JPS592860B2 - クロマトグラフカラム用の結合した有機薄膜充填物 - Google Patents
クロマトグラフカラム用の結合した有機薄膜充填物Info
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明はクロマトグラフ分析において使用のための改
良したシリカ充填物およびそれらを製造1ウn−する方
法に関する。
良したシリカ充填物およびそれらを製造1ウn−する方
法に関する。
特にこの発明はシリカ支持体表面に化学的に結合した非
常に薄い重合体有機フイルムを有する微粉末シリカ支持
体に関する。クロマトグラフの実施を最適にするための
問題はクロマトグラフの開発の歴史を通して存在した問
題である。気一液クロマトグラフを分析上の問題に適用
することによつて十分な進歩が得られるけれども、これ
らの進歩の大部分はカラム充填物それ自体よりも装置の
改良によつてもたらされる。シリカクロマトグラフカラ
ム用の充填物の表面上に存在する活性基によつて引き起
こされる問題を避け又は最小にするために被覆充填物は
、水の連続的除去を許容するような条件のもとで活性シ
リカを適当なアルコールと一緒に加熱し、それによつて
そのアルコールをシラノール基でエーテル化させること
によつて作られていた。ハラヅ等のジヤーナル・オプ・
クロマトグラフ・サイエンス12巻161頁(1974
)参照。しかしながら得られた被覆物はしばしば均一で
はなくそしてその方法の再現生は困難である。スチール
等のUSP3664967号は、シリカ又はアルミナゲ
ルをオルガノハロシランと反応させ、その表面に付着し
たそのハロシラン基をアルコールと反応させ、そしてそ
の生成物をハロゲン化してその支持表面上に結合したハ
ロ有機被覆を提供する方法を記載している。しかしなが
ら、そのように得られたクロマトグラフ充填物はいまだ
に全面的に満足のいくものではない。(a) Si−0
H基を有するシリカ表面とSiCl4とを接触させて本
質的にすべての前記ヒドロキシ基を反応させ、それによ
つてクロロシリル化表面を形成し、(b)そのクロロシ
リル化表面と100℃〜250℃の温度で3000〜1
00000の平均分子量を有するポリオールの不活性溶
媒溶液と接触させることによつて反応させ、(c) 5
0℃〜150℃でそのクロロシリル化表面ポリオール反
応生成物とそのクロロシリル基の残余を中和するに十分
な量の低級アルカノールとを接触させ、そして(d)そ
の反応混合物から本質的に純粋そして乾燥した固形物と
して中和した生成物を分離することからなる方法によつ
て均一かつ高品質の新規なクロマトグラフ充填物が製造
されることが発見された。
常に薄い重合体有機フイルムを有する微粉末シリカ支持
体に関する。クロマトグラフの実施を最適にするための
問題はクロマトグラフの開発の歴史を通して存在した問
題である。気一液クロマトグラフを分析上の問題に適用
することによつて十分な進歩が得られるけれども、これ
らの進歩の大部分はカラム充填物それ自体よりも装置の
改良によつてもたらされる。シリカクロマトグラフカラ
ム用の充填物の表面上に存在する活性基によつて引き起
こされる問題を避け又は最小にするために被覆充填物は
、水の連続的除去を許容するような条件のもとで活性シ
リカを適当なアルコールと一緒に加熱し、それによつて
そのアルコールをシラノール基でエーテル化させること
によつて作られていた。ハラヅ等のジヤーナル・オプ・
クロマトグラフ・サイエンス12巻161頁(1974
)参照。しかしながら得られた被覆物はしばしば均一で
はなくそしてその方法の再現生は困難である。スチール
等のUSP3664967号は、シリカ又はアルミナゲ
ルをオルガノハロシランと反応させ、その表面に付着し
たそのハロシラン基をアルコールと反応させ、そしてそ
の生成物をハロゲン化してその支持表面上に結合したハ
ロ有機被覆を提供する方法を記載している。しかしなが
ら、そのように得られたクロマトグラフ充填物はいまだ
に全面的に満足のいくものではない。(a) Si−0
H基を有するシリカ表面とSiCl4とを接触させて本
質的にすべての前記ヒドロキシ基を反応させ、それによ
つてクロロシリル化表面を形成し、(b)そのクロロシ
リル化表面と100℃〜250℃の温度で3000〜1
00000の平均分子量を有するポリオールの不活性溶
媒溶液と接触させることによつて反応させ、(c) 5
0℃〜150℃でそのクロロシリル化表面ポリオール反
応生成物とそのクロロシリル基の残余を中和するに十分
な量の低級アルカノールとを接触させ、そして(d)そ
の反応混合物から本質的に純粋そして乾燥した固形物と
して中和した生成物を分離することからなる方法によつ
て均一かつ高品質の新規なクロマトグラフ充填物が製造
されることが発見された。
その反応生成物は厚さにおいて本質的に単一分子である
均一な、化学的に結合した有機表面被覆を有する。この
結合した被覆物は、実質上完全な表面被覆をもたらしそ
して表面活性を最小にする。この発明のクロマトグラフ
充填物は高い熱的安定性、選択性の増加、調節可能な官
能性、分析時間の短縮、サンプル成分に対する低い反応
性、及び通常の被覆充填物における溶離のために必要な
温度よりも低温で溶質種の鋭敏な分離の利点を有する。
均一な、化学的に結合した有機表面被覆を有する。この
結合した被覆物は、実質上完全な表面被覆をもたらしそ
して表面活性を最小にする。この発明のクロマトグラフ
充填物は高い熱的安定性、選択性の増加、調節可能な官
能性、分析時間の短縮、サンプル成分に対する低い反応
性、及び通常の被覆充填物における溶離のために必要な
温度よりも低温で溶質種の鋭敏な分離の利点を有する。
これらの利点は上記に記載した工程を実施することによ
つて達成され、そしてそれらは好ましい操作条件のこと
でこれらを実施することによつて最大となる。
つて達成され、そしてそれらは好ましい操作条件のこと
でこれらを実施することによつて最大となる。
例えばシリカ支持体のその表面は特別に活性化すること
が好ましく、100〜300℃で0.5〜5時間蒸気化
した濃塩酸で洗浄化したシリカを処理することによつて
その表面シリコン原子に結合した多数のヒドロキシ基を
提供する。その蒸気化した水性HCIは例えば窒素、ア
ルゴン又はヘリウムのような不活性ガスとの混合物とし
て適用されるのが最も便利である。そのシリカ表面上の
ヒドロキシ(又はそのシラノール)基はそれから四塩化
珪素とその液体反応体とのスラリー反応により、又はS
iCl4がそのシリカ粒子の床と接触させる気一液反応
により反応される。
が好ましく、100〜300℃で0.5〜5時間蒸気化
した濃塩酸で洗浄化したシリカを処理することによつて
その表面シリコン原子に結合した多数のヒドロキシ基を
提供する。その蒸気化した水性HCIは例えば窒素、ア
ルゴン又はヘリウムのような不活性ガスとの混合物とし
て適用されるのが最も便利である。そのシリカ表面上の
ヒドロキシ(又はそのシラノール)基はそれから四塩化
珪素とその液体反応体とのスラリー反応により、又はS
iCl4がそのシリカ粒子の床と接触させる気一液反応
により反応される。
その場合後者の方が好ましい。どちらの反応においても
、そのSiCl4反応は過剰の反応容器圧を避けるため
にガス相反応では50℃〜300℃、好ましくは150
℃〜250℃の温度、液体四塩化珪素との反応ではこれ
より幾分低温で行なわれる。このクロロシリル化反応は
シリカ表面1m2当りシリコン結合塩素0.002〜0
.01グラム原子の程度まで実施されるのが好ましい。
そのクロロシリル化生成物とそのポリオール又はポリエ
ステルポリオールとの反応は、好ましくはそのポリオー
ルに対し不活性な溶剤の存在下スラリー反応によりその
液体ポリオール反応体とその固体とクロロシリル化シリ
カとを接触させることによつて行なわれる。適した溶剤
は100℃又はそれ以上の沸点を有しその反応条件のも
とで両反応体と不活性な溶剤である。その溶剤の例はキ
シレン、ジエチルベンゼンおよびドユレンのような芳香
族炭化水素である。少なくとも3000の平均分子量の
低級アルキレンポリグリコールはポリオール反応体とし
て好ましい。
、そのSiCl4反応は過剰の反応容器圧を避けるため
にガス相反応では50℃〜300℃、好ましくは150
℃〜250℃の温度、液体四塩化珪素との反応ではこれ
より幾分低温で行なわれる。このクロロシリル化反応は
シリカ表面1m2当りシリコン結合塩素0.002〜0
.01グラム原子の程度まで実施されるのが好ましい。
そのクロロシリル化生成物とそのポリオール又はポリエ
ステルポリオールとの反応は、好ましくはそのポリオー
ルに対し不活性な溶剤の存在下スラリー反応によりその
液体ポリオール反応体とその固体とクロロシリル化シリ
カとを接触させることによつて行なわれる。適した溶剤
は100℃又はそれ以上の沸点を有しその反応条件のも
とで両反応体と不活性な溶剤である。その溶剤の例はキ
シレン、ジエチルベンゼンおよびドユレンのような芳香
族炭化水素である。少なくとも3000の平均分子量の
低級アルキレンポリグリコールはポリオール反応体とし
て好ましい。
これらのポリオールの例は、ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、
2種又はそれ以上のこれらのオキシアルキレン単位のプ
ロツク共重合体およびこれらの任意の物理的混合物を含
む。最小の分子量は、効果的な表面被覆および必然的な
表面失活を与えるために必要な最小の分子長単位である
。ポリエチレングリコールではその最小の分子量は、平
均分子において65〜70個のオキシエチレン単位の鎖
である。ポリプロピレンおよびポリブチレングリコール
ではそれぞれ約4000および5000の分子量が、同
様の長さの分子に対応する。約100000の平均分子
量を有するポリグリコールが実際的な最大分子大きさの
限界を示す。ポリエステルポリオールはポリオール反応
体の別の種類のものである。2〜16個の炭素原子のア
ルキレンジオールと3〜10個の炭素原子のジカルボン
酸とのエステル化によつて作られたポリマーが好ましい
例である。
ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、
2種又はそれ以上のこれらのオキシアルキレン単位のプ
ロツク共重合体およびこれらの任意の物理的混合物を含
む。最小の分子量は、効果的な表面被覆および必然的な
表面失活を与えるために必要な最小の分子長単位である
。ポリエチレングリコールではその最小の分子量は、平
均分子において65〜70個のオキシエチレン単位の鎖
である。ポリプロピレンおよびポリブチレングリコール
ではそれぞれ約4000および5000の分子量が、同
様の長さの分子に対応する。約100000の平均分子
量を有するポリグリコールが実際的な最大分子大きさの
限界を示す。ポリエステルポリオールはポリオール反応
体の別の種類のものである。2〜16個の炭素原子のア
ルキレンジオールと3〜10個の炭素原子のジカルボン
酸とのエステル化によつて作られたポリマーが好ましい
例である。
アルキレンジオールはエチレングリコール、プロピレン
グリコール、プチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ジブチレングリコール、
トリメチレングリコール、1・4−ブタンジオール、お
よび1・12−ドデカンジオール並びにそれらの混合物
である。マロン酸、こはく酸およびセバシン酸のような
ジカルボン酸が好ましいが、しかしテレフタル酸および
イソフタル酸のような芳香族二酸が単独で又は上記の酸
との混合物も又使用できる。そのポリエステル化反応は
普通には便宜上塩化二酸と一緒に実施される。他の反応
性ジハロゲン化物、例えば有機シリコンクロライド又は
ジスルホニルジクロライドはその得られたポリマーの性
質を変えるためにポリエステル化反応中にその塩化二酸
と一緒に少量混合できる。約3000の最小の分子量が
ポリエステルポリオール反応体にとつて又適している。
そのポリエステルポリオールはそのポリエステル化反応
及びそのポリオール分子とクロロシリル基との反応は多
少同時に行なわれるようにクロロシリル化シリカの存在
においてその場で製造されることが好ましい。そのポリ
オール又はポリエステルポリオールとそのクロロシリル
化シリカとの反応が実質上終わつた時、少量の未反応の
クロロシリル基がそのシリカ表面上に残留している。
グリコール、プチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ジブチレングリコール、
トリメチレングリコール、1・4−ブタンジオール、お
よび1・12−ドデカンジオール並びにそれらの混合物
である。マロン酸、こはく酸およびセバシン酸のような
ジカルボン酸が好ましいが、しかしテレフタル酸および
イソフタル酸のような芳香族二酸が単独で又は上記の酸
との混合物も又使用できる。そのポリエステル化反応は
普通には便宜上塩化二酸と一緒に実施される。他の反応
性ジハロゲン化物、例えば有機シリコンクロライド又は
ジスルホニルジクロライドはその得られたポリマーの性
質を変えるためにポリエステル化反応中にその塩化二酸
と一緒に少量混合できる。約3000の最小の分子量が
ポリエステルポリオール反応体にとつて又適している。
そのポリエステルポリオールはそのポリエステル化反応
及びそのポリオール分子とクロロシリル基との反応は多
少同時に行なわれるようにクロロシリル化シリカの存在
においてその場で製造されることが好ましい。そのポリ
オール又はポリエステルポリオールとそのクロロシリル
化シリカとの反応が実質上終わつた時、少量の未反応の
クロロシリル基がそのシリカ表面上に残留している。
これらの非常に望ましくない活性基を除去するために、
その未反応のクロロシリル基は、その反応混合物にメタ
ノール、エタノール又はイソプロパノールのような低級
アルカノールを加えそして前述のように加熱することに
よつて中和される。低分子量その後より反応性のポリオ
ールでの中間の中和が実施されることが好ましく、順次
分子量を低下させるような順序で数種類のポリオールで
の中和が最つとも好ましい。この方法では、そのシリカ
表面は可能な限り最大長の分子でおおわれる。例えば、
クロロシリル化シリカが約20000の分子量のポリエ
チレングリコールと反応可能であり、そして残りのシリ
コン一結合塩素原子はそれから約5000のポリエチレ
ングリコール次いで約1000のポリエチレングリコー
ルそれからトリエチレングリコールそして最後にメタノ
ールと順次反応させることによつて中和され、すべての
可能な残留クロロシリル基の中和を達成する。シリカ表
面の製造 例1 80−100メツシユのクロモソーブWすなわちジヨー
ンズーマンビレーコープによつてクロマトグラフ用に特
に製造された融剤で焼成したセリツト珪藻土シリカ約1
001を、一定に沸騰下の塩酸でのソツクスレ一抽出装
置中で24−72時間抽出した。
その未反応のクロロシリル基は、その反応混合物にメタ
ノール、エタノール又はイソプロパノールのような低級
アルカノールを加えそして前述のように加熱することに
よつて中和される。低分子量その後より反応性のポリオ
ールでの中間の中和が実施されることが好ましく、順次
分子量を低下させるような順序で数種類のポリオールで
の中和が最つとも好ましい。この方法では、そのシリカ
表面は可能な限り最大長の分子でおおわれる。例えば、
クロロシリル化シリカが約20000の分子量のポリエ
チレングリコールと反応可能であり、そして残りのシリ
コン一結合塩素原子はそれから約5000のポリエチレ
ングリコール次いで約1000のポリエチレングリコー
ルそれからトリエチレングリコールそして最後にメタノ
ールと順次反応させることによつて中和され、すべての
可能な残留クロロシリル基の中和を達成する。シリカ表
面の製造 例1 80−100メツシユのクロモソーブWすなわちジヨー
ンズーマンビレーコープによつてクロマトグラフ用に特
に製造された融剤で焼成したセリツト珪藻土シリカ約1
001を、一定に沸騰下の塩酸でのソツクスレ一抽出装
置中で24−72時間抽出した。
その抽出したシリカを洗浄塔中に置きそして流体床バツ
クーフラツシユ方法を使つて室温で脱イオン水で12−
24時間洗浄し酸および微粉末を除去する。その洗浄し
たシリカをメタノールで完全にゆすぎ、そしてそれから
約2時間沢過空気を通過させることによつて乾燥した。
その乾燥シリカを、表面反応に供するまで密閉ガラスピ
ン中に貯蔵した。そのシリカ表面は、その酸抽出シリカ
307をグラムシェル電気炉によつて加熱されたガラス
反応管中に充填し、そして約40分間にわたつてそれの
温度を40℃までさらにそこから200℃に上昇させな
がら、その床を通して約45m1/分で窒素を通過させ
、それからその床を通る窒素がHClおよび水蒸気で実
質上飽和されるように、入つてくる窒素の流れを泡立つ
た濃塩酸中を通過させるように変えた。
クーフラツシユ方法を使つて室温で脱イオン水で12−
24時間洗浄し酸および微粉末を除去する。その洗浄し
たシリカをメタノールで完全にゆすぎ、そしてそれから
約2時間沢過空気を通過させることによつて乾燥した。
その乾燥シリカを、表面反応に供するまで密閉ガラスピ
ン中に貯蔵した。そのシリカ表面は、その酸抽出シリカ
307をグラムシェル電気炉によつて加熱されたガラス
反応管中に充填し、そして約40分間にわたつてそれの
温度を40℃までさらにそこから200℃に上昇させな
がら、その床を通して約45m1/分で窒素を通過させ
、それからその床を通る窒素がHClおよび水蒸気で実
質上飽和されるように、入つてくる窒素の流れを泡立つ
た濃塩酸中を通過させるように変えた。
そのHClで飽和された窒素流は、3時間同じ速度で2
00℃で通過させ、それからそのバブラ一を迂回させそ
してその床を200℃で1時間純粋な窒素でフラツシユ
した。SiCl4との反応 例この点で、SiCl4で
充填されたバブラ一はその窒素供給管に連結しそしてそ
のシリカ床を、その温度及び窒素流を前の水準で一定に
保持して、90分間窒素中でSiCl4蒸気と接触させ
た。
00℃で通過させ、それからそのバブラ一を迂回させそ
してその床を200℃で1時間純粋な窒素でフラツシユ
した。SiCl4との反応 例この点で、SiCl4で
充填されたバブラ一はその窒素供給管に連結しそしてそ
のシリカ床を、その温度及び窒素流を前の水準で一定に
保持して、90分間窒素中でSiCl4蒸気と接触させ
た。
そのクロロシリル化シリカの床はそれから前述のように
15分間窒素でフラツシユし、そしてその炉から取り出
し連続した窒素流で室温まで冷却した。下記の方法が、
江目されるような変更を加えてそのクロロシリル化シリ
カとポリグリコールとの反応のため使用された。これら
の実施例において記載されたように幾分変更を加えた方
法が、ポリエステルポリオールの対応する反応のために
使用された。ポリオールとの反応 例 還流凝縮器および窒素入口を取付けたガラス反応フラス
コに、ポリグリコール反応体107およびo−キシレン
300dを加え、そしてその内容物を約1時間乾燥窒素
フラツシユで約1時間還流し少量の水を除去し、それか
らその内容物を110℃まで冷却しそしてそのクロロシ
リル化シリカ約307を窒素雰囲気のもとで加えた。
15分間窒素でフラツシユし、そしてその炉から取り出
し連続した窒素流で室温まで冷却した。下記の方法が、
江目されるような変更を加えてそのクロロシリル化シリ
カとポリグリコールとの反応のため使用された。これら
の実施例において記載されたように幾分変更を加えた方
法が、ポリエステルポリオールの対応する反応のために
使用された。ポリオールとの反応 例 還流凝縮器および窒素入口を取付けたガラス反応フラス
コに、ポリグリコール反応体107およびo−キシレン
300dを加え、そしてその内容物を約1時間乾燥窒素
フラツシユで約1時間還流し少量の水を除去し、それか
らその内容物を110℃まで冷却しそしてそのクロロシ
リル化シリカ約307を窒素雰囲気のもとで加えた。
そのフラスコを通る窒素流を継続し、そしてその反応混
合物を2−24時間還流温度で加熱した。それからその
反応混合物を、還流温度に保持しながらその実施例にお
いて記載されたポリエチレングリコールを添加すること
によつて急冷した。それからその反応器を100℃まで
冷却し、その加熱源を取り除きそして無水メタノール5
0m1をゆつくり加えて残留しているクロロシラン基を
中和した。その添加を完了し、そしてその反応混合物を
55℃〜60℃まで冷却した後、実質上キシレン及び未
反応のポリグリコールからなるその反応器フラスコ中の
液体をデカントし、そしてその反応済のシリカをメタノ
ールで3回デカンテーシヨンにより洗浄し、次いでクロ
ロホルムで3回デカンテーシヨンして洗浄した。それか
らその洗浄済のシリカを、洗浄塔に注意深く移し、そこ
でメタノール、クロロホルムおよびメチレンクロライド
各々300m1を重力により流し完全に洗浄した。それ
からその洗浄したシリカを約1時間そのカラムを通して
沢過した空気を流し、乾燥した。その最後の結合したシ
リカ充填物を使用まで密封したガラスピンの中に貯蔵し
た。実施例 1 クロロシリル化された100−120メツシユのクロモ
ソーブW(一連のスクリン焼成および融剤焼成された珪
藻土凝集物)を、上記に記載したポリオール反応例の方
法によつて20000の平均分子量(E−20000)
のポリエチレングリコールと反応させた。
合物を2−24時間還流温度で加熱した。それからその
反応混合物を、還流温度に保持しながらその実施例にお
いて記載されたポリエチレングリコールを添加すること
によつて急冷した。それからその反応器を100℃まで
冷却し、その加熱源を取り除きそして無水メタノール5
0m1をゆつくり加えて残留しているクロロシラン基を
中和した。その添加を完了し、そしてその反応混合物を
55℃〜60℃まで冷却した後、実質上キシレン及び未
反応のポリグリコールからなるその反応器フラスコ中の
液体をデカントし、そしてその反応済のシリカをメタノ
ールで3回デカンテーシヨンにより洗浄し、次いでクロ
ロホルムで3回デカンテーシヨンして洗浄した。それか
らその洗浄済のシリカを、洗浄塔に注意深く移し、そこ
でメタノール、クロロホルムおよびメチレンクロライド
各々300m1を重力により流し完全に洗浄した。それ
からその洗浄したシリカを約1時間そのカラムを通して
沢過した空気を流し、乾燥した。その最後の結合したシ
リカ充填物を使用まで密封したガラスピンの中に貯蔵し
た。実施例 1 クロロシリル化された100−120メツシユのクロモ
ソーブW(一連のスクリン焼成および融剤焼成された珪
藻土凝集物)を、上記に記載したポリオール反応例の方
法によつて20000の平均分子量(E−20000)
のポリエチレングリコールと反応させた。
その反応混合物は6000の平均分子量を有する溶融し
たポリエチレングリコール(E−6000)約27を加
えることによつて急冷し、約20分間その反応混合物を
還流しそしてこの操作は、E−4000,.E−100
0、E−400のポリエチレングリコールを順次使用し
て繰返えされた。それからその反応済のシリカをメタノ
ールで処理し、そして前述のように洗浄しそして乾燥し
て、ポリオールが結合した充填物を得た。実施例2およ
び比較例1および2 SiC14との反応例に従つてクロロシリル化された1
00−120メツシユのクロモソーブw(一連のスクリ
ン焼成および融剤焼成された珪藻土凝集物)を上述した
ポリオール反応例の方法に従つて分子量20000のポ
リエチレングリコール107を使用して結合した充填物
を作つた。
たポリエチレングリコール(E−6000)約27を加
えることによつて急冷し、約20分間その反応混合物を
還流しそしてこの操作は、E−4000,.E−100
0、E−400のポリエチレングリコールを順次使用し
て繰返えされた。それからその反応済のシリカをメタノ
ールで処理し、そして前述のように洗浄しそして乾燥し
て、ポリオールが結合した充填物を得た。実施例2およ
び比較例1および2 SiC14との反応例に従つてクロロシリル化された1
00−120メツシユのクロモソーブw(一連のスクリ
ン焼成および融剤焼成された珪藻土凝集物)を上述した
ポリオール反応例の方法に従つて分子量20000のポ
リエチレングリコール107を使用して結合した充填物
を作つた。
比較のためSiCl4との反応を行なわない実施例2と
同じクロモソーブwに、5%又は3%の被覆量を生ずる
に十分な量の分子量20000のポリエチレングリコー
ルを含むスラリーで処理して5%(比較例1)又は3%
(比較例2)ポリエチレングリコール被覆充填物を作つ
た。(ハラヅ等のジャーナル・オブ・クロマトグラフ・
サイエンス12巻、161頁、1974年参照)これら
の充填物を、12時間220℃12時間そして60m1
/分のヘリウム流で予め調節した。
同じクロモソーブwに、5%又は3%の被覆量を生ずる
に十分な量の分子量20000のポリエチレングリコー
ルを含むスラリーで処理して5%(比較例1)又は3%
(比較例2)ポリエチレングリコール被覆充填物を作つ
た。(ハラヅ等のジャーナル・オブ・クロマトグラフ・
サイエンス12巻、161頁、1974年参照)これら
の充填物を、12時間220℃12時間そして60m1
/分のヘリウム流で予め調節した。
これらの充填物を、75℃に保持された2.1mm×1
60CT!Lのカラム中でそして試験溶質としメチレン
クロライド中のn−ドデカン300μ7/mlおよび担
体ガスとしヘリウムを使用して比較した。最適の担体流
での谷光填物のカラム効果は、テスト結果のプロツトか
ら計算され表1に記載した。以上の結果から、実施例2
の結合した充填物の最適担体流が公知の方法によつて製
造された被覆光填物の最適担体流の約2倍であるため分
析時間が早くなり、そしてプレート高さの点でも結合し
た充填物が被覆した充填物よりすぐれた効果をもたらす
ことが明白である。実施例 3 ポリオールが結合した充填物は製造例1および反応例に
よつて作られた80−100メツシユクロモソーブWお
よび平均分子量4000(E4OOO)のポリエチレン
グリコール約8yを使用して作られた。
60CT!Lのカラム中でそして試験溶質としメチレン
クロライド中のn−ドデカン300μ7/mlおよび担
体ガスとしヘリウムを使用して比較した。最適の担体流
での谷光填物のカラム効果は、テスト結果のプロツトか
ら計算され表1に記載した。以上の結果から、実施例2
の結合した充填物の最適担体流が公知の方法によつて製
造された被覆光填物の最適担体流の約2倍であるため分
析時間が早くなり、そしてプレート高さの点でも結合し
た充填物が被覆した充填物よりすぐれた効果をもたらす
ことが明白である。実施例 3 ポリオールが結合した充填物は製造例1および反応例に
よつて作られた80−100メツシユクロモソーブWお
よび平均分子量4000(E4OOO)のポリエチレン
グリコール約8yを使用して作られた。
その方法の急冷サイクルにおいて使用されたポリグリコ
ールは1000および600の分子量を有するポリエチ
レングリコール、テトラエチレングリコールおよびジエ
チレングリコールであつた。この充填物は、1・2−ジ
ブロモ−3−クロロプロパン、市販の土壌燻蒸剤中の不
純物の分析において比較例1の方法によつて作られた通
常のポリエステル被覆シリカ充填物と比較した。両方の
充填物はその生成物中においてアリルクロライドおよび
1・2・3−トリブロモプロパンの存在を示したが、し
かし実施例3の結合した充填物は比較例1の通常の被覆
充填物において検知されなかつた。1・2・5・6−テ
トラブロモヘキサンの存在をも示した。
ールは1000および600の分子量を有するポリエチ
レングリコール、テトラエチレングリコールおよびジエ
チレングリコールであつた。この充填物は、1・2−ジ
ブロモ−3−クロロプロパン、市販の土壌燻蒸剤中の不
純物の分析において比較例1の方法によつて作られた通
常のポリエステル被覆シリカ充填物と比較した。両方の
充填物はその生成物中においてアリルクロライドおよび
1・2・3−トリブロモプロパンの存在を示したが、し
かし実施例3の結合した充填物は比較例1の通常の被覆
充填物において検知されなかつた。1・2・5・6−テ
トラブロモヘキサンの存在をも示した。
加えて、その結合した充填物の使用は分析時間を半分に
した。実施例 4約6000および約1500の平均分
子量を有するポリエチレングリコールを使用して上記の
シリカ表面の製造例1.SiC14との反応例およびポ
リオールとの反応例に記載の方法によつて結合した充填
物を製造した。
した。実施例 4約6000および約1500の平均分
子量を有するポリエチレングリコールを使用して上記の
シリカ表面の製造例1.SiC14との反応例およびポ
リオールとの反応例に記載の方法によつて結合した充填
物を製造した。
クロマトグラフテストでは約6000の分子量を有する
ポリエチレングリコールを使用した場合、比較例1およ
び2の生成物で得られた充填物と比較して分析時間が約
半分となつた。しかしE−1500で作られた結合した
充填物は、高い表面活性の特性のため、厳格なピークテ
ーリング(Peaktailing)を示した。結合し
たポリエチレングリコール層を有する充填物では十分な
表面被覆をもたらす最小の平均分子大きさは、そのポリ
グリコール分子中に約65〜70個のオキシエチレン単
位を有するポリマーに相当する約3000の分子量範囲
である。実施例5および比較例3結合したクロマトグラ
フカラム用の充填物は平均分子量4000の(P−40
00)のポリプロピレングリコール(P−4000)を
使用して上記のシリカ表面の製造例1SiC14との反
応例およびポリオールとの反応例に記載のように作られ
た。
ポリエチレングリコールを使用した場合、比較例1およ
び2の生成物で得られた充填物と比較して分析時間が約
半分となつた。しかしE−1500で作られた結合した
充填物は、高い表面活性の特性のため、厳格なピークテ
ーリング(Peaktailing)を示した。結合し
たポリエチレングリコール層を有する充填物では十分な
表面被覆をもたらす最小の平均分子大きさは、そのポリ
グリコール分子中に約65〜70個のオキシエチレン単
位を有するポリマーに相当する約3000の分子量範囲
である。実施例5および比較例3結合したクロマトグラ
フカラム用の充填物は平均分子量4000の(P−40
00)のポリプロピレングリコール(P−4000)を
使用して上記のシリカ表面の製造例1SiC14との反
応例およびポリオールとの反応例に記載のように作られ
た。
比較のため、SiCl4との反応を行なわずに上記の操
作を繰返し、P−4000を被覆した充填物(比較例3
)を得た。
作を繰返し、P−4000を被覆した充填物(比較例3
)を得た。
これらの実施例3および5および比較例3の充填物を、
100℃に保持された2.1×160CTrLのカラム
中でそして試験溶質としメチレンクロライド中のn−テ
トラドデカン300μ7/mlおよび担体ガスとしヘリ
ウムを使用して比較した。
100℃に保持された2.1×160CTrLのカラム
中でそして試験溶質としメチレンクロライド中のn−テ
トラドデカン300μ7/mlおよび担体ガスとしヘリ
ウムを使用して比較した。
最適の担体流での各充填物のカラムの理論プレート高さ
はE−4000では0.45mm,.P−4000では
0.88mm、比較例3では1.34mmであつた。一
定の時間中に分離できる成分の数は、結合した充填物(
E−4000,.P−4000)で実質的に同じであつ
た。その改良した効果に加えて、そのポリプロピレング
リコールによつて表わされたより長い分子は、対応する
結合したポリエチレングリコールより低い流速で高い効
率を与え、それによつてより揮発性成分の観察および検
出が可能になつた。
はE−4000では0.45mm,.P−4000では
0.88mm、比較例3では1.34mmであつた。一
定の時間中に分離できる成分の数は、結合した充填物(
E−4000,.P−4000)で実質的に同じであつ
た。その改良した効果に加えて、そのポリプロピレング
リコールによつて表わされたより長い分子は、対応する
結合したポリエチレングリコールより低い流速で高い効
率を与え、それによつてより揮発性成分の観察および検
出が可能になつた。
実施例 6
0−キシレン溶液中の等モル量のジエチレングリコール
およびサクシニルクロライド(各々0.04721モル
)を、分離滴下口斗から窒素雰囲気のもとでo−キシレ
ンを還流しているクロロシリル化クロモソーブW−AW
約307を含むフラスコ反応器に加えた。
およびサクシニルクロライド(各々0.04721モル
)を、分離滴下口斗から窒素雰囲気のもとでo−キシレ
ンを還流しているクロロシリル化クロモソーブW−AW
約307を含むフラスコ反応器に加えた。
その得られた反応混合物は、ジエチレングリコール約3
7を加えることにより急冷しそしてさらに30分間還流
した。その混合物はそれから約100℃まで冷却しそし
てメタノール50m1を約55℃まで徐々に冷却しなが
ら滴下して、ジエチレングリコールサクシネートポリマ
ー(分子量5000)を得た。液体をデカントしそして
その結合シリカを前述のように洗浄しそして乾燥した。
そのポリオール結合シリカを、実施例2のカラムと同様
のカラム内に充填し、そしてそのカラムを、エーテル中
の密接に関連したフエノール類およびクレゾール類30
0μyを分離するために使用した。
7を加えることにより急冷しそしてさらに30分間還流
した。その混合物はそれから約100℃まで冷却しそし
てメタノール50m1を約55℃まで徐々に冷却しなが
ら滴下して、ジエチレングリコールサクシネートポリマ
ー(分子量5000)を得た。液体をデカントしそして
その結合シリカを前述のように洗浄しそして乾燥した。
そのポリオール結合シリカを、実施例2のカラムと同様
のカラム内に充填し、そしてそのカラムを、エーテル中
の密接に関連したフエノール類およびクレゾール類30
0μyを分離するために使用した。
その混合物中の成分(フエノール、0クレゾール、o−
クロロフエノール、p−クロロフエノール、6−クロロ
−0−クレゾール、4ークロロ−0−クレゾール、2・
4−ジクロロフエノールおよび4・6−ジクロロ−0−
クレゾール)すべては効率的そして明らかに分離された
。実施例 7実施例6の方法は前述のようにジオールと
酸クロライドとの反応によつてその場で形成された1・
12−ドデカンジオールセバケートポリマー(分子量3
000)とクロロシリル化クロモソーブw−AWとの反
応において繰返された。
クロロフエノール、p−クロロフエノール、6−クロロ
−0−クレゾール、4ークロロ−0−クレゾール、2・
4−ジクロロフエノールおよび4・6−ジクロロ−0−
クレゾール)すべては効率的そして明らかに分離された
。実施例 7実施例6の方法は前述のようにジオールと
酸クロライドとの反応によつてその場で形成された1・
12−ドデカンジオールセバケートポリマー(分子量3
000)とクロロシリル化クロモソーブw−AWとの反
応において繰返された。
その反応混合物は、1時間還流しながら溶融ドデカンジ
オール27を添加し、次いでジエチレングリコール27
を添加し、そしてさらに20分還流することによつて急
冷した。そのように製造されたその結合した充填物は、
非極性モノマーの混合物を分析するために特に有用であ
ることが発見された。
オール27を添加し、次いでジエチレングリコール27
を添加し、そしてさらに20分還流することによつて急
冷した。そのように製造されたその結合した充填物は、
非極性モノマーの混合物を分析するために特に有用であ
ることが発見された。
例えばそれはヘキサン中の三種のアルカン(Cl4、C
,5およびCl6)の等温クロマトグラフ分析にとつて
非常に効果的である。又ポリ塩素化ジペンソーp−ジォ
キシン異性体の効果的な分離をもたらした。実施例 8 そのキクシニルクロライドがサクシニルクロライド6.
67(0.0424モル)および8−シアノプロピルフ
エノールジクロロシラン1.2y(0.0048モル)
の混合物によつて置換した以外実施例6において記載さ
れた方法によつて作られた。
,5およびCl6)の等温クロマトグラフ分析にとつて
非常に効果的である。又ポリ塩素化ジペンソーp−ジォ
キシン異性体の効果的な分離をもたらした。実施例 8 そのキクシニルクロライドがサクシニルクロライド6.
67(0.0424モル)および8−シアノプロピルフ
エノールジクロロシラン1.2y(0.0048モル)
の混合物によつて置換した以外実施例6において記載さ
れた方法によつて作られた。
そのように得られたその結合した充填物は、サクシニル
基の古が8−シアノプロピル・フエネイル・シリル基に
よつて置換されているジエチレングリコールサクシネー
ト重合体である。その反応生成物は実施例5に示すよう
にジエチレングリコールとの反応そしてメタノールとの
反応によつて急冷された。そのように得られたその結合
したシリカ充填物は高度な極性は臭素化ペンタエリスリ
トール類、および最小のテーリングをともなう鋭いピー
クで溶離するジブロモおよびトリブロモ化合物の効率的
なガスクロマトグラフ分離を許容した。
基の古が8−シアノプロピル・フエネイル・シリル基に
よつて置換されているジエチレングリコールサクシネー
ト重合体である。その反応生成物は実施例5に示すよう
にジエチレングリコールとの反応そしてメタノールとの
反応によつて急冷された。そのように得られたその結合
したシリカ充填物は高度な極性は臭素化ペンタエリスリ
トール類、および最小のテーリングをともなう鋭いピー
クで溶離するジブロモおよびトリブロモ化合物の効率的
なガスクロマトグラフ分離を許容した。
この充填物は又粗ペンタブロモクロロシクロヘキサン中
に存在する成分の分離において普通に被覆したシリコー
ン充填物と比較して改良された分析力および分析時間の
相当な減少をもたらす。実施例6−8において記載され
た結合されたポリオール充填生成物のすべてにおいてそ
して他のジオールおよび二塩基酸反応体から同様に作ら
れた他のこのような結合したポリオール充填物において
、そのポリエステル基はその反応の非結合ポリエステル
副生物の検査に基づいて約1000〜20000の範囲
内の比較的広い分子量分布を有していた。
に存在する成分の分離において普通に被覆したシリコー
ン充填物と比較して改良された分析力および分析時間の
相当な減少をもたらす。実施例6−8において記載され
た結合されたポリオール充填生成物のすべてにおいてそ
して他のジオールおよび二塩基酸反応体から同様に作ら
れた他のこのような結合したポリオール充填物において
、そのポリエステル基はその反応の非結合ポリエステル
副生物の検査に基づいて約1000〜20000の範囲
内の比較的広い分子量分布を有していた。
実施例 9
80−100メツシユのクロモソーブwすなわちジヨー
ンズーマンビレーコープによつてクロマトグラフ用に特
に製造された融剤で焼成したセリツト珪藻土シリカ約2
51を、一定に沸騰下の塩酸でのソツクスレ一抽出装置
中で24時間抽出した。
ンズーマンビレーコープによつてクロマトグラフ用に特
に製造された融剤で焼成したセリツト珪藻土シリカ約2
51を、一定に沸騰下の塩酸でのソツクスレ一抽出装置
中で24時間抽出した。
その抽出したシリカを洗浄塔中に置きそして流体床バツ
クーフラツシユ方法を使つて室温で脱イオン水で4時間
洗浄し酸および微粉末を除去する。その洗浄したシリカ
をメタノール800m1で完全にゆすぎ、それからメチ
レンクロライド800m1でゆすいだ。そしてそれから
約1時間沢過空気を通過させることによつて乾燥した。
その乾燥シリカを、表面反応に供するまで密閉ガラスピ
ン中に貯蔵した。そのシリカ表面は、その酸抽出シリカ
12.51をグラムシェル電気炉によつて加熱されたガ
ラス反応管中に充填し、そして約40分間にわたつてそ
れの温度を40℃までさらにそこから200℃に上昇さ
せながら、その床を通して約45m1/分で窒素を通過
させ、それからその床を通る窒素がHClおよび水蒸気
で実質上飽和されるように、入つてくる窒素の流れを泡
立つた濃塩酸中を通過させるように変えた。
クーフラツシユ方法を使つて室温で脱イオン水で4時間
洗浄し酸および微粉末を除去する。その洗浄したシリカ
をメタノール800m1で完全にゆすぎ、それからメチ
レンクロライド800m1でゆすいだ。そしてそれから
約1時間沢過空気を通過させることによつて乾燥した。
その乾燥シリカを、表面反応に供するまで密閉ガラスピ
ン中に貯蔵した。そのシリカ表面は、その酸抽出シリカ
12.51をグラムシェル電気炉によつて加熱されたガ
ラス反応管中に充填し、そして約40分間にわたつてそ
れの温度を40℃までさらにそこから200℃に上昇さ
せながら、その床を通して約45m1/分で窒素を通過
させ、それからその床を通る窒素がHClおよび水蒸気
で実質上飽和されるように、入つてくる窒素の流れを泡
立つた濃塩酸中を通過させるように変えた。
そのHClで飽和された窒素流は、3時間同じ速度で2
00′Cで通過させ、それからそのバブラ一を迂回させ
そしてその床を200℃で1時間純粋な窒素でフラツシ
ユした。SiCl4との反応この点で、SiCl4で充
填されたバブラ一はその窒素供給管に連結しそしてその
シリカ床を、その温度および窒素流を前の水準で一定に
保持して、90分間窒素中でSiCl4蒸気と接触させ
た。
00′Cで通過させ、それからそのバブラ一を迂回させ
そしてその床を200℃で1時間純粋な窒素でフラツシ
ユした。SiCl4との反応この点で、SiCl4で充
填されたバブラ一はその窒素供給管に連結しそしてその
シリカ床を、その温度および窒素流を前の水準で一定に
保持して、90分間窒素中でSiCl4蒸気と接触させ
た。
そのクロロシリル化シリカの床はそれから前述のように
15分間窒素でフラツシユし、そしてその炉から取り出
した連続した窒素流で室温まで冷却した。下記の方法が
、注目されるような変更を加えてそのクロロシリル化シ
リカとポリグリコールとの反応のため使用された。
15分間窒素でフラツシユし、そしてその炉から取り出
した連続した窒素流で室温まで冷却した。下記の方法が
、注目されるような変更を加えてそのクロロシリル化シ
リカとポリグリコールとの反応のため使用された。
これらの実施例において記載されたように幾分変更を加
えた方法が、ポリエステルポリオールの対応する反応の
ために使用された。ポリオールとの反応 250m1フラスコに分子量40000のポリエチレン
グリコール(以下E−40Mという)1.57を加え、
次いでベンゼン100m1を加えた。
えた方法が、ポリエステルポリオールの対応する反応の
ために使用された。ポリオールとの反応 250m1フラスコに分子量40000のポリエチレン
グリコール(以下E−40Mという)1.57を加え、
次いでベンゼン100m1を加えた。
共沸蒸留によりベンゼン20m1を蒸留により除去した
。この溶液をクロロシリル化シリカの入つている反応管
に加え、80℃でN2を200CC/分の速度で流し、
温度を10分間かかつて200℃まで増加させた。大部
分のベンゼンが蒸留されるやいなや、200℃でN2流
(10CC/分)を45分間流した。N2(200CC
/分)を流して室温まで冷却した。ベンゼン80m1!
中の別のE4Ol.57を使つて上記操作を繰返し、E
4OMが結合されているシリカからなるクロマトグラフ
充填物を製造した。実施例 10 E−40Mの代わりに分子量20000のポリエチレン
グリコール(以下E−20Mという)を使用して実施例
9を繰返し、E−20Mが結合されているシリカからな
るクロマトグラフ充填物を製造した。
。この溶液をクロロシリル化シリカの入つている反応管
に加え、80℃でN2を200CC/分の速度で流し、
温度を10分間かかつて200℃まで増加させた。大部
分のベンゼンが蒸留されるやいなや、200℃でN2流
(10CC/分)を45分間流した。N2(200CC
/分)を流して室温まで冷却した。ベンゼン80m1!
中の別のE4Ol.57を使つて上記操作を繰返し、E
4OMが結合されているシリカからなるクロマトグラフ
充填物を製造した。実施例 10 E−40Mの代わりに分子量20000のポリエチレン
グリコール(以下E−20Mという)を使用して実施例
9を繰返し、E−20Mが結合されているシリカからな
るクロマトグラフ充填物を製造した。
実施例 11
180m1のガラスカラムに実施例9および5で製造し
たE−40MおよびE−20Mで結合されたシリカを充
填し、N225CC/分を3時間流して25℃まで加熱
した。
たE−40MおよびE−20Mで結合されたシリカを充
填し、N225CC/分を3時間流して25℃まで加熱
した。
相体ガスとしてN225cc/分を使用し、そのカラム
に炭化水素類を加えてクロマトグラフ分析を行なつた。
その結果は第1図(E−40Mで結合したシリカ充填物
)および第2図(E−20Mで結合したシリカ充填物)
に示す。E−40Mの方がE−20Mに比べて幾分ピー
クのシャープ性が劣るが、n−Cl4炭化水素を検出し
ている。従つてE−40Mで結合したシリカ充填物は、
E−20Mで結合したシリカ充填物と比べて同等の分析
力を有しているといえる。実施例 12実施例11と同
様にE−40Mで結合されたシリカ充填物およびE−2
0Mで結合されたシリカ充填物をそれぞれのカラムに実
施例12と同一の条件のもとで汚染されたフエノール類
を流して、クロマトグラフ分析を行なつた。
に炭化水素類を加えてクロマトグラフ分析を行なつた。
その結果は第1図(E−40Mで結合したシリカ充填物
)および第2図(E−20Mで結合したシリカ充填物)
に示す。E−40Mの方がE−20Mに比べて幾分ピー
クのシャープ性が劣るが、n−Cl4炭化水素を検出し
ている。従つてE−40Mで結合したシリカ充填物は、
E−20Mで結合したシリカ充填物と比べて同等の分析
力を有しているといえる。実施例 12実施例11と同
様にE−40Mで結合されたシリカ充填物およびE−2
0Mで結合されたシリカ充填物をそれぞれのカラムに実
施例12と同一の条件のもとで汚染されたフエノール類
を流して、クロマトグラフ分析を行なつた。
その結果は第3図(E−40M)および第4図(E−2
0M)に示す。ペンクロロフエノールおよびP−ニトロ
フエノールのピークではE−40Mの方がE−20Mに
比べてシヤープであることを示す。
0M)に示す。ペンクロロフエノールおよびP−ニトロ
フエノールのピークではE−40Mの方がE−20Mに
比べてシヤープであることを示す。
第1図一第4図はクロマトグラフ分析のグラフであり、
第1図はE−40M結合充填物を使用した炭化水素類の
クロマトグラフ分析Q結果を示し、第2図はE−20M
結合充填物を使用した炭化水素類のクロマトグラフ分析
の結果を示し、第3図はE−40M結合充填物を使用し
た汚染されたフエノール類のクロマトグラフ分析の結果
を示し、そして第4図はE−20M結合充填物を使用し
た汚染されたフエノール類のクロマトグラフ分析の結果
を示す。
第1図はE−40M結合充填物を使用した炭化水素類の
クロマトグラフ分析Q結果を示し、第2図はE−20M
結合充填物を使用した炭化水素類のクロマトグラフ分析
の結果を示し、第3図はE−40M結合充填物を使用し
た汚染されたフエノール類のクロマトグラフ分析の結果
を示し、そして第4図はE−20M結合充填物を使用し
た汚染されたフエノール類のクロマトグラフ分析の結果
を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 微粉末シリカに化学的に結合した実質上単一分子重
合体フィルムを有するシリカ支持体生成物からなるクロ
マトグラフカラム用充填物においてそのシリカとその重
合体フィルムとの結合はSiCl_4とそのシリカのヒ
ドロキシル基との反応によつて形成されたクロロシリル
基によつてなされており、その実質上単一分子重合体有
機フィルムは分子量3000〜100000の平均分子
量を有するポリオールによつて構成され、そして前記生
成物の表面は実質上クロロシリル基を含まないことを特
徴とするクロマトグラフカラム用充填物。 2 (a)Si−OH基を有するシリカ表面とSiCl
_4とを接触させて本質的にすべての前記ヒドロキシ基
を反応させ、それによつてクロロシリル化表面を形成し
、(b)そのクロロシリル化表面と100℃〜250℃
の温度で3000〜100000の平均分子量を有する
ポリオールの不活性溶媒溶液と接触させることによつて
反応させ、(c)50℃〜150℃でそのクロロシリル
化表面−ポリオール反応生成物とそのクロロシリル基の
残余を中和するに十分な量の低級アルカノールとを接触
させ、そして(d)その反応混合物から本質的に純粋そ
して乾燥した固形物として中和した生成物を分離するこ
とからなるクロマトグラフカラム用の充填物を製造する
方法。 3 ガス状のSiCl_4が50−300℃でシリカ表
面と接触させる特許請求の範囲第2項記載の方法。 4 そのクロロシリル化表面−ポリオール反応生成物を
少なくとも1種の低級のポリオールと反応させそして最
級的にメタノールを反応させることからなる特許請求の
範囲第3項記載の方法。 5 ポリオールはポリエチレングリコール又はポリプロ
ピレングリコールから選択される特許請求の範囲第3項
記載の方法。 6 そのポリオールは2−16個の炭素原子を有するア
ルキレンジオールおよび3−10個の炭素原子を有する
ジカルボン酸とのポリエステルである特許請求の範囲第
3項記載の方法。 7 そのポリエステルは、そのジカルボン酸のシクロラ
イドと有機シリコンジクロライドとの混合物とそのアル
キレンジオールとを反応させることによつて得られる特
許請求の範囲第6項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US87705878A | 1978-02-13 | 1978-02-13 | |
US000000877058 | 1978-02-13 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS54115191A JPS54115191A (en) | 1979-09-07 |
JPS592860B2 true JPS592860B2 (ja) | 1984-01-20 |
Family
ID=25369161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54015374A Expired JPS592860B2 (ja) | 1978-02-13 | 1979-02-13 | クロマトグラフカラム用の結合した有機薄膜充填物 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS592860B2 (ja) |
AU (1) | AU509286B2 (ja) |
CA (1) | CA1123413A (ja) |
DE (1) | DE2904557C2 (ja) |
FR (1) | FR2416712A1 (ja) |
GB (1) | GB2014123B (ja) |
IT (1) | IT1162266B (ja) |
NL (1) | NL7901110A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4436542A (en) * | 1980-09-16 | 1984-03-13 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Process for the production of an optical glass article |
US4517241A (en) * | 1982-12-02 | 1985-05-14 | Alpert Andrew J | Chromatographic support material |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1163784C2 (de) * | 1962-03-30 | 1973-05-03 | Degussa | Verfahren zur Oberflaechenbehandlung von hochdispersen Oxyden |
US3359214A (en) * | 1964-02-20 | 1967-12-19 | Cabot Corp | Surface properties of solids |
GB1154835A (en) * | 1966-03-04 | 1969-06-11 | Midland Silicones Ltd | Process for the Treatment of Finely-Divided Materials |
DE1567459B1 (de) * | 1966-06-18 | 1970-10-29 | Degussa | Verfahren zur Herstellung feinteiliger,organisch modifizierter Kieselsaeuren |
US3664967A (en) * | 1970-02-11 | 1972-05-23 | Dow Chemical Co | Pellicular column packing for liquid chromatography |
DE2313073C2 (de) * | 1973-03-16 | 1984-11-29 | Istvan Prof. Dr. 6600 Saarbruecken Halasz | Verfahren zur chemischen Modifizierung von Oberflächen anorganischer Festkörper und deren Verwendung |
DE2609487C2 (de) * | 1976-03-08 | 1983-09-15 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zur Herstellung von hochdispersem Siliciumdioxyd mit verstärkter Verdickungswirkung |
-
1979
- 1979-01-29 CA CA320,419A patent/CA1123413A/en not_active Expired
- 1979-02-07 AU AU44005/79A patent/AU509286B2/en not_active Ceased
- 1979-02-07 DE DE2904557A patent/DE2904557C2/de not_active Expired
- 1979-02-09 GB GB7904665A patent/GB2014123B/en not_active Expired
- 1979-02-09 IT IT47957/79A patent/IT1162266B/it active
- 1979-02-12 FR FR7903495A patent/FR2416712A1/fr active Granted
- 1979-02-12 NL NL7901110A patent/NL7901110A/xx not_active Application Discontinuation
- 1979-02-13 JP JP54015374A patent/JPS592860B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT1162266B (it) | 1987-03-25 |
GB2014123B (en) | 1982-06-03 |
FR2416712A1 (fr) | 1979-09-07 |
IT7947957A0 (it) | 1979-02-09 |
AU509286B2 (en) | 1980-05-01 |
CA1123413A (en) | 1982-05-11 |
NL7901110A (nl) | 1979-08-15 |
FR2416712B1 (ja) | 1984-12-14 |
DE2904557A1 (de) | 1979-09-13 |
JPS54115191A (en) | 1979-09-07 |
DE2904557C2 (de) | 1982-11-25 |
GB2014123A (en) | 1979-08-22 |
AU4400579A (en) | 1979-08-30 |
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