JPS5922995A - 金属薄膜 - Google Patents

金属薄膜

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Publication number
JPS5922995A
JPS5922995A JP13272782A JP13272782A JPS5922995A JP S5922995 A JPS5922995 A JP S5922995A JP 13272782 A JP13272782 A JP 13272782A JP 13272782 A JP13272782 A JP 13272782A JP S5922995 A JPS5922995 A JP S5922995A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
metallic thin
metal thin
copper iodide
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13272782A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Takashima
祐二 高島
Keiichi Yubagami
弓場上 惠一
Hiromu Matsuda
宏夢 松田
Tokihiko Shimizu
清水 時彦
Masashi Moriwaki
正志 森脇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP13272782A priority Critical patent/JPS5922995A/ja
Publication of JPS5922995A publication Critical patent/JPS5922995A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Lubricants (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属薄膜の防錆、防食および表面の滑性に関
する。具体的には、金属薄膜の銅候慴三の向」二とずベ
リ摩擦係数の低減に関する。
不発明が適用できる金属薄膜は、膜厚力;10μm以下
の金属の薄層を有する材料全般であり、特に有効な金属
としてはコバルト、ニッケル、銅、アルミニウムもしく
はこれらを含む合金が対象となる。このような金属薄膜
を有する材t1は、各神センサ、電イ部品などの工業材
料、電子材料に広く利用されている。例えば、コバルト
を主成分とする磁性材料をポリエステルなどのフィルム
ニ蒸着した磁気テープがある。他には、アルシミニウム
全ポリカーボ不−1−などの絶縁性フィルムに蒸着した
N 極フィルム等がある・ しかし、従来これらの金属薄膜は例えば60°c。
90%圏のような高温高湿の雰囲気に暴すと数時間で錆
や腐食が発生したり、さらに長時開基ずと膜が剥離する
などして、金属薄膜の固有物性や要求特性が失われる問
題があった。さらに前述した磁気テープの例で説明する
と、前記テープを磁気、r’F2録再生装置に装填して
走行した場合、前記テープの金属薄膜面と例えばステン
レスのテープ走行ガイドあるいは記録・再生ヘッドとの
摩擦力が大きいため、その接触部で摩擦音が発生し/こ
り、金属薄膜が摩耗したりする問題があった。また、走
行不良を起こし易く記録・再生画像が歪む問題があった
一般に、金属表面の防錆、防食および滑性に対してつぎ
のような方法が知られている。例えば、弗光系活性剤を
少量添加したエポキシ・シ′リコンなどの樹脂で金属表
面を被覆する方法、あるいはナフト−ル系、リン酸エス
テル系などの防錆剤で保護膜を形成する方法がある。し
かし、このような方法では、保護膜の膜厚を0.1μm
以上にしないど先の効果を得ることが困ψ((である。
ところが例えば磁気テープに0.1μm厚の保護膜を形
成した場合、仮に記録再生ヘッドと金属薄膜との間隙が
0.1μmになったとすると、画信号のレベルシカ;約
10dB  低下するため、一般的な方法は使えない問
題があった・ そこで本発明の目的は、かかる従来の欠点2問題点を克
服した金属薄膜を提供することにある。
具体的には、金属薄膜の固有物性を失なわず、しかも空
気酸化、結露、湿気などによる錆や腐食に強く、摩擦係
数の小さい金属薄膜を提供することにある。
本発明による代表的な金属薄膜の構成を第1図に示す。
図において、1は例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチックあるいは
シリコン、セラミックなど4 かもなる基本である。2は例えばコバルト、ニッケル、
銅、アルミニウムもしくはこれらを主成分とする合金を
真空蒸着あるいはスパッタリングで膜厚1〜1oIim
に形成した金属薄膜である。3は膜厚5o〜2Q○人の
沃化銅を主成分とする薄層である。薄層3は金属薄膜2
0表面および表面に露出している細孔の内壁に何着して
いる。
沃化銅を金属薄膜に付着するには、スパッタリング、蒸
着、塗工あるいは浸漬法など通常の方法で成し得る。特
に、塗工および浸漬法の場合は金属薄膜との密度をよく
するために沃化銅の重量に71シて20重量%以下の例
えば、アクIJ /し樹脂。
セルロース誘導体などの樹脂結着剤を併用することも可
能である。また、実験によるといずれの方法にしても、
沃化銅を主成分とする薄膜は、沃化銅を非晶質化した方
が結晶化したものより効果が人きく、望ましい結果が得
られた。
したがって、本発明の主眼は、」二連したように金属薄
膜の表面を沃化銅で表面処理することにあり、その特徴
は沃化銅の膜厚が数10〜数100人の極めて薄い膜厚
で、防錆、防腐、滑性に効果がある点にある。また、前
述のように沃化銅の膜厚が極めて薄くても効果があるた
め、金属薄膜の固有物性に影響を与え難い特徴があり、
金属薄膜を有する磁気テープに特に著しい効果が得られ
る。
つぎに実施例を挙げてさらに詳しく説明する。
〈実施例1〉 1o l1m 厚のポリエステルフィルムにコバ/I/
1−・ニッケル合金を1600人厚に真空蒸着した磁気
テープを、下記処方の沃化銅溶液に浸漬した後、過剰の
溶液を1.5〜2に9/ca圧のエアージエyl−で吹
き飛ばし、速やかに80 ’Cの温風で乾燥した。
その結果、コバルト・ニッケル合金の金属薄膜面に、非
晶質の沃化銅の薄層が形成された。この薄層の膜厚は約
100人であった。
〈溶液の組成〉 つぎに、上記テープを6Q′C,30%RHの恒温恒湿
湿槽中に12時間放置したところ、錆や腐食は観察され
なかった。比較のために、沃化銅で処理しない生テープ
を上記と同様の条件で試験したところ錆が多数発生し、
局部的にコバルト・ニッケ〜の合金薄膜がポリエステル
フィルムかう剥離しているのが観察された。
つぎに、直径5Ilfflのステンレス棒に磁気テープ
の金属薄膜を接触して、すべり摩擦係数を71I11定
したところ、沃化銅で処理したテープは0.4であるの
に対して、未処理のテープは0.65であった。
以上のように本発明によると、防錆、防食性および滑性
にすぐれた金属薄膜を容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明による金属薄膜の断面図である。 1・・・・・・基体、2・・川・金属薄膜、3・・・・
・沃化鋼を含む薄層。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)表面に沃化銅が付着していることを特徴とする金
    属薄膜。
  2. (2)金属薄膜が磁性材料からなることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の金属薄膜。
  3. (3)磁性制料がコバルト合金であることを特徴とする
    特許請求の範囲第2項記戦の金属薄膜。
  4. (4)  コバ/l/ 1. 合金がコバルト・二・ノ
    ケル合金であることを特徴とする特許請求の範囲第3項
    記戦の金属薄膜。
  5. (5)沃化銅が非結晶質であること全特徴とする特πI
    捕°i求の範囲第1項記載の金属薄膜。
JP13272782A 1982-07-28 1982-07-28 金属薄膜 Pending JPS5922995A (ja)

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JP13272782A JPS5922995A (ja) 1982-07-28 1982-07-28 金属薄膜

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JP13272782A JPS5922995A (ja) 1982-07-28 1982-07-28 金属薄膜

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JPS5922995A true JPS5922995A (ja) 1984-02-06

Family

ID=15088170

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JP13272782A Pending JPS5922995A (ja) 1982-07-28 1982-07-28 金属薄膜

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100442092B1 (ko) * 2001-12-24 2004-07-30 주식회사 티에스 부식 방지 장치

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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