JPS5923732U - 回転式イオン注入装置に於けるウエハ取付装置 - Google Patents

回転式イオン注入装置に於けるウエハ取付装置

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JPS5923732U
JPS5923732U JP11778682U JP11778682U JPS5923732U JP S5923732 U JPS5923732 U JP S5923732U JP 11778682 U JP11778682 U JP 11778682U JP 11778682 U JP11778682 U JP 11778682U JP S5923732 U JPS5923732 U JP S5923732U
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JP
Japan
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wafer mounting
mounting device
ion implanter
rotary ion
rotary
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JP11778682U
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JPH0227496Y2 (ja
Inventor
吉岡　信博
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日本真空技術株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案装置の１例の側臥平面図、第２図はその
要部の拡大図、第３図はバックアツプ板の正面図、第４
図ぼディスクの正面図、第５図はディスクの背面図であ
る。 １・・・イオン注入室、２・・・ウェハ、２ａ・・・背
面、３・・・ディスク、４・・・冷却装置、５・・・回
転軸、６・・・はね、７・・・ホルダ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. イオン注入室１内に送り込まれる複数枚のウェハ２を設
    けたディスク３を、該ウェハ２の背面２ａを冷却する冷
    却装置４を備えた回転軸５て着脱自在に支承する式のも
    のに於て、該ディスク３に、ばね６て複数個所を支持さ
    れて該ウェハ２をその背面側の冷却装置４に押圧する移
    動自在のホルダ７を設けたことを特徴とする回転式イオ
    ン注入装置に於けるウェハ取付装置。
JP11778682U 1982-08-04 1982-08-04 回転式イオン注入装置に於けるウエハ取付装置 Granted JPS5923732U (ja)

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JPS5923732U true JPS5923732U (ja) 1984-02-14
JPH0227496Y2 JPH0227496Y2 (ja) 1990-07-25

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6174513U (ja) * 1984-10-18 1986-05-20
JPH0678226U (ja) * 1993-04-21 1994-11-04 日本紙業株式会社 瓶類の搬送用紙器

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5582771A (en) * 1978-12-20 1980-06-21 Toshiba Corp Ion implanting device
JPS55127034A (en) * 1979-03-16 1980-10-01 Varian Associates Device for mechanically urging semiconductor wafer to soft thermoconductive surface

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