JP2000255771A - 液処理ワークのマグネット吸着式ディッピング装置 - Google Patents
液処理ワークのマグネット吸着式ディッピング装置Info
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- JP2000255771A JP2000255771A JP11060672A JP6067299A JP2000255771A JP 2000255771 A JP2000255771 A JP 2000255771A JP 11060672 A JP11060672 A JP 11060672A JP 6067299 A JP6067299 A JP 6067299A JP 2000255771 A JP2000255771 A JP 2000255771A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液処理の対象となるワークを揺れないよう安
定に搬送して一連の液処理を確実に行うことができる液
処理ワークのマグネット吸着式ディッピング装置を提供
すること。 【解決手段】 所要の処理液が収容された複数の処理槽
Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・から成る液処理ラインＬと；この液処理
ラインＬに沿って前記処理槽へ順々にワークＷを浸漬・
引上して搬送せしめるキャリアーＣとを具備しており、
かつ、このキャリアーＣは、液処理ラインＬに沿って前
進・後退運動を可能にする進退運動機構１と；前記処理
槽の上方へ持出されたブラケット２と；このブラケット
２を支持した状態でアップダウン動作可能な昇降支柱３
と；前記ブラケット２の持出部21に配設され、当該処理
槽内に浸漬せるワークＷの吊下ハンガーＨを面状に吸着
して吊上げ可能にするマグネット５とを包含して構成す
るという手段を採用した。
定に搬送して一連の液処理を確実に行うことができる液
処理ワークのマグネット吸着式ディッピング装置を提供
すること。 【解決手段】 所要の処理液が収容された複数の処理槽
Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・から成る液処理ラインＬと；この液処理
ラインＬに沿って前記処理槽へ順々にワークＷを浸漬・
引上して搬送せしめるキャリアーＣとを具備しており、
かつ、このキャリアーＣは、液処理ラインＬに沿って前
進・後退運動を可能にする進退運動機構１と；前記処理
槽の上方へ持出されたブラケット２と；このブラケット
２を支持した状態でアップダウン動作可能な昇降支柱３
と；前記ブラケット２の持出部21に配設され、当該処理
槽内に浸漬せるワークＷの吊下ハンガーＨを面状に吸着
して吊上げ可能にするマグネット５とを包含して構成す
るという手段を採用した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワークを処理槽の
液体中に浸漬させて洗浄やコーティングなどの液処理を
行うディッピング（dipping ）装置の改良に関し、更に
詳しくは、液処理の対象となるワークを揺れないよう安
定に搬送して一連の液処理を確実に行うことができ、し
かも、その液処理工程におけるワーク搬送時間も短縮可
能な液処理ワークのマグネット吸着式ディッピング装置
に関するものである。
液体中に浸漬させて洗浄やコーティングなどの液処理を
行うディッピング（dipping ）装置の改良に関し、更に
詳しくは、液処理の対象となるワークを揺れないよう安
定に搬送して一連の液処理を確実に行うことができ、し
かも、その液処理工程におけるワーク搬送時間も短縮可
能な液処理ワークのマグネット吸着式ディッピング装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ワークの洗浄処理やコーティング処理な
どの分野においては、処理槽の液体中にワークを浸漬さ
せることによってワーク表面に洗浄やコーティングなど
の液処理を施すことが多い。そして、かゝる液処理を行
うためのディッピング装置は、通常、一定の順序に配列
された複数の処理槽と、これら処理槽から成る液処理ラ
インに沿ってワークを順々に移送せしめる搬送機構とか
ら構成されている。
どの分野においては、処理槽の液体中にワークを浸漬さ
せることによってワーク表面に洗浄やコーティングなど
の液処理を施すことが多い。そして、かゝる液処理を行
うためのディッピング装置は、通常、一定の順序に配列
された複数の処理槽と、これら処理槽から成る液処理ラ
インに沿ってワークを順々に移送せしめる搬送機構とか
ら構成されている。
【０００３】ところで、このような液処理を行う際に
は、搬送機構を用いて処理対象となるワークを前段階の
処理槽から次段階の処理槽へ移送させるのであるが、こ
のワーク移送方式としては、図14及び図15に示すよう
に、板状ワークＷ・Ｗ・・・・が所要ピッチをもって各々取
り付けられた枠状の吊下ハンガーＨ・Ｈ・・・・の各上部バ
ーにブラケット２′の棒状持出部21′・21′下端のフッ
クＫ・Ｋ・・・・を引っ掛け、この引掛状態で当該吊下ハン
ガーＨ・Ｈ・・・・を処理槽から上昇させて次段階の処理槽
へ水平移動させ当該処理槽の所定位置まで下降させてか
ら、ブラケット２′のフックＫ・Ｋ・・・・を外すというフ
ック掛脱方式が採用されている。
は、搬送機構を用いて処理対象となるワークを前段階の
処理槽から次段階の処理槽へ移送させるのであるが、こ
のワーク移送方式としては、図14及び図15に示すよう
に、板状ワークＷ・Ｗ・・・・が所要ピッチをもって各々取
り付けられた枠状の吊下ハンガーＨ・Ｈ・・・・の各上部バ
ーにブラケット２′の棒状持出部21′・21′下端のフッ
クＫ・Ｋ・・・・を引っ掛け、この引掛状態で当該吊下ハン
ガーＨ・Ｈ・・・・を処理槽から上昇させて次段階の処理槽
へ水平移動させ当該処理槽の所定位置まで下降させてか
ら、ブラケット２′のフックＫ・Ｋ・・・・を外すというフ
ック掛脱方式が採用されている。
【０００４】ところが、上記の如きワーク移送方式にあ
っては、処理槽間のワーク移送中、特に水平移動中に各
吊下ハンガーＨがブラケット２′のフックＫ・Ｋが支点
となって揺動し易い不安定な状態になるため、隣接する
吊下ハンガーＨ・ＨのワークＷ・Ｗ同士がぶつかってワ
ーク表面に傷がついたり、最悪の場合にはフックが上部
バーから外れて吊下ハンガーＨが落下してしまう虞れも
あり、その結果、複数の処理槽の処理液中に順次浸漬さ
せてワークＷに施す一連の液処理を確実に行うことがで
きないという難点があった。
っては、処理槽間のワーク移送中、特に水平移動中に各
吊下ハンガーＨがブラケット２′のフックＫ・Ｋが支点
となって揺動し易い不安定な状態になるため、隣接する
吊下ハンガーＨ・ＨのワークＷ・Ｗ同士がぶつかってワ
ーク表面に傷がついたり、最悪の場合にはフックが上部
バーから外れて吊下ハンガーＨが落下してしまう虞れも
あり、その結果、複数の処理槽の処理液中に順次浸漬さ
せてワークＷに施す一連の液処理を確実に行うことがで
きないという難点があった。
【０００５】また、前記ブラケット２′のフックＫ・Ｋ
・・・・を吊下ハンガーＨの上部バーに引っ掛ける際に、そ
のフックＫ・Ｋ・・・・を上部バーよりも下に一旦下降させ
てから引掛可能な位置まで横移動させて再度上昇させる
ことになるため、下降・横移動・上昇の３動作が引掛け
操作に必要となってその操作時間が長くなるうえに、フ
ックＫ・Ｋ・・・・の引掛けミスも発生し易くて引掛け操作
の確実性に欠けるという難点もあった。
・・・・を吊下ハンガーＨの上部バーに引っ掛ける際に、そ
のフックＫ・Ｋ・・・・を上部バーよりも下に一旦下降させ
てから引掛可能な位置まで横移動させて再度上昇させる
ことになるため、下降・横移動・上昇の３動作が引掛け
操作に必要となってその操作時間が長くなるうえに、フ
ックＫ・Ｋ・・・・の引掛けミスも発生し易くて引掛け操作
の確実性に欠けるという難点もあった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の液処
理ワークのディッピング装置に上記の如き難点があった
ことに鑑みて為されたものであり、液処理の対象となる
ワークを揺れないよう安定に搬送して一連の液処理を確
実に行うことができ、しかも、その液処理工程における
ワーク搬送時間も短縮可能な液処理ワークのマグネット
吸着式ディッピング装置を提供することを技術的課題と
する。
理ワークのディッピング装置に上記の如き難点があった
ことに鑑みて為されたものであり、液処理の対象となる
ワークを揺れないよう安定に搬送して一連の液処理を確
実に行うことができ、しかも、その液処理工程における
ワーク搬送時間も短縮可能な液処理ワークのマグネット
吸着式ディッピング装置を提供することを技術的課題と
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者が上記技術的課
題を解決するために採用した手段を、添附図面を参照し
て説明すれば、次のとおりである。
題を解決するために採用した手段を、添附図面を参照し
て説明すれば、次のとおりである。
【０００８】即ち、本発明は、所要の処理液が収容され
一定の順序に配列された複数の処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・か
ら成る液処理ラインＬと；この液処理ラインＬに沿って
前進・後退を反復しながら処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・に対し
アップダウン運動することによって前記処理槽へ順々に
ワークＷを浸漬・引上して搬送せしめるキャリアーＣと
を具備しており、かつ、このキャリアーＣは、液処理ラ
インＬに沿って前進・後退運動を可能にする進退運動機
構１と；処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・の上方へオーバーハング
状態に持出されたブラケット２と；このブラケット２を
支持した状態でアップダウン動作可能であって、前記進
退運動機構１の動作により進退運動する昇降支柱３と；
前記ブラケット２の持出部21に配設され、当該ブラケッ
ト２が処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・の処理液面に近接したとき
当該処理槽内に浸漬せるワークＷの吊下ハンガーＨを面
状に吸着して吊上げ可能にするマグネット５とを包含し
て構成するという手段を採用することによって、上記課
題を解決した点に特徴がある。
一定の順序に配列された複数の処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・か
ら成る液処理ラインＬと；この液処理ラインＬに沿って
前進・後退を反復しながら処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・に対し
アップダウン運動することによって前記処理槽へ順々に
ワークＷを浸漬・引上して搬送せしめるキャリアーＣと
を具備しており、かつ、このキャリアーＣは、液処理ラ
インＬに沿って前進・後退運動を可能にする進退運動機
構１と；処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・の上方へオーバーハング
状態に持出されたブラケット２と；このブラケット２を
支持した状態でアップダウン動作可能であって、前記進
退運動機構１の動作により進退運動する昇降支柱３と；
前記ブラケット２の持出部21に配設され、当該ブラケッ
ト２が処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・の処理液面に近接したとき
当該処理槽内に浸漬せるワークＷの吊下ハンガーＨを面
状に吸着して吊上げ可能にするマグネット５とを包含し
て構成するという手段を採用することによって、上記課
題を解決した点に特徴がある。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を添附図面に示す実
施形態に基いて更に詳しく説明する。なお、図１は本発
明の実施形態であるディッピング装置の正面説明図、図
２は本実施形態装置の側面説明図、図３は図２の本実施
形態装置のキャリアーにおける昇降支柱の下降状態を示
した側面説明図、図４は本実施形態装置のキャリアーの
マグネットによる吊下ハンガーの吸着機構を拡大して示
した部分斜視説明図、図５〜図13は本実施形態装置によ
る一連の液処理工程を簡略化して示した使用説明図、図
14は従来装置のキャリアーのフックによる吊下ハンガー
の引掛機構を拡大して示した部分斜視説明図、図15は従
来装置の正面説明図である。
施形態に基いて更に詳しく説明する。なお、図１は本発
明の実施形態であるディッピング装置の正面説明図、図
２は本実施形態装置の側面説明図、図３は図２の本実施
形態装置のキャリアーにおける昇降支柱の下降状態を示
した側面説明図、図４は本実施形態装置のキャリアーの
マグネットによる吊下ハンガーの吸着機構を拡大して示
した部分斜視説明図、図５〜図13は本実施形態装置によ
る一連の液処理工程を簡略化して示した使用説明図、図
14は従来装置のキャリアーのフックによる吊下ハンガー
の引掛機構を拡大して示した部分斜視説明図、図15は従
来装置の正面説明図である。
【００１０】まず、本発明の実施形態であるマグネット
吸着式ディッピング装置の構造を図１〜図４に基いて説
明する。本実施形態のディッピング装置は、一定の順序
に配列された３基の処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ3 から成る液
処理ラインＬと、この液処理ラインＬに沿って前記処理
槽へ順々にワークＷを浸漬・引上して搬送せしめるキャ
リアーＣとを具備している。そして、前記処理槽Ｔ1 ・
Ｔ2 ・Ｔ3 には、ワークＷに洗浄処理を施すための処理
液（本実施形態では、純水を使用）が収容されており、
この処理液中に超音波振動子Ｕｓ・Ｕｓ・Ｕｓが各々設
置されている。これら各超音波振動子Ｕｓを作動させる
ための超音波発振器Ｕｈが装置本体フレームＦの上部に
設置されており、この超音波発振器Ｕｈにて超音波振動
子Ｕｓを所要タイミングで作動させることにより、処理
槽Ｔ1 では脱脂処理、処理槽Ｔ2ではリンス処理、処理
槽Ｔ3 では液切処理を行っている。
吸着式ディッピング装置の構造を図１〜図４に基いて説
明する。本実施形態のディッピング装置は、一定の順序
に配列された３基の処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ3 から成る液
処理ラインＬと、この液処理ラインＬに沿って前記処理
槽へ順々にワークＷを浸漬・引上して搬送せしめるキャ
リアーＣとを具備している。そして、前記処理槽Ｔ1 ・
Ｔ2 ・Ｔ3 には、ワークＷに洗浄処理を施すための処理
液（本実施形態では、純水を使用）が収容されており、
この処理液中に超音波振動子Ｕｓ・Ｕｓ・Ｕｓが各々設
置されている。これら各超音波振動子Ｕｓを作動させる
ための超音波発振器Ｕｈが装置本体フレームＦの上部に
設置されており、この超音波発振器Ｕｈにて超音波振動
子Ｕｓを所要タイミングで作動させることにより、処理
槽Ｔ1 では脱脂処理、処理槽Ｔ2ではリンス処理、処理
槽Ｔ3 では液切処理を行っている。
【００１１】本実施形態装置の上記キャリアーＣは、液
処理ラインＬに沿って前進・後退運動を可能にする進退
運動機構１と、処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ3 の上方へオーバ
ーハング状態に持出されたブラケット２・２・・・・と、こ
れら各ブラケット２を支持した状態でアップダウン動作
可能であって、前記進退運動機構１の動作により進退運
動する昇降支柱３と、前記ブラケット２の持出部21・21
下端に配設されたマグネット５・５・・・・と、装置本体フ
レームＦに付設された脱磁器７とを包含して構成されて
おり、かゝる構成により、液処理ラインＬに沿って前進
・後退を反復しながら各処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ3 に対し
アップダウン運動可能となっている。以下、キャリアー
Ｃの各構成要素を詳しく説明する。
処理ラインＬに沿って前進・後退運動を可能にする進退
運動機構１と、処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ3 の上方へオーバ
ーハング状態に持出されたブラケット２・２・・・・と、こ
れら各ブラケット２を支持した状態でアップダウン動作
可能であって、前記進退運動機構１の動作により進退運
動する昇降支柱３と、前記ブラケット２の持出部21・21
下端に配設されたマグネット５・５・・・・と、装置本体フ
レームＦに付設された脱磁器７とを包含して構成されて
おり、かゝる構成により、液処理ラインＬに沿って前進
・後退を反復しながら各処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ3 に対し
アップダウン運動可能となっている。以下、キャリアー
Ｃの各構成要素を詳しく説明する。
【００１２】図２および図３に示すように、前記進退運
動機構１は、液処理ラインＬに沿って敷設されたレール
（図示せず）上を進退移動するスライドベース11と、こ
のスライドベース11の下部に配設された車軸12と、この
車軸12の両端に装着されてレール上を転動する車輪13・
13とから構成されており、前記車軸12を図示しない駆動
モーターで正逆回転させて、スライドベース11の前進・
後退運動を可能にしている。
動機構１は、液処理ラインＬに沿って敷設されたレール
（図示せず）上を進退移動するスライドベース11と、こ
のスライドベース11の下部に配設された車軸12と、この
車軸12の両端に装着されてレール上を転動する車輪13・
13とから構成されており、前記車軸12を図示しない駆動
モーターで正逆回転させて、スライドベース11の前進・
後退運動を可能にしている。
【００１３】また、前記ブラケット２・２・・・・は、各処
理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ3 の上方へオーバーハング状態に持
出されており、各ブラケット２には、マグネット５・５
・・・・を配設するための２本の棒状持出部21・21が所要間
隔をもって装着されている。そして、図２および図３に
示すように、前記ブラケット２・２・・・・を支持する昇降
支柱３が、進退運動機構１のスライドベース11上に立設
された昇降ロッド41と昇降支柱３に先端部が固定された
流体圧シリンダー42とから成るアップダウン機構４によ
り、前記昇降ロッド41に沿ってアップダウン動作可能と
なっている。
理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ3 の上方へオーバーハング状態に持
出されており、各ブラケット２には、マグネット５・５
・・・・を配設するための２本の棒状持出部21・21が所要間
隔をもって装着されている。そして、図２および図３に
示すように、前記ブラケット２・２・・・・を支持する昇降
支柱３が、進退運動機構１のスライドベース11上に立設
された昇降ロッド41と昇降支柱３に先端部が固定された
流体圧シリンダー42とから成るアップダウン機構４によ
り、前記昇降ロッド41に沿ってアップダウン動作可能と
なっている。
【００１４】図４に示すように、各ブラケット２の棒状
持出部21・21下端には、前記マグネット５・５・・・・を配
設する支持バー51・51・・・・が５本並設されている。本実
施形態においては、これら各支持バー51にそれぞれ３個
のマグネット５・５・５、縦横計15個のマグネット５・
５・・・・が配設されており、マグネット５としては円柱形
の永久磁石に導線を巻回して成る電磁石を使用してい
る。そして、これら電磁石により構成される電磁チャッ
クのオン・オフ操作は、電磁石の導線に通す電流の方向
をチャック制御部６にて変えることにより行っており、
更に詳しくは、オン操作のときは永久磁石の磁力を強め
る方向に電流を通し、オフ操作のときは永久磁石の磁力
を打ち消す方向に電流を通す。かゝる電磁チャックを用
いて、電磁石をオン状態にしてブラケット２を下降させ
ることにより、ワークＷが取り付けられた吊下ハンガー
Ｈ上端の被着部Ｈｓを面状に吸着してワークＷ付きハン
ガーＨを吊上げることができる。なお、本実施形態にお
いては、マグネット５・５・・・・が面着可能な鉄板等によ
り作製された矩形プレートが枠状吊下ハンガーＨの上部
バーに付設されたものを使用し、かつ、ワークＷとして
ＴＶディスプレー用ガラス板を使用しており、この板状
ワークＷを４個のクリップＨｃ・Ｈｃ・・・・で挟んで吊下
ハンガーＨに取り付けてある。また、チャック制御部６
により、電磁石の導線を流れる電流の方向や大きさを適
宜調節して、吊下ハンガーＨの着脱操作やマグネット５
・５・・・・の磁着力を制御することができる。
持出部21・21下端には、前記マグネット５・５・・・・を配
設する支持バー51・51・・・・が５本並設されている。本実
施形態においては、これら各支持バー51にそれぞれ３個
のマグネット５・５・５、縦横計15個のマグネット５・
５・・・・が配設されており、マグネット５としては円柱形
の永久磁石に導線を巻回して成る電磁石を使用してい
る。そして、これら電磁石により構成される電磁チャッ
クのオン・オフ操作は、電磁石の導線に通す電流の方向
をチャック制御部６にて変えることにより行っており、
更に詳しくは、オン操作のときは永久磁石の磁力を強め
る方向に電流を通し、オフ操作のときは永久磁石の磁力
を打ち消す方向に電流を通す。かゝる電磁チャックを用
いて、電磁石をオン状態にしてブラケット２を下降させ
ることにより、ワークＷが取り付けられた吊下ハンガー
Ｈ上端の被着部Ｈｓを面状に吸着してワークＷ付きハン
ガーＨを吊上げることができる。なお、本実施形態にお
いては、マグネット５・５・・・・が面着可能な鉄板等によ
り作製された矩形プレートが枠状吊下ハンガーＨの上部
バーに付設されたものを使用し、かつ、ワークＷとして
ＴＶディスプレー用ガラス板を使用しており、この板状
ワークＷを４個のクリップＨｃ・Ｈｃ・・・・で挟んで吊下
ハンガーＨに取り付けてある。また、チャック制御部６
により、電磁石の導線を流れる電流の方向や大きさを適
宜調節して、吊下ハンガーＨの着脱操作やマグネット５
・５・・・・の磁着力を制御することができる。
【００１５】また、図１に示す前記脱磁器７は、必要に
応じて使用されるものであり、マグネット５・５・・・・に
て吸着される吊下ハンガーＨ上端の被着部Ｈｓを脱磁器
７の脱磁面に接触させて滑らすことにより、その被着部
Ｈｓの残留磁気を除去することができる。
応じて使用されるものであり、マグネット５・５・・・・に
て吸着される吊下ハンガーＨ上端の被着部Ｈｓを脱磁器
７の脱磁面に接触させて滑らすことにより、その被着部
Ｈｓの残留磁気を除去することができる。
【００１６】上記の如く構成された本実施形態装置を用
いて、一連の液処理をワークＷに施す工程を図５〜図13
に基いて以下に説明する。なお、図５〜図13において
は、ワークＷの前進・後退運動およびアップダウン運動
を分かり易くするために、本実施形態装置を簡略化し、
かつ、新たに供給される未処理のワークＷ1 のみを斜線
で表わしてある。
いて、一連の液処理をワークＷに施す工程を図５〜図13
に基いて以下に説明する。なお、図５〜図13において
は、ワークＷの前進・後退運動およびアップダウン運動
を分かり易くするために、本実施形態装置を簡略化し、
かつ、新たに供給される未処理のワークＷ1 のみを斜線
で表わしてある。
【００１７】まず、図５では、前端の処理槽Ｔ1 の上流
側に配置された未処理ワークの供給部Ｉにおいて、ワー
クＷ1 を新たに供給する状態を示してある。このワーク
供給作業を行う際には、前記供給部Ｉの位置までブラケ
ット２・２・・・・を後退・下降させた状態で、左端のブラ
ケット２のマグネット５により未処理ワークＷ1 付きの
吊下ハンガーＨを吸着する。そして、この未処理ワーク
Ｗ1 を供給した後、図６に示すように前記ブラケット２
・２・・・・を上昇させてから、各処理槽間の距離だけ前進
させると、ワークＷ1 が処理槽Ｔ1 の上方に搬送されて
図７の状態になる。
側に配置された未処理ワークの供給部Ｉにおいて、ワー
クＷ1 を新たに供給する状態を示してある。このワーク
供給作業を行う際には、前記供給部Ｉの位置までブラケ
ット２・２・・・・を後退・下降させた状態で、左端のブラ
ケット２のマグネット５により未処理ワークＷ1 付きの
吊下ハンガーＨを吸着する。そして、この未処理ワーク
Ｗ1 を供給した後、図６に示すように前記ブラケット２
・２・・・・を上昇させてから、各処理槽間の距離だけ前進
させると、ワークＷ1 が処理槽Ｔ1 の上方に搬送されて
図７の状態になる。
【００１８】次に、図８では、前記ブラケット２・２・・
・・を下降させて、ワークＷ1 ・Ｗ2・Ｗ3 を各処理槽の
処理液中に浸漬させると同時に、処理済のワークＷ4 を
取り出す状態を示してある。この下降状態において、マ
グネット５・５・・・・による電磁チャックをオフ操作して
各ワークの吊下ハンガーＨ・Ｈ・・・・の吸着状態を解除す
ると、後端の処理槽Ｔ3 の下流側に配置された処理済ワ
ークの取出部Ｏにおいて、処理済ワークＷ4 付きの吊下
ハンガーＨを右端のブラケット２のマグネット５から外
して処理済ワークＷ4 を取り出すことができる。一方、
この吸着解除状態でブラケット２・２・・・・を上昇させる
と、ワークＷ1 ・Ｗ2 ・Ｗ3 が各処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ
3 の処理液中に浸漬されている図９の如き状態になる。
次いで、この上昇状態で図10に示す如くブラケット２・
２・・・・を各処理槽間の距離だけ後退させてから、当該ブ
ラケット２・２・・・・を下降させると、図11の状態にな
る。この下降状態において、前記電磁チャックをオン操
作すると、ワークＷ1 ・Ｗ2・Ｗ3 の各吊下ハンガーＨ
・Ｈ・・・・を面状に吸着することができると同時に、次の
未処理ワークも供給できる。
・・を下降させて、ワークＷ1 ・Ｗ2・Ｗ3 を各処理槽の
処理液中に浸漬させると同時に、処理済のワークＷ4 を
取り出す状態を示してある。この下降状態において、マ
グネット５・５・・・・による電磁チャックをオフ操作して
各ワークの吊下ハンガーＨ・Ｈ・・・・の吸着状態を解除す
ると、後端の処理槽Ｔ3 の下流側に配置された処理済ワ
ークの取出部Ｏにおいて、処理済ワークＷ4 付きの吊下
ハンガーＨを右端のブラケット２のマグネット５から外
して処理済ワークＷ4 を取り出すことができる。一方、
この吸着解除状態でブラケット２・２・・・・を上昇させる
と、ワークＷ1 ・Ｗ2 ・Ｗ3 が各処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ
3 の処理液中に浸漬されている図９の如き状態になる。
次いで、この上昇状態で図10に示す如くブラケット２・
２・・・・を各処理槽間の距離だけ後退させてから、当該ブ
ラケット２・２・・・・を下降させると、図11の状態にな
る。この下降状態において、前記電磁チャックをオン操
作すると、ワークＷ1 ・Ｗ2・Ｗ3 の各吊下ハンガーＨ
・Ｈ・・・・を面状に吸着することができると同時に、次の
未処理ワークも供給できる。
【００１９】そして、各処理槽におけるワークＷ1 ・Ｗ
2 ・Ｗ3 の液処理が完了したことを確認してから、各ワ
ークの吊下ハンガーＨ・Ｈ・・・・を吸着した状態のブラケ
ット２・２・・・・を上昇させてワークＷ1 ・Ｗ2 ・Ｗ3 を
引上げると、図12の状態になる。引き続いて、この引上
げ状態からブラケット２・２・・・・を各処理槽間の距離だ
け前進させると、ワークＷ1 が処理槽Ｔ2 の上方に搬送
されて図13の状態になる。このワーク搬送においては、
マグネット５・５・・・・により各ワークの吊下ハンガーＨ
・Ｈ・・・・が面着されて揺動し難い安定な状態になるた
め、隣接する吊下ハンガーＨ・Ｈのワーク同士がぶつか
ってワーク表面に傷がついたりするといった不都合が生
じない。以下、上記の如く前進・後退を反復しながら昇
降運動することにより、各処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ3 へ順
々にワークＷ1 ・Ｗ2 ・・・・を浸漬・引上して搬送せしめ
ることが可能となる。
2 ・Ｗ3 の液処理が完了したことを確認してから、各ワ
ークの吊下ハンガーＨ・Ｈ・・・・を吸着した状態のブラケ
ット２・２・・・・を上昇させてワークＷ1 ・Ｗ2 ・Ｗ3 を
引上げると、図12の状態になる。引き続いて、この引上
げ状態からブラケット２・２・・・・を各処理槽間の距離だ
け前進させると、ワークＷ1 が処理槽Ｔ2 の上方に搬送
されて図13の状態になる。このワーク搬送においては、
マグネット５・５・・・・により各ワークの吊下ハンガーＨ
・Ｈ・・・・が面着されて揺動し難い安定な状態になるた
め、隣接する吊下ハンガーＨ・Ｈのワーク同士がぶつか
ってワーク表面に傷がついたりするといった不都合が生
じない。以下、上記の如く前進・後退を反復しながら昇
降運動することにより、各処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ3 へ順
々にワークＷ1 ・Ｗ2 ・・・・を浸漬・引上して搬送せしめ
ることが可能となる。
【００２０】このように本実施形態装置を用いて一連の
液処理をワークＷ1 ・Ｗ2 ・・・・に施した場合には、各ワ
ークを取り付けた吊下ハンガーＨ・Ｈ・・・・をブラケット
２・２・・・・のマグネット５・５・・・・により面状に吸着し
てワーク搬送を行っているので、液処理の対象となるワ
ークＷ1 ・Ｗ2 ・・・・を揺れないよう安定に搬送すること
ができ、その結果、隣接するワーク同士が搬送中にぶつ
かる虞れはなく、一連の液処理を確実に行うことが可能
となる。しかも、かゝるワークの安定搬送により、ワー
クの搬送速度、特に各処理槽間の前進・後退速度をアッ
プさせることができ、液処理工程におけるワーク搬送時
間の短縮も可能となる。
液処理をワークＷ1 ・Ｗ2 ・・・・に施した場合には、各ワ
ークを取り付けた吊下ハンガーＨ・Ｈ・・・・をブラケット
２・２・・・・のマグネット５・５・・・・により面状に吸着し
てワーク搬送を行っているので、液処理の対象となるワ
ークＷ1 ・Ｗ2 ・・・・を揺れないよう安定に搬送すること
ができ、その結果、隣接するワーク同士が搬送中にぶつ
かる虞れはなく、一連の液処理を確実に行うことが可能
となる。しかも、かゝるワークの安定搬送により、ワー
クの搬送速度、特に各処理槽間の前進・後退速度をアッ
プさせることができ、液処理工程におけるワーク搬送時
間の短縮も可能となる。
【００２１】本発明の実施形態は概ね上記のとおりであ
るが、本発明は前述の実施形態に限定されるものでは決
してなく、「特許請求の範囲」の記載内において種々の
変更が可能であって、例えば、本実施形態においては、
マグネット５として電磁石を使用して電磁チャックを構
成しているが、この電磁チャックを永久磁石のみの組合
せにより構成することも可能であり、このような変更態
様も本発明の技術的範囲に属することは言うまでもな
い。
るが、本発明は前述の実施形態に限定されるものでは決
してなく、「特許請求の範囲」の記載内において種々の
変更が可能であって、例えば、本実施形態においては、
マグネット５として電磁石を使用して電磁チャックを構
成しているが、この電磁チャックを永久磁石のみの組合
せにより構成することも可能であり、このような変更態
様も本発明の技術的範囲に属することは言うまでもな
い。
【００２２】
【発明の効果】以上実施形態を挙げて説明したとおり、
本発明装置によれば、一定の順序に配列された複数の処
理槽へ順々に液処理ワークを揺れないよう安定に浸漬・
引上して搬送することができ、その結果、隣接するワー
ク同士が搬送中にぶつかることなく、一連の液処理を確
実に行うことが可能となる。しかも、かゝるワークの安
定搬送により、ワークの搬送速度、特に各処理槽間の前
進・後退速度をアップさせることができ、液処理工程に
おけるワーク搬送時間の短縮も可能となる。よって、液
処理分野における産業上の利用価値は頗る大である。
本発明装置によれば、一定の順序に配列された複数の処
理槽へ順々に液処理ワークを揺れないよう安定に浸漬・
引上して搬送することができ、その結果、隣接するワー
ク同士が搬送中にぶつかることなく、一連の液処理を確
実に行うことが可能となる。しかも、かゝるワークの安
定搬送により、ワークの搬送速度、特に各処理槽間の前
進・後退速度をアップさせることができ、液処理工程に
おけるワーク搬送時間の短縮も可能となる。よって、液
処理分野における産業上の利用価値は頗る大である。
【図１】本発明の実施形態であるディッピング装置の正
面説明図である。
面説明図である。
【図２】本実施形態装置の側面説明図である。
【図３】図２の本実施形態装置のキャリアーにおける昇
降支柱の下降状態を示した側面説明図である。
降支柱の下降状態を示した側面説明図である。
【図４】本実施形態装置のキャリアーのマグネットによ
る吊下ハンガーの吸着機構を拡大して示した部分斜視説
明図である。
る吊下ハンガーの吸着機構を拡大して示した部分斜視説
明図である。
【図５】本実施形態装置のブラケットのマグネットに未
処理ワークを供給する状態を示した使用説明図である。
処理ワークを供給する状態を示した使用説明図である。
【図６】本実施形態装置のブラケットの上昇運動を示し
た使用説明図である。
た使用説明図である。
【図７】本実施形態装置のブラケットの前進運動を示し
た使用説明図である。
た使用説明図である。
【図８】本実施形態装置のブラケットを下降させてワー
クを浸漬させる状態、および処理済ワークを取り出す状
態を示した使用説明図である。
クを浸漬させる状態、および処理済ワークを取り出す状
態を示した使用説明図である。
【図９】ワークの浸漬状態、および本実施形態装置のブ
ラケットの上昇運動を示した使用説明図である。
ラケットの上昇運動を示した使用説明図である。
【図10】本実施形態装置のブラケットの後退運動を示し
た使用説明図である。
た使用説明図である。
【図11】本実施形態装置のブラケットを下降させてワー
クの吊下ハンガーを吸着する状態、および未処理ワーク
を供給する状態を示した使用説明図である。
クの吊下ハンガーを吸着する状態、および未処理ワーク
を供給する状態を示した使用説明図である。
【図12】本実施形態装置のブラケットを上昇させてワー
クを引上げる状態を示した使用説明図である。
クを引上げる状態を示した使用説明図である。
【図13】本実施形態装置のブラケットの前進運動を示し
た使用説明図である。
た使用説明図である。
【図14】従来装置のキャリアーのフックによる吊下ハン
ガーの引掛機構を拡大して示した部分斜視説明図であ
る。
ガーの引掛機構を拡大して示した部分斜視説明図であ
る。
【図15】従来装置の正面説明図である。
Ｃ キャリアー Ｆ 装置本体フレーム Ｈ 吊下ハンガー Ｈｃ クリップ Ｈｓ 被着部 Ｉ 供給部 Ｋ フック Ｌ 液処理ライン Ｏ 取出部 Ｔ1 ・Ｔ2 ・Ｔ3 処理槽 Ｕｈ 超音波発振器 Ｕｓ 超音波振動子 Ｗ ワーク １ 進退運動機構 11 スライドベース 12 車軸 13 車輪 ２ ブラケット ２′ （従来装置の）ブラケット 21 持出部 21′ （従来装置の）持出部 ３ 昇降支柱 ４ アップダウン機構 41 昇降ロッド 42 流体圧シリンダー ５ マグネット 51 支持バー ６ チャック制御部 ７ 脱磁器
Claims (5)
- 【請求項１】 所要の処理液が収容され一定の順序に配
列された複数の処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・から成る液処理ラ
インＬと；この液処理ラインＬに沿って前進・後退を反
復しながら処理槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・に対しアップダウン運
動することによって前記処理槽へ順々にワークＷを浸漬
・引上して搬送せしめるキャリアーＣとを具備してお
り、かつ、このキャリアーＣは、液処理ラインＬに沿っ
て前進・後退運動を可能にする進退運動機構１と；処理
槽Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・の上方へオーバーハング状態に持出さ
れたブラケット２と；このブラケット２を支持した状態
でアップダウン動作可能であって、前記進退運動機構１
の動作により進退運動する昇降支柱３と；前記ブラケッ
ト２の持出部21に配設され、当該ブラケット２が処理槽
Ｔ1 ・Ｔ2 ・・・・の処理液面に近接したとき当該処理槽内
に浸漬せるワークＷの吊下ハンガーＨを面状に吸着して
吊上げ可能にするマグネット５とを包含して構成されて
いることを特徴とした液処理ワークのマグネット吸着式
ディッピング装置。 - 【請求項２】 マグネット５・５・・・・を配設した支持バ
ー51・51・・・・がブラケット２の持出部21・21下端に複数
本並設されており、これら各支持バー51・51・・・・のマグ
ネット５・５・・・・によって複数本の吊下ハンガーＨ・Ｈ
・・・・を同時に吊上げ可能である請求項１記載の、液処理
ワークのマグネット吸着式ディッピング装置。 - 【請求項３】 ブラケット２を支持した昇降支柱３が、
進退運動機構１のスライドベース11上に立設された昇降
ロッド41に沿って流体圧シリンダー42によりアップダウ
ン動作する請求項１または２記載の、液処理ワークのマ
グネット吸着式ディッピング装置。 - 【請求項４】 脱磁器７が装置本体フレームＦに付設さ
れており、マグネット５にて吸着される吊下ハンガーＨ
の被着部Ｈｓを脱磁可能である請求項１〜３の何れか一
つに記載の、液処理ワークのマグネット吸着式ディッピ
ング装置。 - 【請求項５】 未処理ワークＷの供給部Ｉが前端の処理
槽の上流側に配置されており、この供給部Ｉの位置まで
ブラケット２を後退させることにより未処理ワークＷを
供給可能である一方、処理済ワークＷの取出部Ｏが後端
の処理槽の下流側に配置されており、この取出部Ｏの位
置までブラケット２を前進させることにより処理済ワー
クＷを取出可能である請求項１〜４の何れか一つに記載
の、液処理ワークのマグネット吸着式ディッピング装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11060672A JP2000255771A (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | 液処理ワークのマグネット吸着式ディッピング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11060672A JP2000255771A (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | 液処理ワークのマグネット吸着式ディッピング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000255771A true JP2000255771A (ja) | 2000-09-19 |
Family
ID=13149058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11060672A Pending JP2000255771A (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | 液処理ワークのマグネット吸着式ディッピング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000255771A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012057211A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Honda Motor Co Ltd | 金属リングの移動機構及びその移動方法 |
| CN106153715A (zh) * | 2016-08-31 | 2016-11-23 | 南京佳业检测工程有限公司 | 磁粉探伤机 |
| CN107533911A (zh) * | 2015-04-28 | 2018-01-02 | 信越化学工业株式会社 | 稀土类磁铁的制造方法和稀土类化合物的涂布装置 |
-
1999
- 1999-03-08 JP JP11060672A patent/JP2000255771A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012057211A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Honda Motor Co Ltd | 金属リングの移動機構及びその移動方法 |
| CN107533911A (zh) * | 2015-04-28 | 2018-01-02 | 信越化学工业株式会社 | 稀土类磁铁的制造方法和稀土类化合物的涂布装置 |
| EP3291260A4 (en) * | 2015-04-28 | 2018-12-12 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for producing rare-earth magnets, and rare-earth-compound application device |
| US10790076B2 (en) | 2015-04-28 | 2020-09-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for producing rare-earth magnets, and rare-earth-compound application device |
| CN106153715A (zh) * | 2016-08-31 | 2016-11-23 | 南京佳业检测工程有限公司 | 磁粉探伤机 |
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