JPS5929058A - フルデイツプ処理装置における被処理物の浮上防止装置 - Google Patents

フルデイツプ処理装置における被処理物の浮上防止装置

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JPS5929058A
JPS5929058A JP13961682A JP13961682A JPS5929058A JP S5929058 A JPS5929058 A JP S5929058A JP 13961682 A JP13961682 A JP 13961682A JP 13961682 A JP13961682 A JP 13961682A JP S5929058 A JPS5929058 A JP S5929058A
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floating
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JP13961682A
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Masaru Okubo
優 大久保
Takaharu Toyonaga
豊長 敬治
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Toyota Motor Corp
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Toyota Motor Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、塗装に先だつ洗浄工程とか、電着塗装工程等
における洗浄液槽あるいは電着液槽等のフルデイツプ槽
内に、コンベヤ装置によって連続移行されて来る被処理
物を全没させる際において、前記コンベヤ装置のハンガ
ーフレームに付設される被処理物の浮上防止装置に関す
るものであり、人手を要することなく、簡単な機構で被
処理物の浮き上り現象を防止し、以って被処理物の傷付
きとか、八ンガーフレームX5−らの脱落等を防止する
ことを目的としている。
塗装に先たつ洗浄工程と力\、電着塗装工程においては
、コンベヤ装置のハンガーフレームに載置された被処理
物が、吊り下げ状態で、洗浄液槽あるいは電着液槽等の
フルディップ槽内に入槽されるが、その人槽初期に浮力
が発生し、被処理物がハンガーフレームから離間する現
象が生ずる。
この離間現象のため、ハンガーフレームによって被処理
物が損傷されたり、ハンガーフレームから被処理物が脱
落したりする危険があり、更K電着塗装工程の場合には
、大電流がハンガーフレー゛ムを通して被処理物に供給
されているため、前述の被処理物とハンガーフレームと
の離間時にスパーク現象が生じ、その熱のため被処理物
やハンガーフレームが損傷する恐れがある。
カ1かる間顆点を解決する手段として、被処理物のフル
デイツプ槽への入槽角度を大とすることも考えられるが
、槽の大型化、それに伴なう処理液量の増大という別の
問題が生ずるし、被処理物の入槽速度を遅くする手段を
採用すると、生産量の低下という問題を発生させる。ま
た被処理物に抜気用の穴を穿設し、浸水性を向上させる
ことも考えられるが、製品の機能を損う恐れが存ずる。
更には、チェン,ワイヤ等を使用し、ハンガーフレーム
と被処理物とを連結する方法もあるが、作業の自動化が
困難であり、多くの人手を要する欠点が存する。
本発明は、特許請求の範囲に記載する構成とすることに
より、前述のごとき被処理物とハンガーフレームとの離
間現象を防止しうるようにしたものである。
以下、図示実施例について、本発明の構成を説明する。
第1図,第2図および第3図は第1の実施例を示してお
り、第1図において、コンベヤレール1に、トロリーア
ツシー2によってハンi一フレーム3が走行自在に吊架
されており、ハンガーフレーム3のハンガーアーム4,
5には、自動車ボデーたる被処理物6が載置されている
前述のコンベヤレール1は、電着液槽たるフルデイツプ
槽7の設置位置において、ハンガーアーム4,5に載置
されている被処理物6を、フルデイツブ槽7の電着液8
内に全没させうる曲折路9,10を有している。
前述のハンガーアーム4,5は、第2図に示されるよう
に、正面形状が略コ字状をなし、軸11によりハンガー
フレーム3に回動自在に支着され、下端のブラケット部
12に被処理物6を載置しうるように構成されている。
図中符号13は、トロリーアツシー2とハンガーフレー
ム3とを結合するハンガー吊材であり、電気絶縁体14
を介し、ハンガーフレーム3に固定されている。
前述のハンガーフレーム3には、第211a,第3図に
示されるように、プッシュ15.16により、2本の浮
上防止ロッド17,18が、上下方向に摺動自在に嵌挿
されている。
この浮上防止ロンド17.18は、前述のプッシュ15
.16の上端面に当接する下限ストツパ22.23を有
しており、該下限ストッパ22.23がプッシュ15.
16の上端面に当接した位置において、浮上防止ロンド
17.18の下端に固着したアタッチメン}19.20
が、ハンガーアーム4,5上に載置された被処理物6の
上表面21に対し、微少間隙Wを存して対峙しつるよう
に構成されている。また浮上防止ロツド17,18の上
端Kは、後述するがイドレールに当接する当て止めアタ
ッチメント24,25が固着されている。
なお、浮上防止ロンド17.18の配設位置は、被処理
物6の上表面21のうち、傷付き、あるいは塗膜の垂れ
等が許容される部位に選定されるものである。
第2図に示される状態において、被処理物6が、2点鎖
線6′の位置まで上昇したとすると、浮上防止Jツド1
7.18は、当て止めアタッチメン?24.25に当接
する何者も存在しないので、該ロンド17.18は、被
処理物6の上表面21に押され、1点鎖線17’,18
’で示す位置まで上昇する。
このように浮上防止ロンド17.18が拘束なしに上昇
しうる位置は、該ロンド17,18の非作用位置である
第1図において、ノ)ンガーアーム4,5に載置されて
いる被処理物6がフルデイツブ槽7の電着液8内へ入槽
し始める際のコンベヤレール1の曲折路9,10の部分
には、該曲折路9,10に沿う所定区間に亘り、ガイド
レール26が固定配置されている。
このガイドレール26は、第2図中実線で示されるよう
に、被処理物6がハンガーアーム4,5上に載置され、
浮上防止口゛イド17,18が、アタッチメン}19.
20を微少間隙Wを存して被処理物6のーL表面21に
対峙させられている静置の状態を維持したま一で、ノ・
ンガーフレーム3が曲折路9,10に沿って移行したと
仮定したとき、浮上防止ロンド17.18の当て止めア
クッチメン}24,25が通る軌跡に対し、僅カ・な間
隙Hを存した上方位置に配設されている。
従って、いま、第1図に示されるようにノ1ンガーフレ
ーム3が曲折路9に沿って移行し、被処理物6がフルデ
インブ槽7の電着液8内へ浸り始めると、フロント側に
浮力が生じ、浮力が被処理物6の自重より大きい場合は
、被処理物6は浮上し始め、その上表面21が浮上防止
ロンド17.18のアタッチメント19.2(1押し、
該ロンド17.18は上昇するが、その上端の当て止め
アタッチメン}24.25がガイドレール26に当接す
るこζ耳より、該ロンド17.18の上昇が阻止される
ので、被処理物6のそれ以」この浮き上りは阻止される
に至るものである。
第3図中2点鎖線6’,19’,22’,24’は、」
二述のように浮き上りを阻止された際の被処理物6等の
位置を示している。
浮上防止ロンド17.18がガイドレール26に当接し
た位置は、該ロツド17,1Bの作用位置である。
以上説明した第1の実施例では、浮上防止ロンド17.
18は、ガイドレール26によって非作用位置から作用
位置に選択的にもたらされ、被処理物6の浮き上りを防
止するものであり、浮上防止ロンド17.18の作用に
より、フルデイツブ槽7への人槽時に浮き上り現象を防
止された被処理物6は、そのま一安定した状態で電着液
8内に全没され、自然抜気により浮力を失い、ガイドレ
ール26の無い折曲路10部分では、安定した全没状態
で移行する。
以上説明した構成のハンガーフレーム3カsらの被処理
物6の脱荷と、逆の載五とは、次のようにして行なわれ
る。
すなわち、第2図に示すように、ハンガーフレーム3の
ハンガーアーム4上に被処理物6が載置されている状態
で、該ハンガーフレーム3を、テーブルリフト27内に
静置する。ついで下方で待機していた7オーク28をポ
ール29に沿って上昇させ、被処理物6を2点鎖線6′
で示す位置まで上昇させ、ハンガーアーム4から離間さ
せる。実際には、この操作でハンガーアーム5とも離間
する。このとき、浮上防止ロンド17.18は既述のご
とく非作用位置にあるので、1点鎖線17’,18’で
示す位置に拘束なしK上昇し、被処理物6のフオーク2
8による上昇を妨げることは無い。
被処理物6がハンガーアーム4力1ら離間したのちハン
ガーアーム4を符号4′で示すように、図示を省略した
適宜装置により拡開させ、ついでフォーク28を下降さ
せれば、脱荷が完了する。載置の際は逆順で行なえばよ
いものである。
第1+図は第2の実施例を示しており、浮上防止ロンド
30は、ハンガーフレーム31に軸32で回動自在に支
着され、該フレーム31との間に引張バネ33を架設さ
れて、常時ハンガーフレーム31の内方への回動勢力を
付勢されており、八ンガーフレーム31に固設されたス
トッパー34に当接することにより垂直位置を保つよう
に構成されている。
この浮上防止ロッド30は垂直位置が作用位置であり、
下端のアタッチメント35が微少nlJ@Wを存して被
処理物36の上表面37に対峙し、被処理物36の浮き
上りを微少間@W部分の高さのみに留めている。
浮上防止ロンド30は、2点鎖線30′で示すように、
引張バネ330弾力に抗して、ハンガーフレーム31の
外側方へ回動された位置が非作用位置であり、図示を省
略した駆動装置により、被処理物36の載置,脱荷の際
に、非作用位置へ回動されるものである。
この実施例の浮上防止ロンド30が作用位置を占めてい
る際の被処理物36の浮き上り防止作用は、第1の実施
例のものと同一である。
本発明に係る被処理物の浮上防止装置は、以上説明した
構成,作用のものであって、機構ならびに作用が比較的
簡単であり、作業の自動化を図りやすく、人手を要する
ことなく被処理物の浮き上り現象を防止でき、フルデイ
ツブ槽への被処理物の入槽時の浮き上り現象による被処
理物の損傷とか、ハンガーフレームからの脱落等を完全
に防止しつる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は第1の実施例の作用を示す略示側面図、第2図
は、第1図に示すハンガーフレームがテーブルリフト内
に位置する際の略示正面図、第3図は、第1図,第2図
に示されるものの要部のみの側面図、第4図は第2の実
施例の要部のみを示す略示正面図である。 1:コンベヤレール、3:ハンガーフレーム、4,5:
ハンガーアーム、6:被処理物、7:フルデイツプ槽、
9,10:折曲路、17,18:浮上防止ロンド、21
:上面。 −307− 308

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 被処理物を載置するハンガーアームを有するハンカーフ
    レームが、コンベヤレールK走行自在に吊架され、該コ
    ンベヤレールは、フルデイツプ槽設置位置において、前
    記ハンガーアームに載置された被処理物が、フルデイツ
    プ槽内に全没される曲折路を有していると共に、前記ハ
    ンガーフレームには、ハンガーアームK載f!1れる被
    処理物の上表面に微少間隙を存して対峙する浮上防止ロ
    ンドが、作用位置と非作用位置とを選択的に占めうるよ
    う付設されていることを特徴とするフルデイツブ処理装
    置における被処理物の浮上防止装置。
JP13961682A 1982-08-11 1982-08-11 フルデイツプ処理装置における被処理物の浮上防止装置 Granted JPS5929058A (ja)

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JPH0330425B2 JPH0330425B2 (ja) 1991-04-30

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JPH0744148B2 (ja) * 1992-03-05 1995-05-15 株式会社ソルテック 両面吸収体x線マスクの製造方法
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