JPS592896B2 - スクリ−ンセイハンホウ - Google Patents
スクリ−ンセイハンホウInfo
- Publication number
- JPS592896B2 JPS592896B2 JP13266075A JP13266075A JPS592896B2 JP S592896 B2 JPS592896 B2 JP S592896B2 JP 13266075 A JP13266075 A JP 13266075A JP 13266075 A JP13266075 A JP 13266075A JP S592896 B2 JPS592896 B2 JP S592896B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- screen
- film
- pattern
- emulsion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、例えば精密電子部品の印刷配線基板作成用
等、高精度が要求されるスクリーン印刷に用いて好適す
るスクリーン製版法に関する。
等、高精度が要求されるスクリーン印刷に用いて好適す
るスクリーン製版法に関する。
〒般に、スクリーン印刷に於いて採用されるスクリーン
メツシユヘのエマルジョン（乳剤）の塗布方法には、直
接法、間接法および直間法の３種が代表的なものとして
用いられている。これら塗布方法は未感光のエマルジョ
ンをスクリーンメッシュ上に必要な厚みに塗布又は貼付
け、これに原画となるパターン部材（パターンフィルム
）を密着させて、アーク灯または水銀灯等にて露光させ
、エマルジョンの不必要部分を除去して残留部分により
所望する切要なパターンを得ている。この際、精密電子
部品の回路パターン等、高精度のパターンを得るには、
ナイロン、絹等の軟質繊維で構成されるスクリーンメッ
シュは用いられず、一般にはステンレス等の金属材料で
構成されたスクリーンメッシュが用いられる。 しかし
ながらこの種ステンレス等のスクリーンメッシュを用い
た際、従来では次のような不都合が生じていた。
メツシユヘのエマルジョン（乳剤）の塗布方法には、直
接法、間接法および直間法の３種が代表的なものとして
用いられている。これら塗布方法は未感光のエマルジョ
ンをスクリーンメッシュ上に必要な厚みに塗布又は貼付
け、これに原画となるパターン部材（パターンフィルム
）を密着させて、アーク灯または水銀灯等にて露光させ
、エマルジョンの不必要部分を除去して残留部分により
所望する切要なパターンを得ている。この際、精密電子
部品の回路パターン等、高精度のパターンを得るには、
ナイロン、絹等の軟質繊維で構成されるスクリーンメッ
シュは用いられず、一般にはステンレス等の金属材料で
構成されたスクリーンメッシュが用いられる。 しかし
ながらこの種ステンレス等のスクリーンメッシュを用い
た際、従来では次のような不都合が生じていた。
すなわち、第１図に拡大して示す如く、ステンレスワイ
アｗにより構成されたスクリーンメッシュ１の一方面部
によりエマルジョン１０２を塗込んで、スクリーンメッ
シュ１を包み込むようにエマルジョン２を塗布した後、
スクリーンメッシュ１の一方面部に形成されたエマルジ
ョン２を塗布面上に、パターンＰが形成されたフィルム
３を密着して、そのパターンフィルム３上より１５光４
を照射する。これによつてパターンＰ形成部分に密着し
ているエマルジョン塗布部分Ａｌには光４が当たらず、
現像時にこの部分Ａｌのエマルジョン２が流されてしま
うが、部分Ｂ１には光４が照射されるため、この部分Ｂ
１のエマルジョン２０２は残留する。この際スクリーン
メッシュ１の他方面部に侵透して形成された、上記部分
Ｂ、に対応する部分Ｂ２のエマルジョン２も残留させな
ければならないが、この部分Ｂ２はステンレスワイヤｗ
の影になつて殆ど光４が照射されず、従つ２５て部分Ｂ
２のエマルジョン２もバターＰの対応部分Ａｌ、Ａ２と
共に流され除去されてしまう。このため従来の方法では
、寸法、形状等の安定化が計れず、かつスクリーン強度
、インクの食込み等種種の不都合が生じ、高精度かつ安
定性の高いスクリーン製版が期待できなかつた。そこで
これらの不都合を回避する手段として、エマルジョン２
が塗布されたスクリーンメッシュ１の両面にパターンフ
ィルム３を密着させて、両面部より同時に光を照射する
ことが考えられるが、この際は光源の３５使用個数が倍
加されて、機構的に複雑化するとともに、経済性および
作業性の面でも不利となり、実用性の面で好ましくない
。
アｗにより構成されたスクリーンメッシュ１の一方面部
によりエマルジョン１０２を塗込んで、スクリーンメッ
シュ１を包み込むようにエマルジョン２を塗布した後、
スクリーンメッシュ１の一方面部に形成されたエマルジ
ョン２を塗布面上に、パターンＰが形成されたフィルム
３を密着して、そのパターンフィルム３上より１５光４
を照射する。これによつてパターンＰ形成部分に密着し
ているエマルジョン塗布部分Ａｌには光４が当たらず、
現像時にこの部分Ａｌのエマルジョン２が流されてしま
うが、部分Ｂ１には光４が照射されるため、この部分Ｂ
１のエマルジョン２０２は残留する。この際スクリーン
メッシュ１の他方面部に侵透して形成された、上記部分
Ｂ、に対応する部分Ｂ２のエマルジョン２も残留させな
ければならないが、この部分Ｂ２はステンレスワイヤｗ
の影になつて殆ど光４が照射されず、従つ２５て部分Ｂ
２のエマルジョン２もバターＰの対応部分Ａｌ、Ａ２と
共に流され除去されてしまう。このため従来の方法では
、寸法、形状等の安定化が計れず、かつスクリーン強度
、インクの食込み等種種の不都合が生じ、高精度かつ安
定性の高いスクリーン製版が期待できなかつた。そこで
これらの不都合を回避する手段として、エマルジョン２
が塗布されたスクリーンメッシュ１の両面にパターンフ
ィルム３を密着させて、両面部より同時に光を照射する
ことが考えられるが、この際は光源の３５使用個数が倍
加されて、機構的に複雑化するとともに、経済性および
作業性の面でも不利となり、実用性の面で好ましくない
。
この発明は上記実情に鑑みなされたもので、ステンレス
ワイヤ等で構成されるスクリーンメツシユを用いて、簡
単かつ容易に精度の高い安定した強固な印刷用スクリー
ンを得ることのできるスクリーン製版法を提供すること
を目的とする。
ワイヤ等で構成されるスクリーンメツシユを用いて、簡
単かつ容易に精度の高い安定した強固な印刷用スクリー
ンを得ることのできるスクリーン製版法を提供すること
を目的とする。
以下図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。第
２図および第３図に於いて、１１は透明の板体、例えば
素通しガラスで構成された平面台、１２は補強枠１２Ａ
に保持されたステンレスメツシユの一方の面部（光入射
側の面部）よりエマルジヨンが塗込まれたスクリーン版
、１３は弾性を有する気密保持部材、例えば厚膜ゴムに
より形成された真空密着カバー、１４は所望するパター
ンが形成されたパターンフイルムである。また１５はこ
の発明の要部をなす光吸収反射膜であり、上記パターン
フィルム１４のパターン形成部分に対応する面部に光吸
収膜部１５ａが形成され、その他の面部に光反射膜部１
５ｂが形成される。而してスクリーン製版に際しては、
先ず平面台１１の上面にパターンフイルム１４を載せて
その上にスクリーン版１２を載置し、更にこのスクリー
ン版１２の補強枠１２Ａ内に光吸収反射膜１５を載せた
後、その上から真空密着カバー１３を被せて、このカバ
ー１３内の空気を抜く。これによつてスクリーン版１２
の一方面部（平面台１１と相対する面部）にはパターン
フイルム１４が密着し、他方面部には光吸収反射膜１５
が密着する。その後平面台１１に平行光線を照射するこ
とにより、平面台１１を透過した光がパターンフイルム
１４を介してスクリーン版１２の一方面部に照射され、
パターンによる影の部分を除くエマルジヨンに光が照射
される。この際エマルジヨンを透過した光およびステン
レスメツシユで乱反射した光がスクリーン版１２の他方
面部に密着された光吸収反射膜１５に達し、このうち、
光吸収膜部１５ａに到達した光は吸収されてしまうが、
光反射膜部１５ｂに到達した光は反射されて、スクリー
ン版１２の他方面部に塗布されたエマルジヨンの光反射
膜部１５ｂ密着部分を照射する。このように、光吸収反
射膜１５の作用によつて、スクリーン版１２の他方面部
に於いても所望する個所のみに光が照射でき、従つて現
像の際にその部分のエマルジヨンが流されてしまう虞れ
はなく確実に残留させることができ、以つて精度の高い
安定した強固なスクリーン製版ができる。なお上記した
実施例に於いてはステンレスメツシユを用いたスクリー
ン版を例にとつて説明したが、これに限定されるもので
はなく、例えば絹または化学繊維等によるメツシユを用
いたスクリーン版に用いても、より効果的なスクリーン
製版が行なえる。
２図および第３図に於いて、１１は透明の板体、例えば
素通しガラスで構成された平面台、１２は補強枠１２Ａ
に保持されたステンレスメツシユの一方の面部（光入射
側の面部）よりエマルジヨンが塗込まれたスクリーン版
、１３は弾性を有する気密保持部材、例えば厚膜ゴムに
より形成された真空密着カバー、１４は所望するパター
ンが形成されたパターンフイルムである。また１５はこ
の発明の要部をなす光吸収反射膜であり、上記パターン
フィルム１４のパターン形成部分に対応する面部に光吸
収膜部１５ａが形成され、その他の面部に光反射膜部１
５ｂが形成される。而してスクリーン製版に際しては、
先ず平面台１１の上面にパターンフイルム１４を載せて
その上にスクリーン版１２を載置し、更にこのスクリー
ン版１２の補強枠１２Ａ内に光吸収反射膜１５を載せた
後、その上から真空密着カバー１３を被せて、このカバ
ー１３内の空気を抜く。これによつてスクリーン版１２
の一方面部（平面台１１と相対する面部）にはパターン
フイルム１４が密着し、他方面部には光吸収反射膜１５
が密着する。その後平面台１１に平行光線を照射するこ
とにより、平面台１１を透過した光がパターンフイルム
１４を介してスクリーン版１２の一方面部に照射され、
パターンによる影の部分を除くエマルジヨンに光が照射
される。この際エマルジヨンを透過した光およびステン
レスメツシユで乱反射した光がスクリーン版１２の他方
面部に密着された光吸収反射膜１５に達し、このうち、
光吸収膜部１５ａに到達した光は吸収されてしまうが、
光反射膜部１５ｂに到達した光は反射されて、スクリー
ン版１２の他方面部に塗布されたエマルジヨンの光反射
膜部１５ｂ密着部分を照射する。このように、光吸収反
射膜１５の作用によつて、スクリーン版１２の他方面部
に於いても所望する個所のみに光が照射でき、従つて現
像の際にその部分のエマルジヨンが流されてしまう虞れ
はなく確実に残留させることができ、以つて精度の高い
安定した強固なスクリーン製版ができる。なお上記した
実施例に於いてはステンレスメツシユを用いたスクリー
ン版を例にとつて説明したが、これに限定されるもので
はなく、例えば絹または化学繊維等によるメツシユを用
いたスクリーン版に用いても、より効果的なスクリーン
製版が行なえる。
また上記実施例に於いては、光吸収膜部１５ａと光反射
膜部１５ｂとを一体化して示したが、別個に形成し重ね
合わせて光吸収反射膜を構成してもよく、要はこの発明
の要旨を逸脱しない範囲で種々応用可能である。以上詳
述したようにこの発明によれば、未感光スクリーンの光
透過側の面部に、光吸収膜と光反射膜とを所望するパタ
ーンをもつて配し、この光反射膜で上記面部の所望個所
を露光せしめるようにしたことにより、簡単かつ容易な
手段で精度の高い安定した強固な印刷用スクリーンを得
ることのできるスクリーン製版法が提供できる。
膜部１５ｂとを一体化して示したが、別個に形成し重ね
合わせて光吸収反射膜を構成してもよく、要はこの発明
の要旨を逸脱しない範囲で種々応用可能である。以上詳
述したようにこの発明によれば、未感光スクリーンの光
透過側の面部に、光吸収膜と光反射膜とを所望するパタ
ーンをもつて配し、この光反射膜で上記面部の所望個所
を露光せしめるようにしたことにより、簡単かつ容易な
手段で精度の高い安定した強固な印刷用スクリーンを得
ることのできるスクリーン製版法が提供できる。
第１図は従来のスクリーン製版法を説明するための一部
を拡大して示す断面図、第２図および第３図はこの発明
の一実施例を示す斜視図および側面配置図である。 １１・・・・・・平面台、１２・・・・・・スクリーン
版、１３・・・・・・真空密着カバー、１４・・・・・
・パターンフイルム、１５・・・・・・光吸収反射膜、
１５ａ・・・・・・光吸収膜部、１５ｂ・・・・・・光
反射膜部。
を拡大して示す断面図、第２図および第３図はこの発明
の一実施例を示す斜視図および側面配置図である。 １１・・・・・・平面台、１２・・・・・・スクリーン
版、１３・・・・・・真空密着カバー、１４・・・・・
・パターンフイルム、１５・・・・・・光吸収反射膜、
１５ａ・・・・・・光吸収膜部、１５ｂ・・・・・・光
反射膜部。
Claims (1)
- １ 不透明材質で構成されるメッシュにエマルジョンが
塗布された未感光スクリーンの光入射側の面部にパター
ン部材を配し、この面部と対向する面部の上記パターン
部分に対応する個所には光吸収膜を配し、かつその他の
個所には光反射膜を配して、上記各膜を上記スクリーン
面部に密着させた後、パターン作成のための光照射を行
なわせしめることを特徴とするスクリーン製版法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13266075A JPS592896B2 (ja) | 1975-11-05 | 1975-11-05 | スクリ−ンセイハンホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13266075A JPS592896B2 (ja) | 1975-11-05 | 1975-11-05 | スクリ−ンセイハンホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5256613A JPS5256613A (en) | 1977-05-10 |
| JPS592896B2 true JPS592896B2 (ja) | 1984-01-21 |
Family
ID=15086507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13266075A Expired JPS592896B2 (ja) | 1975-11-05 | 1975-11-05 | スクリ−ンセイハンホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS592896B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS642954Y2 (ja) * | 1982-07-19 | 1989-01-25 | ||
| JPH0277298U (ja) * | 1988-12-01 | 1990-06-13 |
-
1975
- 1975-11-05 JP JP13266075A patent/JPS592896B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS642954Y2 (ja) * | 1982-07-19 | 1989-01-25 | ||
| JPH0277298U (ja) * | 1988-12-01 | 1990-06-13 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5256613A (en) | 1977-05-10 |
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