JPS5922995A - 金属薄膜 - Google Patents
金属薄膜Info
- Publication number
- JPS5922995A JPS5922995A JP13272782A JP13272782A JPS5922995A JP S5922995 A JPS5922995 A JP S5922995A JP 13272782 A JP13272782 A JP 13272782A JP 13272782 A JP13272782 A JP 13272782A JP S5922995 A JPS5922995 A JP S5922995A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- metallic thin
- metal thin
- copper iodide
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属薄膜の防錆、防食および表面の滑性に関
する。具体的には、金属薄膜の銅候慴三の向」二とずベ
リ摩擦係数の低減に関する。
する。具体的には、金属薄膜の銅候慴三の向」二とずベ
リ摩擦係数の低減に関する。
不発明が適用できる金属薄膜は、膜厚力;10μm以下
の金属の薄層を有する材料全般であり、特に有効な金属
としてはコバルト、ニッケル、銅、アルミニウムもしく
はこれらを含む合金が対象となる。このような金属薄膜
を有する材t1は、各神センサ、電イ部品などの工業材
料、電子材料に広く利用されている。例えば、コバルト
を主成分とする磁性材料をポリエステルなどのフィルム
ニ蒸着した磁気テープがある。他には、アルシミニウム
全ポリカーボ不−1−などの絶縁性フィルムに蒸着した
N 極フィルム等がある・ しかし、従来これらの金属薄膜は例えば60°c。
の金属の薄層を有する材料全般であり、特に有効な金属
としてはコバルト、ニッケル、銅、アルミニウムもしく
はこれらを含む合金が対象となる。このような金属薄膜
を有する材t1は、各神センサ、電イ部品などの工業材
料、電子材料に広く利用されている。例えば、コバルト
を主成分とする磁性材料をポリエステルなどのフィルム
ニ蒸着した磁気テープがある。他には、アルシミニウム
全ポリカーボ不−1−などの絶縁性フィルムに蒸着した
N 極フィルム等がある・ しかし、従来これらの金属薄膜は例えば60°c。
90%圏のような高温高湿の雰囲気に暴すと数時間で錆
や腐食が発生したり、さらに長時開基ずと膜が剥離する
などして、金属薄膜の固有物性や要求特性が失われる問
題があった。さらに前述した磁気テープの例で説明する
と、前記テープを磁気、r’F2録再生装置に装填して
走行した場合、前記テープの金属薄膜面と例えばステン
レスのテープ走行ガイドあるいは記録・再生ヘッドとの
摩擦力が大きいため、その接触部で摩擦音が発生し/こ
り、金属薄膜が摩耗したりする問題があった。また、走
行不良を起こし易く記録・再生画像が歪む問題があった
。
や腐食が発生したり、さらに長時開基ずと膜が剥離する
などして、金属薄膜の固有物性や要求特性が失われる問
題があった。さらに前述した磁気テープの例で説明する
と、前記テープを磁気、r’F2録再生装置に装填して
走行した場合、前記テープの金属薄膜面と例えばステン
レスのテープ走行ガイドあるいは記録・再生ヘッドとの
摩擦力が大きいため、その接触部で摩擦音が発生し/こ
り、金属薄膜が摩耗したりする問題があった。また、走
行不良を起こし易く記録・再生画像が歪む問題があった
。
一般に、金属表面の防錆、防食および滑性に対してつぎ
のような方法が知られている。例えば、弗光系活性剤を
少量添加したエポキシ・シ′リコンなどの樹脂で金属表
面を被覆する方法、あるいはナフト−ル系、リン酸エス
テル系などの防錆剤で保護膜を形成する方法がある。し
かし、このような方法では、保護膜の膜厚を0.1μm
以上にしないど先の効果を得ることが困ψ((である。
のような方法が知られている。例えば、弗光系活性剤を
少量添加したエポキシ・シ′リコンなどの樹脂で金属表
面を被覆する方法、あるいはナフト−ル系、リン酸エス
テル系などの防錆剤で保護膜を形成する方法がある。し
かし、このような方法では、保護膜の膜厚を0.1μm
以上にしないど先の効果を得ることが困ψ((である。
ところが例えば磁気テープに0.1μm厚の保護膜を形
成した場合、仮に記録再生ヘッドと金属薄膜との間隙が
0.1μmになったとすると、画信号のレベルシカ;約
10dB 低下するため、一般的な方法は使えない問
題があった・ そこで本発明の目的は、かかる従来の欠点2問題点を克
服した金属薄膜を提供することにある。
成した場合、仮に記録再生ヘッドと金属薄膜との間隙が
0.1μmになったとすると、画信号のレベルシカ;約
10dB 低下するため、一般的な方法は使えない問
題があった・ そこで本発明の目的は、かかる従来の欠点2問題点を克
服した金属薄膜を提供することにある。
具体的には、金属薄膜の固有物性を失なわず、しかも空
気酸化、結露、湿気などによる錆や腐食に強く、摩擦係
数の小さい金属薄膜を提供することにある。
気酸化、結露、湿気などによる錆や腐食に強く、摩擦係
数の小さい金属薄膜を提供することにある。
本発明による代表的な金属薄膜の構成を第1図に示す。
図において、1は例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチックあるいは
シリコン、セラミックなど4 かもなる基本である。2は例えばコバルト、ニッケル、
銅、アルミニウムもしくはこれらを主成分とする合金を
真空蒸着あるいはスパッタリングで膜厚1〜1oIim
に形成した金属薄膜である。3は膜厚5o〜2Q○人の
沃化銅を主成分とする薄層である。薄層3は金属薄膜2
0表面および表面に露出している細孔の内壁に何着して
いる。
ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチックあるいは
シリコン、セラミックなど4 かもなる基本である。2は例えばコバルト、ニッケル、
銅、アルミニウムもしくはこれらを主成分とする合金を
真空蒸着あるいはスパッタリングで膜厚1〜1oIim
に形成した金属薄膜である。3は膜厚5o〜2Q○人の
沃化銅を主成分とする薄層である。薄層3は金属薄膜2
0表面および表面に露出している細孔の内壁に何着して
いる。
沃化銅を金属薄膜に付着するには、スパッタリング、蒸
着、塗工あるいは浸漬法など通常の方法で成し得る。特
に、塗工および浸漬法の場合は金属薄膜との密度をよく
するために沃化銅の重量に71シて20重量%以下の例
えば、アクIJ /し樹脂。
着、塗工あるいは浸漬法など通常の方法で成し得る。特
に、塗工および浸漬法の場合は金属薄膜との密度をよく
するために沃化銅の重量に71シて20重量%以下の例
えば、アクIJ /し樹脂。
セルロース誘導体などの樹脂結着剤を併用することも可
能である。また、実験によるといずれの方法にしても、
沃化銅を主成分とする薄膜は、沃化銅を非晶質化した方
が結晶化したものより効果が人きく、望ましい結果が得
られた。
能である。また、実験によるといずれの方法にしても、
沃化銅を主成分とする薄膜は、沃化銅を非晶質化した方
が結晶化したものより効果が人きく、望ましい結果が得
られた。
したがって、本発明の主眼は、」二連したように金属薄
膜の表面を沃化銅で表面処理することにあり、その特徴
は沃化銅の膜厚が数10〜数100人の極めて薄い膜厚
で、防錆、防腐、滑性に効果がある点にある。また、前
述のように沃化銅の膜厚が極めて薄くても効果があるた
め、金属薄膜の固有物性に影響を与え難い特徴があり、
金属薄膜を有する磁気テープに特に著しい効果が得られ
る。
膜の表面を沃化銅で表面処理することにあり、その特徴
は沃化銅の膜厚が数10〜数100人の極めて薄い膜厚
で、防錆、防腐、滑性に効果がある点にある。また、前
述のように沃化銅の膜厚が極めて薄くても効果があるた
め、金属薄膜の固有物性に影響を与え難い特徴があり、
金属薄膜を有する磁気テープに特に著しい効果が得られ
る。
つぎに実施例を挙げてさらに詳しく説明する。
〈実施例1〉
1o l1m 厚のポリエステルフィルムにコバ/I/
1−・ニッケル合金を1600人厚に真空蒸着した磁気
テープを、下記処方の沃化銅溶液に浸漬した後、過剰の
溶液を1.5〜2に9/ca圧のエアージエyl−で吹
き飛ばし、速やかに80 ’Cの温風で乾燥した。
1−・ニッケル合金を1600人厚に真空蒸着した磁気
テープを、下記処方の沃化銅溶液に浸漬した後、過剰の
溶液を1.5〜2に9/ca圧のエアージエyl−で吹
き飛ばし、速やかに80 ’Cの温風で乾燥した。
その結果、コバルト・ニッケル合金の金属薄膜面に、非
晶質の沃化銅の薄層が形成された。この薄層の膜厚は約
100人であった。
晶質の沃化銅の薄層が形成された。この薄層の膜厚は約
100人であった。
〈溶液の組成〉
つぎに、上記テープを6Q′C,30%RHの恒温恒湿
湿槽中に12時間放置したところ、錆や腐食は観察され
なかった。比較のために、沃化銅で処理しない生テープ
を上記と同様の条件で試験したところ錆が多数発生し、
局部的にコバルト・ニッケ〜の合金薄膜がポリエステル
フィルムかう剥離しているのが観察された。
湿槽中に12時間放置したところ、錆や腐食は観察され
なかった。比較のために、沃化銅で処理しない生テープ
を上記と同様の条件で試験したところ錆が多数発生し、
局部的にコバルト・ニッケ〜の合金薄膜がポリエステル
フィルムかう剥離しているのが観察された。
つぎに、直径5Ilfflのステンレス棒に磁気テープ
の金属薄膜を接触して、すべり摩擦係数を71I11定
したところ、沃化銅で処理したテープは0.4であるの
に対して、未処理のテープは0.65であった。
の金属薄膜を接触して、すべり摩擦係数を71I11定
したところ、沃化銅で処理したテープは0.4であるの
に対して、未処理のテープは0.65であった。
以上のように本発明によると、防錆、防食性および滑性
にすぐれた金属薄膜を容易に得ることができる。
にすぐれた金属薄膜を容易に得ることができる。
図は本発明による金属薄膜の断面図である。
1・・・・・・基体、2・・川・金属薄膜、3・・・・
・沃化鋼を含む薄層。
・沃化鋼を含む薄層。
Claims (5)
- (1)表面に沃化銅が付着していることを特徴とする金
属薄膜。 - (2)金属薄膜が磁性材料からなることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の金属薄膜。 - (3)磁性制料がコバルト合金であることを特徴とする
特許請求の範囲第2項記戦の金属薄膜。 - (4) コバ/l/ 1. 合金がコバルト・二・ノ
ケル合金であることを特徴とする特許請求の範囲第3項
記戦の金属薄膜。 - (5)沃化銅が非結晶質であること全特徴とする特πI
捕°i求の範囲第1項記載の金属薄膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13272782A JPS5922995A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 金属薄膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13272782A JPS5922995A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 金属薄膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5922995A true JPS5922995A (ja) | 1984-02-06 |
Family
ID=15088170
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13272782A Pending JPS5922995A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 金属薄膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5922995A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100442092B1 (ko) * | 2001-12-24 | 2004-07-30 | 주식회사 티에스 | 부식 방지 장치 |
-
1982
- 1982-07-28 JP JP13272782A patent/JPS5922995A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100442092B1 (ko) * | 2001-12-24 | 2004-07-30 | 주식회사 티에스 | 부식 방지 장치 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS5922995A (ja) | 金属薄膜 | |
JPS6049971B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS582410B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
US5741593A (en) | Magnetic recording medium | |
US4753852A (en) | Magnetic recording medium comprising a magnetic Co-Ni-Cr alloy thin layer | |
US4735865A (en) | Magnetic head core | |
JPS5826320A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS58211324A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS61214208A (ja) | 磁気記録媒体用の保護膜 | |
JPS61131219A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS6139233A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造法 | |
JPH0239018B2 (ja) | ||
JPH07111773B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH07311935A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS61271614A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0416926B2 (ja) | ||
JPS59185028A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS58188333A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0239017B2 (ja) | ||
JPS62175927A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPS6056413B2 (ja) | 磁気記録媒体用Co基合金 | |
JPS5817537A (ja) | 薄膜磁気記録媒体 | |
JPH0490124A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPS58211325A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS62262218A (ja) | 磁気記憶体 |