JPS5927990Y2 - 不可視レ−ザ−加工機の照準装置 - Google Patents

不可視レ−ザ−加工機の照準装置

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JPS5927990Y2
JPS5927990Y2 JP1980062152U JP6215280U JPS5927990Y2 JP S5927990 Y2 JPS5927990 Y2 JP S5927990Y2 JP 1980062152 U JP1980062152 U JP 1980062152U JP 6215280 U JP6215280 U JP 6215280U JP S5927990 Y2 JPS5927990 Y2 JP S5927990Y2
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laser processing
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清 伊藤
春水 川崎
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旭光学工業株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案はレーザーメスその他の加工機に用いられる赤外
線レーザー光などの不可視レーザー光の照射点を正確に
照準するためのガイド光装置に関する。
以下、不可視レーザー加工装置としてCO2レーザ−メ
スを具体例に挙げて、従前におけるガイド光装置の問題
点を述べる。
通常、CO2レーザーを用いたレーザーメスにおいては
、マニピュレータ先端部にある集光レンズによりCO2
レーザー光を微小スポットとなして患部組織に照射し、
これを切除する。
しかし乍ら、CO2レーザーは不可視のため、切除位置
を正確に知るためには可視光による照準手段即ちガイド
光装置が必要となる。
一般にガイド光としてはHe−Neレーザーが用いられ
ているが、このHe−Net/−ザーは、CO2レーザ
ーと同軸でマニピュレータ中を通過し、上記集光レンズ
によって集光され、巣立即ち患部組織において高輝度な
照準スポットとして機能する。
しがしながら、現状のレーザーメスにおいては多関節ミ
ラーを有するマニピュレータを用いてなるため、この複
数個の関節ミラーでその反射による両レーザー光量の損
失は可成り著しい。
それに加えて、この両レーザー重量のためのミラ一部分
の光量損失があれば、マニピュレータ先端の照射出力が
低下し、それを補償するためには両レーザー発振器の出
力をその分だけ増加させねばならない。
この事はひいては両レーザー発振器の大型化につながり
、治療器械としてのレーザーメス装置の小型化の要請に
反する。
かかる現状を踏まえて従来のガイド光装置をみると、第
1図は従来のガイド光装置(特開昭49−96082)
の−例であるが、かかるガイド光装置は、CO2レーザ
ー発振器4よりCO2レーザー光7を出射し、出射され
たCO2レーザー光7は孔あきミラー5の中心孔6を通
過した後、集光レンズ8により集光されて、その焦点F
1に微小スポットを生成する。
(尚、レーザーメスなどの場合、点Mから集光レンズ8
の光量Nまでの距離は通常2m近くあり、また、この光
路中に複数の関節ミラーが設置されている。
)一方、He−Neレーザー発振器1から出射されるH
e−Neレーザー光3aは、逆望遠鏡2により拡大され
平行光3bとなり、光軸がCO2レーザー光7の光軸と
点Mにて直交し、孔あきミラー5の反射面5a(孔周辺
)にて反射され、ドーナツ状光束3C−3dとなり、集
光レンズ8により集光されてその焦点F2に微小スポッ
トとして結像した後、CO2レーザーに関する焦点F1
に少しテ゛フォーカスしたスポラ)3eを生成する。
(このように両レーザー光に対する焦点位置F工、F2
が異なるのは、各レーザー光の波長に対する集光レンズ
8の材質の屈曲率が異るためである。
)しかしながら、このガイド光装置にあっては、CO2
レーザーの光量損失なはいが、He−Neレーザーの中
央部の光は孔あきミラー5の中心孔6を通過して反射し
ないため、光量損失は極めて大きいものとなる。
いま、中心孔6の直径を8φ、拡大されたHeNeレー
ザー3bの直径を12φとすると、この光量損失は約4
4%になる。
レーザーメスの関節ミラー数を8枚、その反射率を97
%とし、集光レンズ8(材質Zn5e)の透過率を40
%とすると、焦点F2に到達するHe−Neレーザーの
光量は出射ビーム3aの光量の僅か17.5%になって
しまう。
通常のレーザーメスの場合、装置の小型化の観点から、
He−Neレーザー発振器1は出力2″′W級のものが
用いられているが、この方式によると焦点における光量
は約0.35”となり、照準光としては光量不足である
ことが実用上伴っている。
第2図も従来のガイド光装置(特開昭52−66442
号)の−例であるが、かかるガイド光装置は、He−N
eレーザー光3aを半透鏡9及び全反射鏡10により光
線3 f 、3 gとに2分し、該光線3f 、3 g
を孔あきミラー5の中心孔6の周辺の2点で反射させる
と共にCO2レーザー光7は中心孔6を通過させ、He
−Neレーザー光3aとCO2レーザー光7とを同軸上
にしてマニピュレータ中を通過させるものである。
しかし、かかる装置の欠点は、前述の如く、マニピュレ
ータの光路長が長いため、半透鏡9、全反射鏡10、孔
あきミラー5などの化学調整が困難なことである。
第3図も従来のガイド光装置の一例であり、かかるガイ
ド光装置は、He−Neレーザー光3aの光軸に対し4
5°の角度に設置したミラー11を用いCO2レーザー
光7を透過させHe−Neレーザー光3aは反射させて
両光線を同軸上に重畳させるものであるが、ミラー11
はゲルマニウムより成り、その両面にCO2レーザ−7
の波長に対する反射防止膜11 aが施こされているた
め、その透過率は約97%である。
一方、He−Neレーザー3aは点Mにおいて反射され
るが、このレーザー波長に対する反射率は約50%であ
る。
従ってこのガイド光装置にあっては、両レーザー光を完
全に反射ないし透過するような蒸着膜いわゆるダイクロ
イックミラーを製作する必要があるが、かかるダイクロ
イックミラーを製作することは困難であり、従ってこの
ガイド光装置では両レーザー光ともに光量損失を伴うこ
とになる。
このように従来のガイド光装置は、赤外レーザー光及び
ガイド光の双方或はいずれか一方の光量損失が著しいも
のや、光学調整が困難なものであった。
そこで本考案は、従来公知のガイド光装置の欠点を除去
し、赤外レーザー及び可視光レーザーともに光量損失が
なく、光学的調整が容易な、両レーザー光の重畳を行い
うるガイド光装置を提供することにある。
さらに、本考案になる両レーザー光の重畳のための光学
部材は小型かつ廉価でなければならないが、これも亦本
考案の目的の一つである。
以下、本考案の実施例を図面について詳説する。
第4図は本考案になるガイド光装置の一実施例を示すも
のであり、4は赤外レーザー発振器、1は可視光レーザ
ー発振器で、該発振器41,1から出射される赤外レー
ザー7及び可視光レーザー3aの光軸AM及びBMの交
点Mには、両光軸に対して45°角で交わる孔あきミラ
ー5が設置され、赤外レーザー光7はその中心孔6を図
示の如く通過する。
一方、可視光レーザー3aの光軸AM上にはガラス製の
平行平面板12が角θだけ傾けて設置され、光軸を中心
に回転可能となっている。
矢印13は回転方向を示している。
(この回転運動は小型モータ等により現行技術により容
易に実現しうるので記述並びに図示を省略した。
)この平行平面板12を透過した可視光レーザー3aは
光軸から平行にhだけ移動する。
このズレ量りはh =dsin(θ−θ1)/cosθ
1で表わされる。
(但し、dは平行平面板の厚さ、θ1は屈折角である。
)このように平行平面板12を透過して円形に走査され
た光線3h、3iは孔あきミラー5の中心孔6の周辺に
設けた全反射膜5aで反射され、光軸BMに平行に図示
の矢印のように進む。
この平行平面板12は前述のように回転しているから、
孔あきミラー5により反射された可視レーザー光(3h
、3i)は円形矢印14で示すように円形に走査される
この走査円の半径、つまり光線のズレ量りは前述の如く
平行平面板12の傾角θを微調整することにより容易に
調整することが出来る。
なお、平行平面板12の両面は可視光レーザー3a波長
に対して反射防止膜を施こしている。
また可視光レーザー3aをこのように円環状に走査する
のは、もし平行平面板12を回転させずに出射光線3h
のみによる像がレーザーメスなどの集光レンズの焦点に
生成されていたとすると、レーザー7の照射点がこの焦
点の前後にずれた場合(レーザーメスによる手術の場合
には実際にしばしばこの状態でレーザー照射される)即
ちデフォーカス位置に来たとしても、赤外レーザー7の
照射スポットは光軸対称であるが、ガイド光たる可視光
レーザー3aは光軸はずれのスポットとなり照準光とし
て役立たなくなる。
このためガイド光である可視光レーザーを円環状に走査
することにより光軸対称なガイド光を形成することが必
要となる。
このように円形に走査された可視光レーザー3aは赤外
レーザー7と同軸上に重畳し、前述の如きレーザーメス
に使用される場合であれば、集光レンズの焦点において
微小な円形スポットとして結像する。
尚、赤外レーザー7は孔あきミラー5の中心孔6を通過
して照射されるため、ミラ−5自体は赤外レーザー7を
透過させる材質を用いる必要はない。
従ってGe 、Zn5eなどの高価な赤外部品ではなく
、例えばベリリウム銅に金蒸着を施した安価な部品を用
いることができる。
第5図は本考案になるガイド光装置の他の実施例を示す
図である。
この実施例の基本的構成は第4図について既に示したも
のと同一であるから相違点についてだけ記述する。
本実施例では平行平面板12の替りに一対の光学楔15
a 、15 bを用いている。
第5図において一対の光学楔15 a 、15 bは全
く同一楔角をもち、対向する面は互に平行で中心間隔l
だけ離れて光軸上に設置されている。
これら光学楔15 a 、15bの外側即ち入射面、出
射面は光軸AMに垂直であり、一対の光学楔15a。
15bは一体としてハウジング(図示せず)に納められ
、光軸AMの廻りに回転しうる構造になっている。
従って、この一対の光学楔15 a 、15 bを回転
させながら可視光レーザー3aを透過させると、該可視
光レーザー3aは光軸から平行にhだけ移動する。
このズレ量りは平行平面板12の場合と同じh=dsi
n(θ−θ1)/cosθ1式によって表わされ(但し
d=l、θ1は楔角)、又その大きさは光学楔15 a
、15bの間隔lを変えることにより調整することが
できる。
このようにして一対の光学楔15a、15bを透過して
円形に走査された光線3h、3iは、孔あきミラー5の
中心孔6の周辺に設けた全反射膜5aで光軸BMに平行
に反射され、矢印14に示す如く円形に走査され、赤外
レーザー7と重畳することになる。
本考案は、以上のように構成されるところから、発振器
から出射された可視光レーザーは該発振器と孔あきミラ
ーとの間の光軸上に設けられた光学部材によって孔あき
ミラーの中心孔の周辺に円環状に走査されて反射すると
共に不可視レーザーは孔あきミラーの中心孔を通過して
、両レーザー光は同軸上に重畳されるものであり、従来
のガイド光装置のように不可視レーザーをミラーに透過
させるものや、可視光レーザーを逆望遠鏡などによって
拡大し、そのまま孔あきミラーに反射させるものと異な
り、両レーザー光の光量の損失を著しく防ぐことができ
る。
また本考案は可視光レーザーの発振器と孔あきミラーの
間の可視光レーザーの光軸上に、単に小型で廉価な光学
部材を設けることによって可視光レーザーを円形走査で
きるものであり、従来のガイド光装置と比較して光学調
整が容易である。
このように本考案に係るガイド光装置は、従来のものに
比べて光量損失が少なく、光学的調整が容易であるため
、レーザーメス装置に採用しうるばかりか、他の不可視
レーザーの加工装置に広く応用できるものであり、その
実用的価値は極めて高いものである。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図は従来公知のガイド光装置の例
を示す図である、第4図は本考案になるガイド光装置の
一実施例を示す図である、第5図は本考案になるガイド
光装置の他の実施例を示す図である。 1:He−Neレーザー発振器、3 a : He−N
eレーザー光、可視光レーザー、7:CO2レーザー光
、赤外レーザー、5:孔あきミラー、6:中心孔、5a
:全反射膜、12:平行平面板、15a、15bニ一対
の光学楔。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 不可視レーザー加工装置に於いて、可視照準光と不
    可視レーザー光とを同軸にて被加工物に導き不可視レー
    ザー光照射部位を確認すべく、不可視レーザー光は中央
    開孔部を通過させ、可視照準光は該中心開孔部の周辺で
    反射されるように両光軸に対して一定の角度で傾設した
    孔あきミラーと、可視照準光の光源と上記孔あきミラー
    との間の光軸上にあって、可視照準光を光軸を中心とし
    て円環状に走査し、上記孔あきミラーの中心開孔部周辺
    にて反射させる光学部材とからなる不可視レーザー加工
    機の照準装置。 2 前記光学部材が照準光光軸に対し一定角傾けて設置
    した回転平行平面板である実用新案登録請求の範囲第1
    項に記載の不可視レーザー加工機の照準装置。 3 前記光学部材が相対する面が平行な同一楔角を有す
    る一対の回転楔から戊る実用新案登録請求の範囲第1項
    に記載の不可視レーザー加工機の照準装置。
JP1980062152U 1980-05-07 1980-05-07 不可視レ−ザ−加工機の照準装置 Expired JPS5927990Y2 (ja)

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JP1980062152U JPS5927990Y2 (ja) 1980-05-07 1980-05-07 不可視レ−ザ−加工機の照準装置

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JPS56165587U JPS56165587U (ja) 1981-12-08
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DE102015106635A1 (de) * 2015-04-29 2016-11-03 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronische Anordnung
DE102015111379A1 (de) * 2015-07-14 2017-01-19 Sick Ag Optoelektronischer Sensor

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