−ニトロ−２′・５′−ジクロルフエニ
ルエーテルを吸引沢取する。これはエタノールから再結
晶することができる（融点：９６℃：収率：８８％）。
氷酢４００容量部中に鉄瀘屑１５０部を導入し、８０℃
に加熱する。
ついで４−ニトロ−２１・５′一ジクロルジフエニルエ
ーテル１５２部を徐々に導入す。ついで温度を１０５〜
１１０℃に高め、還元を行う。３時間後コルベンの内容
物を熱時に吸引沢過し、沢液に同量の水を加える。
ーテル１５２部を徐々に導入す。ついで温度を１０５〜
１１０℃に高め、還元を行う。３時間後コルベンの内容
物を熱時に吸引沢過し、沢液に同量の水を加える。
その際相応するアミノジフエニルエーテルが沈澱する。
これを吸引沢過により分離し、乾燥する（融点７２〜７
４℃）。クロルベンゾール３００容量部とピリジン３０
容量部とからなる混合物に２ζ５７−ジクロル−４ーア
ミノジフエニルエーテル７０部を８０℃で溶解し、攪拌
しながら、３−ニトロ−４−カルボメトキシーベンゾイ
ルークロリド７０部をクロルベンゾールに溶解した溶液
を滴下する。
これを吸引沢過により分離し、乾燥する（融点７２〜７
４℃）。クロルベンゾール３００容量部とピリジン３０
容量部とからなる混合物に２ζ５７−ジクロル−４ーア
ミノジフエニルエーテル７０部を８０℃で溶解し、攪拌
しながら、３−ニトロ−４−カルボメトキシーベンゾイ
ルークロリド７０部をクロルベンゾールに溶解した溶液
を滴下する。
約４時間後に縮合が完了した。この混合物を約９０℃に
冷却した後３％炭酸ナトリウム溶液１０００容量部に注
ぎ、ついでクロルベンゾールとピリジンとを水蒸気によ
り溜去する。乾燥後のニトロ化合物の収量は７６部であ
り、その融点は７８℃である。
冷却した後３％炭酸ナトリウム溶液１０００容量部に注
ぎ、ついでクロルベンゾールとピリジンとを水蒸気によ
り溜去する。乾燥後のニトロ化合物の収量は７６部であ
り、その融点は７８℃である。
この４−（′３１−ニトロ−ｌ−カルボメトキシ−ベン
ゾイルアミノ）−２′・５１−ジクロルジフエニルエー
テル３７部を氷酢３８０容量部中に導入し、８０℃に加
熱する。
ゾイルアミノ）−２′・５１−ジクロルジフエニルエー
テル３７部を氷酢３８０容量部中に導入し、８０℃に加
熱する。
ついで１時間で鉄鑓屑３８部を加える。その際温度が上
昇する。１０５〜１１０℃に３時間保つ。
昇する。１０５〜１１０℃に３時間保つ。
後処理は例２に記載の如く行う。かくして次式
フ
で示される化合物３０部が得られる。
その融点は２１７℃である。例４
２・４・５−トリクロルフエノール１００部を８０℃で
熔融し、撹拌しながら水酸化カリウム３０部を２時間で
８０〜１２０℃で導入する。
熔融し、撹拌しながら水酸化カリウム３０部を２時間で
８０〜１２０℃で導入する。
ついで４−クロルーニトロベンゾール８１部（６２．５
容量部）を９０℃で滴下する。
容量部）を９０℃で滴下する。
その際温度を滴下の終りに１５０℃に高める。この反応
は４〜５時間で終了した。９０℃に冷却した後コルベン
の内容物を攪拌しながら３％苛性ソーダ溶液５００容量
部に注ぐ。
は４〜５時間で終了した。９０℃に冷却した後コルベン
の内容物を攪拌しながら３％苛性ソーダ溶液５００容量
部に注ぐ。
上部水性層を分離する。ついで中性となるまで数回水と
共に攪拌して洗滌する。次に３０〜５０℃に更に冷却す
ると生成物が粒状化する。ＰＨｌの酸性にした後吸引沢
過する。減圧蒸溜によつて更に精製することができる。
この様にして得られたニトロエーテルは、エタノールか
ら再結晶した後、融点１０３〜１０５℃を示す。収量は
１２０部である。この２′・４′・５′一トリクロル一
４−ニトロジフエニルエーテル１４０部をエタノール８
００容量部中に攪拌しながら混入する。
共に攪拌して洗滌する。次に３０〜５０℃に更に冷却す
ると生成物が粒状化する。ＰＨｌの酸性にした後吸引沢
過する。減圧蒸溜によつて更に精製することができる。
この様にして得られたニトロエーテルは、エタノールか
ら再結晶した後、融点１０３〜１０５℃を示す。収量は
１２０部である。この２′・４′・５′一トリクロル一
４−ニトロジフエニルエーテル１４０部をエタノール８
００容量部中に攪拌しながら混入する。
全体が５０℃に加熱された後鉄鍵屑３３０部を導入し、
ついでこれに濃塩酸７８容量部を加える。５時間かけて
還元を行う。
ついでこれに濃塩酸７８容量部を加える。５時間かけて
還元を行う。
ついで３２％水性アンモニアを加えて中和し、再びエタ
ノール１２００容量部を加え、減圧下に結晶化が始まる
まで蒸発濃縮する。ついで結晶懸濁液を稀塩酸２０００
容量部中に攪拌しながら混入し、強酸性反応（ＰＨｌ〜
２）を呈するに至らしめる。ついで吸引沢過し、沢液を
アルカリ性にすると相応するアミンが沈澱する。この反
応混合物を０〜１０℃に冷却した後生成物を吸引沢取し
、乾燥し、ついでベンゾールから再結晶する。この様に
して得られた２’ ・ ４’ ・ ５’一トリクロル一
４ −アミノジフエニルエーテルは融点１６８℃を示
す。この２’ ・ ４’ ・ ５’一トリクロル一４−
アミノージフエニルエーテル２８部をクロルベンゾール
２００容量部とピリジン２０容量部とからなる混合物に
８０℃で溶解する。
ノール１２００容量部を加え、減圧下に結晶化が始まる
まで蒸発濃縮する。ついで結晶懸濁液を稀塩酸２０００
容量部中に攪拌しながら混入し、強酸性反応（ＰＨｌ〜
２）を呈するに至らしめる。ついで吸引沢過し、沢液を
アルカリ性にすると相応するアミンが沈澱する。この反
応混合物を０〜１０℃に冷却した後生成物を吸引沢取し
、乾燥し、ついでベンゾールから再結晶する。この様に
して得られた２’ ・ ４’ ・ ５’一トリクロル一
４ −アミノジフエニルエーテルは融点１６８℃を示
す。この２’ ・ ４’ ・ ５’一トリクロル一４−
アミノージフエニルエーテル２８部をクロルベンゾール
２００容量部とピリジン２０容量部とからなる混合物に
８０℃で溶解する。
これに撹拌しながら、クロルベンゾールに溶解した３−
ニトロ−４−カルボメトキシベンゾイルクロリド２４部
を滴下する。４〜５時間で反応は終結した。
ニトロ−４−カルボメトキシベンゾイルクロリド２４部
を滴下する。４〜５時間で反応は終結した。
この反応混合物を９０℃で２％炭酸ナトリウム溶液１０
００容量部に加え、クロルペンゾールとピリジンとを水
蒸気によつて溜去する。乾燥後のニトロ化合物の収量は
３４部である。
００容量部に加え、クロルペンゾールとピリジンとを水
蒸気によつて溜去する。乾燥後のニトロ化合物の収量は
３４部である。
濃塩酸３００容量部中に徐々に塩化錫（Ｗ（２モルの水
を含む）１０００部を同時に加熱しながら１００℃で導
入しそして溶解せしめる。
を含む）１０００部を同時に加熱しながら１００℃で導
入しそして溶解せしめる。
この溶液に、エタノール２００容量部中に溶解されてい
る４−（ゴ′−ニトローイ′一カルボメトキシーベンゾ
イルアミノ）− ２’ ・ ４’ ・ ５’一トリクロ
ルジフエニルエーテル３８部を加える。２時間の後冷却
し、吸引沢過する。残渣を６％苛性カリ溶液１０００容
量部中に撹拌しながら混入する。生成物を再び吸引沢取
し、中性洗滌する。かくして得られた次式で示されるア
ミンはクロルベンゾールから再結晶した後融点１９８〜
２００℃を示す。
る４−（ゴ′−ニトローイ′一カルボメトキシーベンゾ
イルアミノ）− ２’ ・ ４’ ・ ５’一トリクロ
ルジフエニルエーテル３８部を加える。２時間の後冷却
し、吸引沢過する。残渣を６％苛性カリ溶液１０００容
量部中に撹拌しながら混入する。生成物を再び吸引沢取
し、中性洗滌する。かくして得られた次式で示されるア
ミンはクロルベンゾールから再結晶した後融点１９８〜
２００℃を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒはメチル−又はエチル−基を、Ｘは同一又は
相異るハロゲン原子を、ｎは０又は１〜４の整数を意味
する。 〕で示される化合物。 ２ Ｘがクロル−又はブロム−原子を意味する特許請求
の範囲第１項記載の化合物。 ３ 下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒはメチル−又はエチル−基を、Ａはニトロ基
を意味する。 〕で示される４−カルボアルコキシベンゾイルクロリド
を下記一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは同一又は相異るハロゲン原子を、ｎは０又
は１〜４の整数を意味する。 〕で示される４−アミノジフェニルエーテルと縮合せし
め、得られた生成物に於て基Ａを還元することを特徴と
する、下記一般式▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物の製法。 ４ 反応を酸結合剤の添加下に行う特許請求の範囲第３
項記載の方法。 ５ 反応を不活性溶剤中で行う特許請求の範囲第３項記
載の方法。 ６ 下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒはメチル−又はエチル−基を、Ａはアシルア
ミノ基を意味する。 〕で示される４−カルボアルコキシベンゾイルクロリド
を下記一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは同一又は相異るハロゲン原子を、ｎは０又
は１〜４の整数を意味する。 〕で示される４−アミノジフェニルエーテルと縮合せし
め、得られた生成物に於て基Ａを加水分解することを特
徴とする、下記一般式▲数式、化学式、表等があります
▼ 〔式中、Ｒ、Ｘ及びｎは上述の意味を有する。 〕 で示される化合物の製法。７ 反応を酸結合剤の添
加下に行う特許請求の範囲第６項記載の方法。 ８ 反応を不活性溶剤中で行う特許請求の範囲第６項記
載の方法。 ９ 下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒはメチル−又はエチル−基を、Ｘは同一又は
相異るハロゲン原子を、ｎは０又は１〜４の整数を意味
する。 〕で示される化合物をアゾピグメント用ジアゾ成分とし
て使用する方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2521649A DE2521649C2 (de) | 1975-05-15 | 1975-05-15 | 3-Amino-4-carbalkoxybenzoesäure- 4'-phenoxyanilide, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51143641A JPS51143641A (en) | 1976-12-10 |
| JPS5929070B2 true JPS5929070B2 (ja) | 1984-07-18 |
Family
ID=5946645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51054465A Expired JPS5929070B2 (ja) | 1975-05-15 | 1976-05-14 | ３−アミノ−４−カルボアルコキシ安息香酸−４′−フエノキシアニリド並びにその製造及び使用方法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4056553A (ja) |
| JP (1) | JPS5929070B2 (ja) |
| BR (1) | BR7603068A (ja) |
| CA (1) | CA1068719A (ja) |
| CH (1) | CH620197A5 (ja) |
| DE (1) | DE2521649C2 (ja) |
| FR (1) | FR2310999A1 (ja) |
| GB (1) | GB1527047A (ja) |
| IT (1) | IT1060568B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6133685U (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-28 | 日立プラント建設株式会社 | プリント基板の水切り装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BRPI0808786A2 (pt) | 2007-03-12 | 2014-09-16 | Bayer Cropscience Ag | Di-halogenofenoxifenilamidinas e seu uso como fungicidas |
| EP1969933A1 (de) * | 2007-03-12 | 2008-09-17 | Bayer CropScience AG | Dihalogenphenoxyphenylamidine und deren Verwendung als Fungizide |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2808433A (en) * | 1953-08-21 | 1957-10-01 | Du Pont | Benzene dicarboxylic acid derivatives |
| DE1644191C3 (de) * | 1961-12-29 | 1974-09-05 | Farbwerke Hoechst Ag, Vormals Meister Lucius & Bruening, 6000 Frankfurt | Wasserunlösliche Monoazofarbstoffe, Verfahren zu deren Herstellung und ihre Verwendung. Ausscheidung aus: 1263202 |
| CH575385A5 (ja) * | 1972-01-22 | 1976-05-14 | Hoechst Ag |
-
1975
- 1975-05-15 DE DE2521649A patent/DE2521649C2/de not_active Expired
-
1976
- 1976-05-12 CH CH595076A patent/CH620197A5/de not_active IP Right Cessation
- 1976-05-13 IT IT23228/76A patent/IT1060568B/it active
- 1976-05-13 US US05/686,008 patent/US4056553A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-05-14 CA CA252,622A patent/CA1068719A/en not_active Expired
- 1976-05-14 JP JP51054465A patent/JPS5929070B2/ja not_active Expired
- 1976-05-14 GB GB19940/76A patent/GB1527047A/en not_active Expired
- 1976-05-14 BR BR7603068A patent/BR7603068A/pt unknown
- 1976-05-17 FR FR7614763A patent/FR2310999A1/fr active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6133685U (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-28 | 日立プラント建設株式会社 | プリント基板の水切り装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IT1060568B (it) | 1982-08-20 |
| FR2310999A1 (fr) | 1976-12-10 |
| JPS51143641A (en) | 1976-12-10 |
| DE2521649C2 (de) | 1984-06-20 |
| US4056553A (en) | 1977-11-01 |
| CH620197A5 (ja) | 1980-11-14 |
| FR2310999B1 (ja) | 1979-06-22 |
| BR7603068A (pt) | 1977-05-24 |
| GB1527047A (en) | 1978-10-04 |
| CA1068719A (en) | 1979-12-25 |
| DE2521649A1 (de) | 1976-11-25 |
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