JPS6131864B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は両面フオトエツチング方法に関するも
のである。

金属あるいはガラス等を素材の両面からエツチ
ングする場合に使用する露光用マスクとしては、
写真乾板、あるいはフイルムを用いたエマルジヨ
ンマスクが広く知られている。

これらエマルジヨンマスクは、上下のマスクが
個々に写真処理された２枚の写真乾板あるいはフ
イルムであり露光機能を持つアライメント装置に
よつて位置出しおよび露光するか、単なるアライ
メント装置で位置出し後上下のマスクを固定して
露光を行なつている。

この方法によると、高精度のアライメント装置
が必要であり、かつ、精度的に不安定であつた。

特に多数個取りされた２枚の乾板あるいはフイ
ルムをアライメントする時には、個々のパターン
の位置精度が要求され、高精度のアライメント装
置も、高精度の殖版機無しには意味をなさない結
果となつている。

しかも、高精度の両装置をそろえた場合におい
ても、個々にパターン形成されたものを合わせる
という視点では、おのずと精度に限界があつた。

そこで本発明の目的は、これら高精度の装置を
用いなくとも、より精度の高い両面エツチングを
可能とする方法を提供すると共に半抜き部を持つ
部品についての両面エツチング方法をも提供する
ことにある。

上記目的のために、本発明においては、通常多
数個取りされた一枚のフイルムに未感光のリバー
サルフイルムの一辺以上を固定した後、露光現像
を行なつて、一体となつた両面エツチング用のマ
スクを得るようにした。

また、半抜き部のある部品については、あらか
じめ多数個取りされた一枚のフイルムに半抜き部
裏パターン消却用マスクを位置出しの後、少なく
とも一辺を固定して置き、次にその間の多数個取
りされたフイルム側に未感光のリバーサルフイル
ムを固定し、両側から露光する事によつて、リバ
ーサルフイルムには半抜き部パターンの無い両面
エツチング用マスクを得るようにした。

以下実施例につき図面を参照して説明する。

第１図において１は多数個取りされたフイルム
であり、３はそこに焼付けられたパターンの１つ
である。この多数個取りされたフイルム１と２で
示された未感光のリバーサルフイルムとを第２図
のように、端の方の２辺５で乳剤面どうしを向い
合せて接着する。

第３図は第２図を横から見た図であり、多数個
取りされたフイルム１をマスクとして２のリバー
サルフイルムは６で示される適度な平行光線で密
着露光される。

そしてリバーサルフイルム現像後第４図に示す
ような両面エツチング用マスクが得られる。リバ
ーサルフイルム２には、多数個取りされたフイル
ム１に焼付けられたパターン３と、同位置に同パ
ターン４が形成されている。

フオトレジストをコーテイングした金属あるい
はガラスなどの素材はフイルム１とフイルム２の
間にセツトされ、上下同時に露光される事によ
り、両面同じ位置に同じパターンが形成される。

上記方法においては半抜き部を持つ部品の場
合、上下同じパターンのため、フオトレジストパ
ターン形成時に半抜き部の裏パターンも形成され
てしまう。

そこで次に、半抜き部裏パターン消却用マスク
を用いて半抜き部の裏パターンを消却した両面エ
ツチング用マスクの製作方法の実施例を図面を参
照して説明する。

第５図において、１は多数個取りされた１枚の
フイルムであり、３はそこに焼付けられたパター
ンの１つであるがその中央部には半抜き部分７が
ある。

第６図の８は半抜き部裏パターン消却用マスク
であり９は第５図の半抜き部７と同ピツチで同数
開けられている少なくとも同じ大きさかそれ以上
の大きさを持つ窓の１つである。

多数個取りしたフイルム１の半抜き部７と半抜
き部裏パターン消却用マスク８の窓９とを位置合
せした後、第７図に示すように端の方の一辺を接
着する。

第８図は半抜き部裏パターン消却用マスク接着
部１０の部分で、多数個取りされたフイルム１と
半抜き部裏パターン消却用マスク８の間に未感光
のリバーサルフイルム２を５で示す部分によつて
多数個取りされたフイルム１に接着した図であ
る。１の多数個取りされたフイルムと２のリバー
サルフイルムは乳剤面どうしを向い合わせて接着
する。

一点鎖線１１は第９図の断面位置であり、第９
図において３は抜き部に当たるパターンの黒化銀
で７は半抜き部に当たるパターンの黒銀化であ
る。９は半抜き部の真下に位置する半抜き部裏パ
ターン消却用マスクの窓である。

この一体化したフイルムの層を真空密着して適
度な平行光線６を上下から与えると、半抜き部裏
パターン消却用マスク８の窓９を通過して来た下
側の光６によつて半抜き部のパターン７は露光さ
れ、リバーサルフイルム２にはパターン７が形成
されない。次に点線１２で示す位置により切断し
てリバーサルフイルムを現像すると第１０図のよ
うな両面エツチング用マスクが得られる。

リバーサルフイルム上に現像されて表われて来
たパターン４は多数個取りされたフイルム１上の
フオトエツチング用パターン３と同位置の同パタ
ーンであるが半抜き部７はパターン化されていな
い。

そのため、このマスクを用いてフオトレジスト
を焼付け、エツチングした製品は第１１図に示す
ように中央部は半抜きにされたまま外形は抜け
る。

本発明においては、二枚の乾板あるいはフイル
ムをアライメントするという見解から脱して高精
度の装置を用いても限界のあつた上下の位置合せ
精度を、特殊な技術を必要とせず一挙に解決した
ものであり、半抜き部を持つ部品については、そ
の効果はより大きい。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例を示し、第１図は多数
個取りしたフイルムを示す平面図、第２図は多数
個取りしたフイルムと未感光リバーサルフイルム
とを端の方の２辺で接着した斜視図、第３図は露
光時の側面図、第４図はリバーサルフイルム現像
後の両面エツチング用マスクの斜視図、第５図は
半抜き部を持つ部品の多数個取りを行なつたフイ
ルムを示す平面図、第６図は半抜き部裏パターン
消却用マスクを示す平面図、第７図は多数個取り
されたフイルムと半抜き部裏パターン消却用マス
クとを端の方の一辺で接着した斜視図、第８図は
多数個取りしたフイルム側に未感光リバーサルフ
イルムの二辺を接着した状態を示す斜視図、第９
図は露光時の側面図、第１０図はリバーサルフイ
ルム現像後の両面エツチング用マスクの斜視図、
第１１図はマスクを使用して製作した部品の説明
図である。 １……多数個取りされたフイルム、２……リバ
ーサルフイルム、３……多数個取りされたフイル
ム上に形成された部品のフオトエツチング用パタ
ーン、４……リバーサルフイルム上に形成された
部品のフオトエツチング用パターン、５……リバ
ーサルフイルム接着部。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ あらかじめエツチングパターンが現像されて
   いるエマルジヨンマスクに未感光のリバーサルフ
   イルムを重ねて少なくともその一端を相互に固定
   し、前記パターンを前記リバーサルフイルムに転
   写したのち相互の固定を保つたまま両面エツチン
   グ用露光マスクとして使用することを特徴とする
   両面フオトエツチング方法。