JPS59213127A - 炉心管 - Google Patents
炉心管Info
- Publication number
- JPS59213127A JPS59213127A JP8789883A JP8789883A JPS59213127A JP S59213127 A JPS59213127 A JP S59213127A JP 8789883 A JP8789883 A JP 8789883A JP 8789883 A JP8789883 A JP 8789883A JP S59213127 A JPS59213127 A JP S59213127A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- core tube
- tube
- furnace core
- wall
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
- H01L21/67115—Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ガスを流し拡散あるいはアニール等の熱処
理を行なう電気炉に使用する炉心管に関するものである
。
理を行なう電気炉に使用する炉心管に関するものである
。
従来の拡散炉等の電気炉に使用される炉心管を含む半導
体加熱処理装置は第１図に示すように、一端が開口し、
他端にはガス導入管２が設けられた炉心管」と、炉心管
１を加熱するために周囲に電気ヒータ３を設置し、ヒー
タ３からの熱が炉心管１を均等に加熱するようにヒータ
３と炉心管１の側壁間に均熱管４が介在している。また
、炉心管１の内部には拡散やアニール処理を行なうため
にホルダー５にシリコンウェハー６が起立して取付けら
れている。このガス導入管２は第１図に示すように炉心
管１の長手方向の中心線上に配置されてあったシ、また
、第２図に示すように、ガス導入管２の後方に穴をあけ
た円板７を炉心管ｌ内に配置したもの、あるいは第３図
に示すように、ガス導入管２の先端に直接穴をあけたフ
ィルター８を設けたシしたものがある。
体加熱処理装置は第１図に示すように、一端が開口し、
他端にはガス導入管２が設けられた炉心管」と、炉心管
１を加熱するために周囲に電気ヒータ３を設置し、ヒー
タ３からの熱が炉心管１を均等に加熱するようにヒータ
３と炉心管１の側壁間に均熱管４が介在している。また
、炉心管１の内部には拡散やアニール処理を行なうため
にホルダー５にシリコンウェハー６が起立して取付けら
れている。このガス導入管２は第１図に示すように炉心
管１の長手方向の中心線上に配置されてあったシ、また
、第２図に示すように、ガス導入管２の後方に穴をあけ
た円板７を炉心管ｌ内に配置したもの、あるいは第３図
に示すように、ガス導入管２の先端に直接穴をあけたフ
ィルター８を設けたシしたものがある。
上記の構成において、炉心管１内に挿入されたシリコン
ウェハー６に拡散等の処理を行なう場合には、第４図に
示すようにガス導入管２をコネクター９で連結したガス
供給装置１０の電磁バルブ弁１１を開くことによって、
電磁バルブ１１に接続したガスが、ガス導入管２を通し
て炉心管１内に導入される。
ウェハー６に拡散等の処理を行なう場合には、第４図に
示すようにガス導入管２をコネクター９で連結したガス
供給装置１０の電磁バルブ弁１１を開くことによって、
電磁バルブ１１に接続したガスが、ガス導入管２を通し
て炉心管１内に導入される。
このガスは処理の種類によって、一種類の場合もあるが
、通常は第４図のように多種のガスＡ、Ｂ、Ｃを同時に
炉心管１に流すことができるようになっておシ、シリコ
ンウェハー６は、このガスによって不純物を拡散したシ
、酸化膜を成長させたルする。
、通常は第４図のように多種のガスＡ、Ｂ、Ｃを同時に
炉心管１に流すことができるようになっておシ、シリコ
ンウェハー６は、このガスによって不純物を拡散したシ
、酸化膜を成長させたルする。
かかる従来の構成にあっては、例えば、第１図の装置の
場合、多種のガスを流した時にガス混合を起こさせ、均
一性のよいガスを得ることが困難なため、制御性に欠け
るばかシではなく、高温に保たれた炉心管ｌの内部に置
かれたシリコンウェハー６に冷たいガスを直接あてるこ
とにな）、ウェハー６に熱応力を加えて結晶欠陥を発生
させたシ、ウェハー６のそりを増長させるなどの欠点が
あった。
場合、多種のガスを流した時にガス混合を起こさせ、均
一性のよいガスを得ることが困難なため、制御性に欠け
るばかシではなく、高温に保たれた炉心管ｌの内部に置
かれたシリコンウェハー６に冷たいガスを直接あてるこ
とにな）、ウェハー６に熱応力を加えて結晶欠陥を発生
させたシ、ウェハー６のそりを増長させるなどの欠点が
あった。
これらの欠点を解決するために、第２図や第３図に示す
装置が提案されているが、炉心管製造が難しく、コスト
が高いばかシではなく、その保守においても定期的な洗
浄が難しく、かつ強酸を使用するため、作業者に対し、
その危険性が高いものとなっていた。
装置が提案されているが、炉心管製造が難しく、コスト
が高いばかシではなく、その保守においても定期的な洗
浄が難しく、かつ強酸を使用するため、作業者に対し、
その危険性が高いものとなっていた。
さらに、第３図の場合は、ガス導入管３の先端が折れや
すく、強度的な面でも欠点があった。
すく、強度的な面でも欠点があった。
この発明は上記欠点の解消を目的としてなされたもので
、ガス導入管を炉心管の内部に沿うように配置すること
により、多種ガスの混合及びガスの加熱を同時に行ない
、均一性のよいウェハー処理を行なえるようにしたもの
である。
、ガス導入管を炉心管の内部に沿うように配置すること
により、多種ガスの混合及びガスの加熱を同時に行ない
、均一性のよいウェハー処理を行なえるようにしたもの
である。
以下、本発明の炉心管の一実施例について図面を用いて
説明する。
説明する。
第５図は炉心管の側面図であり、炉心管１の一端にはガ
ス導入管２が挿通されており、炉心管１内にある導入管
２の先端部分は炉心管１の周囲の内壁に沿って設置され
ている。
ス導入管２が挿通されており、炉心管１内にある導入管
２の先端部分は炉心管１の周囲の内壁に沿って設置され
ている。
第６図は第５図より９０°角度を変えて見たところで、
ガス導入管２の先端の開口は炉心管ｌの長手方向の中心
線から所定角度θをもって配置されている。
ガス導入管２の先端の開口は炉心管ｌの長手方向の中心
線から所定角度θをもって配置されている。
また、第７図は第５図を入方向から見た図で、ガス導入
管２の先端部が炉心管の内壁に沿って屈曲されている。
管２の先端部が炉心管の内壁に沿って屈曲されている。
かかる構成において、ガス導入管２よりガスを流入する
と、第５図のように炉心管１の内壁を長手方向に沿って
螺旋状にガス流が流れ、ガスの攪拌が行なわれる。仁の
時、第１図で示した電気ヒータ３や゛均熱管４によって
充分に加熱された炉心管１の内壁を伝ってガスが流れる
ため、ガスが高温となル、ウェハーに対する熱応力緩和
に貢献する。
と、第５図のように炉心管１の内壁を長手方向に沿って
螺旋状にガス流が流れ、ガスの攪拌が行なわれる。仁の
時、第１図で示した電気ヒータ３や゛均熱管４によって
充分に加熱された炉心管１の内壁を伝ってガスが流れる
ため、ガスが高温となル、ウェハーに対する熱応力緩和
に貢献する。
尚、第５図ではガス導入管２の開口を下側に配置したが
、炉心管内壁の上部或いは側部に配置するようにしても
よい。また、炉心管内に微量のガスを流す場合には、第
８図に示すように、ガス導入管２の先端部２１をしはシ
こみ、開口部を挾ばめた形状のものを使用することによ
シ、充分な攪拌効果を得ることができる。
、炉心管内壁の上部或いは側部に配置するようにしても
よい。また、炉心管内に微量のガスを流す場合には、第
８図に示すように、ガス導入管２の先端部２１をしはシ
こみ、開口部を挾ばめた形状のものを使用することによ
シ、充分な攪拌効果を得ることができる。
以上のようにこの発明は、攪拌した均一なガスを高温で
ウェハーに提供できるので、制御性のよい均一なウェハ
ー処理が達成できるものである。
ウェハーに提供できるので、制御性のよい均一なウェハ
ー処理が達成できるものである。
第１図は従来の炉心管を含む半導体加熱処理装置を示す
図、第２図及び第３図は他の従来の炉心管におけるガス
導入部を示す図、第４図は第１図装置によるガス導入装
置を取シ付けた図、第５図は本発明に係る炉心管の実施
例を示す図、第６図は第５図を９０°回転したときの図
、第７図は第５図をＡ方向から見た図、第８図は本発明
に係る炉心管のガス導入管の他の実施例を示す図である
。 １・・・・・・炉心管 ２・・・・・・ガス導入管 ３・・・・・・電気ヒータ ４・・・・・・均熱管 ６・・・・・・ウェハー 特許出願人 パイオニア株式会社 ｆ。 第５図 第６図 第７図 第８図
図、第２図及び第３図は他の従来の炉心管におけるガス
導入部を示す図、第４図は第１図装置によるガス導入装
置を取シ付けた図、第５図は本発明に係る炉心管の実施
例を示す図、第６図は第５図を９０°回転したときの図
、第７図は第５図をＡ方向から見た図、第８図は本発明
に係る炉心管のガス導入管の他の実施例を示す図である
。 １・・・・・・炉心管 ２・・・・・・ガス導入管 ３・・・・・・電気ヒータ ４・・・・・・均熱管 ６・・・・・・ウェハー 特許出願人 パイオニア株式会社 ｆ。 第５図 第６図 第７図 第８図
Claims (1)
- 周囲を加熱した管内に半導体ウェハーを載置し、管内に
導入したガス流によって半導体ウェハーを処理するよう
Ｋした炉心管であって、前記ガス流を炉心管の長手方向
に内壁に沿って螺旋状に流すようにしたことを特徴とす
る炉心管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8789883A JPS59213127A (ja) | 1983-05-19 | 1983-05-19 | 炉心管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8789883A JPS59213127A (ja) | 1983-05-19 | 1983-05-19 | 炉心管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59213127A true JPS59213127A (ja) | 1984-12-03 |
Family
ID=13927709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8789883A Pending JPS59213127A (ja) | 1983-05-19 | 1983-05-19 | 炉心管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59213127A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61290713A (ja) * | 1985-06-19 | 1986-12-20 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
| JPH02106822U (ja) * | 1989-02-13 | 1990-08-24 |
-
1983
- 1983-05-19 JP JP8789883A patent/JPS59213127A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61290713A (ja) * | 1985-06-19 | 1986-12-20 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
| JPH02106822U (ja) * | 1989-02-13 | 1990-08-24 |
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