JPS592282B2 - コウジユンドエポキシジユシノ セイゾウホウ - Google Patents

コウジユンドエポキシジユシノ セイゾウホウ

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JPS592282B2
JPS592282B2 JP161875A JP161875A JPS592282B2 JP S592282 B2 JPS592282 B2 JP S592282B2 JP 161875 A JP161875 A JP 161875A JP 161875 A JP161875 A JP 161875A JP S592282 B2 JPS592282 B2 JP S592282B2
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JP
Japan
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epoxy resin
mol
polymer
reaction
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JP161875A
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JPS5176396A (ja
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博二 桂
雅昭 斎藤
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Shiseido Co Ltd
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Shiseido Co Ltd
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Publication date
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  • Epoxy Resins (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式R_1SO_2NH2、R_1NH2
、″■N−R_2−N<、R_1>NSO_2−R_2
−SO_2N(R_1(R_1はアルキル基、アルキル
置換フェニル基、シクロヘキシル基、R_2はフェニレ
ン基、アルキレン基、シクロヘキシレン基を示す。
)で表わされるモノアミン、NN′ジ置換ジアミン(ア
ミン類と略す)および又はスルホンアミド、NNジ置換
ジスルホンアミド(スルホンアミド類と略す)の群から
選ばれた1種又は2種以上とエピハロヒャ潟唐aルカリ
水溶液中で反応せしめエポキシ樹脂を製造する際に、水
と混和せず、かつ、前記エポキシ樹脂を溶解する有機溶
媒を添加して反応せしめたことを特徴とする高純度エポ
キシ樹脂の製造法に係る新規な発明である。従来、エポ
キシ樹脂の製造法として公知の文献は米国特許(USP
)2643244があるが、これはスルホンアミド類と
エピクロルヒドリンのアルカリ水溶中での反応にとどま
るもので得られたエポキシ樹脂は極めて低純度である欠
点を有している。
更にペルキー特許626245、626338には各種
のモノアミンとエピクロルヒドリンのアルカリ存在下で
のメタノール中反応が記載されているが、やはり得られ
たエポキシ樹脂は極めて低純度である欠点を持つている
この様に公知の文献から得られるエポキシ樹脂は不純物
が副生し、極めて低純度のものしか得られない欠点を有
している。次にこれ等の点を具体的に説明する。
一般にエピハロヒドリンはアミン類またはスルホンアミ
ド類に対して反応し得る基としてエポキシ基とハロゲン
の2つを有している。
したがつてアミン類またはスルホンアミド類とは、例え
ば式(1)の如くアルカリ存在下で反応してポリマーを
与える。しかしながら、ポリマーの中間体〔A〕は(1
)式のようなポリマー化の反応と同時に、例えば下式(
2)あるいは(3)のような〔A〕の自己環化物〔B〕
★これらの副生成物の生成に関しては、インダストリア
ル・エンジニアリング・ケミストリ一(47、(10)
2095、1955年)にも詳細に述べられている。
しかるに公知である前述の特許に記載されている方法、
即ちアルカリ水溶液中あるいはアルカリメタノール溶液
中での反応によれば、ポリマー以外に副生成物が多量に
生成し、ポリマーの収率が低いばかりかポリマーの精製
に多大の労力を必要とし,、その結果も決して芳しいも
のではなく、最終精製品は低純度である。この事はポリ
マーの持つ物性に悪影響を及ぼし、場合によつては本来
ポリマーが持つている物性とはほど遠いものになること
もある。この発明はこれらを解決するために、式(2)
(3)等によつて生成する副生成物を抑制すべく改良し
たところにある。
具体的には、ポリマーに対して良溶媒でかつ水と混和し
ない有機溶媒を添加することにより、反応系を有機溶媒
と水の2相系にせしめるところにある。これによれば、
反応は(1)式のポリマー化を選択的に進行し、式(2
)(3)による副生成物の生成は皆無であることがわか
つた。
この発明によつて得られた高純度のエポキシ樹脂は高い
極性を有し、極生物質たとえば爪、毛髪、紙、ガラス、
プラスチツクス等との親和性が優れ、青あるいは2分子
環化物〔C〕などの、いわゆる副生成物への反応も同時
に進行する。
接着剤あるいは接着助剤として用いることが出来るばか
りでなく、高分子物質の可塑剤、界面活性剤としても有
効である。
次に、この発明における技術的特徴を順に説明する。
この発明の主たるポイントは、前述した如くポリマーに
対して良溶媒でかつ水と混和しない有機溶媒と水の2相
中で式(1)の反応をするところにある。ここで使用さ
れる有機溶媒には水と混和しない有機溶媒のほとんどが
入るが、混和する溶媒でも他の溶媒と混合することによ
り系が2相になるものは使用することが出来る。またこ
れらの溶媒のうちポリマーに対して良溶媒のものはその
まま単独で使用出来ることは勿論であるが、貧溶媒でも
他の溶媒と混合すれば良溶媒になるものは使用可能な溶
媒に含有される。代表的な溶媒を列挙すると次のとおり
である。ベンゼン、トルエンヘキサン、石油エーテル、
アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、メ
チルエチルケトンテトラヒドロフラン、ジメチルホルム
アミド、エチルアルコール、メチルアルコール、これら
の溶媒と水で調製された2相系(混合比は水:有機溶媒
−1:0.1〜10で、好ましくは1:1〜5である)
にてアミン類あるいはスルホンアミド類の1種または2
種以上とエピ一・ドヒドリンを反応させる。ここで用い
られるアミン類およびスルホンアミド類としては極めて
種々な化合物を用いることが出来る。即ち代表的な例を
掲げながら構造別にまとめるならば次のとおりである。
(イ)モノアミン類 プロピルアミン、イソブチルアミン、5−アミノ−2−
メチルペンタン、ステアリルアミンなどの炭素数3〜1
8の直鎖および分岐脂肪族第一アミン。
アニリン、トルイジン、エチルアニリン、トリメチルア
ニリンなどのアルキル置換芳香族アミンおよびシクロヘ
キシルアミン。
((ニ)スルホンアミド類 エチルスルホンアミド、ステアリルスルホンアミドなど
の炭素数3から18の直鎖および分岐脂肪族スルホンア
ミド。
4−メチルベンゼンスルホンアミドなどの炭素数1から
5のモノアルキル置換ベンゼンスルホンアミド。
2・3−ジメチルベンゼンスルホンアミドなどの全炭素
数2から5のジアルキル置換ベンゼンスルホンアミド。
2・3・5−トリメチルベンゼンスルホンアミドなどの
全炭素数3から4のトリアルキル置換ベンゼンスルホン
アミド、テトラメチルベンゼンスルホンアミドおよびシ
クロヘキシルスルホンアミ ド。
さらにN−N′−ジ置換ジアミンあるいはN−マジ置換
ジスルホンアミドは、例えば下式(4)で示される方法
、即ち以下に記載するシクロラードとこの発明に使用す
るモノアミンとの反応によつて合成される。
この方法は公知であり、例えばオーガニック・シンセス
イス34巻、96頁、1954年に記載されている方法
によつて合成される。
次に、この発明に使用出来る代表的なシクロラードを掲
げるならば、N−N−ジ置換ジアミンの合成には、(ノ
》例えば塩化エチレン、1・10−ジクロルデカンなど
の炭素数2から10の直鎖ハロゲン化アルキレン、例え
ばジクロルベンゼン、ジクロルトルエンなどのアルキル
ベンゼンジクロライド、例えばCis−1・4−ジクロ
ルシクロヘキサンなどのジクロルシクロヘキサンおよび
例えばビス−2−クロルエチルエーテルなどのポリエチ
レングリコールジクロライドなどが用いられる。
またN−N′−ジ置換スルホン了ミドの合成には(ニ)
、例えばベンゼン−1・4−ジスルホニルクロライドな
どのベンゼンジスルホニルクロライド、例えば1・4−
ジメチルベンゼン−2・5−ジスルホニルクロライドな
どのトータル炭素数1〜3のアルキル置換ベンゼンジス
ルホニルクロライド、例えば1・5−ペンタンジスルホ
ニルクロライドなどのアルキレンジスルホニルクロライ
ドおよびシクロヘキサンジスルホニルクロライドなどが
用いられる。一方、エピハロヒドリンは代表的にはエピ
クロルヒドリンおよびエピブロモヒドリンがある。
これら重合モノマーの仕込モル比は普通0.1〜10.
0であるが、好ましくは0.8〜1.2である。触媒と
しては普通一般のアルカリが用いられるが、代表的なも
のを列挙すると次のとおりである。水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム、ピリジン。これらの触媒はイエ込モ
ノマー中の少量添加物と等モル以上用いることが必要で
あるが、好ましくは等モルから20モル%過剰である。
アルカリ水溶液の濃度は高範囲で使用出来るが、好まし
くは10%以下がよい。反応温度は、下限は室温から上
限は溶媒の沸点附近に達しており、温度範囲が広いが、
還流反応で十分である。以上の条件にて、反応が終れば
水相を除去し、水洗を繰返し常法にて乾燥後、溶媒除去
、その後、真空乾燥にて充分乾燥することが必要である
この際、所要ならば得られたポリマーをアルカリ水溶液
を用いて精製することも可能である。得られたエポキシ
樹脂はいずれも未反応物はもちろん、従来見られた副生
成物も全くない高純度エポキシ樹月旨である。
代表的な例として、P−トルエンスルホンアミドとエピ
クロルヒドリンから、この発明によつて得られた生成物
(実施例1)と米国特許2643244の実施例1によ
つて得られた生成物の薄層クロマトグラムの比較図(第
1図)を掲げ、それらの純度の差を明瞭にした。
図から明らかな如く、この発明で得られたポリマーは本
米国特許の明細書によつて合成された生成物に存在する
副生成物が全く見られておらず高純度である。次の実施
例を説明する。実施例 1 還流管、かきまぜ機の付いたフラスコにP−トルエンス
ルホンアミド18.87(0.12モル)、エピクロル
ヒドリン9.257(0.1モル)、水酸化ナトリウム
4.8t(0.12モル)、水91.2y、トルエン9
0m11および酢酸n−ブチル90m1を仕込み、透明
な2相の溶液を調製する。
2相溶液を撹拌しつつ、混合溶媒の還流下で3時間反応
させる。
次いで炭酸ナトリウム(6.4y)の30%水溶液を添
加しさらに3時間還流下で攪拌を行なう。冷後有機相か
らポリマーをとり出し、真空乾燥し透明な無色の粘稠な
ポリマー18.27(収率80%)を得る。
実施例 2 還流管、かきまぜ機の付いたフラスコにラウリルアミン
18.5y(0.1モル)、エピクロルヒドリン9.2
57(0.1モル)、水酸化カリウム5.6t(0.1
モル)、水80y1キシレン40m1および酢酸n−ブ
チル40m1を仕込み透明な2相の溶液を調製する。
2相溶液を撹拌しつつ混合溶媒の還流下で3時間反応さ
せる。
冷後実施例1と同様の操作を行ない20.87(収率8
6%)の粘稠なポリマーを得る。実馳 3 実施例1と同様の装置にN−N−ジブチルフエニレンジ
アミン22.0y(0.1モル)、エピクロルヒドリン
9.25f(0.1モル)、炭酸ナトリウム6.36f
(0.06モル)、水酸化ナトリウム2.47(0.0
6モル)、水91.2y1トルエン55.6m11酢酸
ブチル35.6m11エチルアルコール12.0m1を
仕込み透明な2相の溶液を調製する。
2相溶液を攪拌しつつ混合溶媒の還流下で5時間反応さ
せる。
今後実施例1と同様の操作を行ない20.8t(収率7
5%)の半固体ポリマーを得る。実施例 4実施例1と
同様の装置にN−マージブチルフエニレンジスルホンア
ミド17.4f(0.05モル)、P−トルエンスルホ
ンアミド8.67(0.05モル)、エピクロルヒドリ
ン9.257(0,1モル)、水酸化カリウム5,67
(0.1モル)水907、ベンゼン180m1、酢酸エ
チル150m11テトラヒドロフラン30m1を仕込み
透明な2相溶液を調製する。
2相溶液を攪拌しつつ混合溶媒の還流下で3時間反応さ
せる。
冷後実施例1と同様の操作を行ない28.2y(収率8
9%)の粘稠なポリマーを得る。
【図面の簡単な説明】
第1図はP−トルエンスルホンアミドを出発原料として
得られた本発明(実施例1)とUSP2643244の
生成物の薄層クロマトグラムによる比較図面である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式R_1SO_2NH_2、R_1NH_2、
    ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼(R_1はアルキル基、アルキル置換
    フェニル基、シクロヘキシル基、R_2はフェニレン基
    、アルキレン基、シクロヘキシレン基を示す。 )で表わされるアミン類およびスルホンアミド類の群か
    ら選ばれた1種又は2種以上とエピハロヒドリンとをア
    ルカリ水溶液中で反応せしめエポキシ樹脂を製造する際
    に、水と混和せず、かつ、前記エポキシ樹脂を溶解する
    有機溶媒を添加して反応せしめたことを特徴とする高純
    度エポキシ樹脂の製造法。
JP161875A 1974-12-27 1974-12-27 コウジユンドエポキシジユシノ セイゾウホウ Expired JPS592282B2 (ja)

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JPS5176396A JPS5176396A (ja) 1976-07-01
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