JPS5920669B2 - キナゾリノン誘導体の製法 - Google Patents
キナゾリノン誘導体の製法Info
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- JPS5920669B2 JPS5920669B2 JP11997375A JP11997375A JPS5920669B2 JP S5920669 B2 JPS5920669 B2 JP S5920669B2 JP 11997375 A JP11997375 A JP 11997375A JP 11997375 A JP11997375 A JP 11997375A JP S5920669 B2 JPS5920669 B2 JP S5920669B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
（但し、Ｒ１は低級アルキル基、Ｒ２は低級脂肪族アシ
ル基を表わす。
ル基を表わす。
）で示される２−フルオロメチル−３−フエニル一４（
３Ｈ）−キナゾリノン誘導体の製法に関する。
３Ｈ）−キナゾリノン誘導体の製法に関する。
本発明によれば、当該目的化合物〔１〕は、下記反応式
で示される如くして合成することが出来る。すなわち、
一般式〔〕で示されるＮ−（２−アミノーベンズ）−ア
ニリド誘導体に一般式〔〕で示されるα−フルオロ酢酸
のカルボキシル基における反応性誘導体を反応させて相
当する２位フルオロアセタミド誘導体〔〕を製し、つい
でこれを脂肪酸無水物と無機プロトン酸またはルイス酸
との存在下に閉環反応させることにより前記一般式〔１
〕で示される目的化合物を製造することが出来る。（但
し、Ｒ１およびＲ２は前記と同一意味を表わし、Ｘは反
応性残基を表わす。
で示される如くして合成することが出来る。すなわち、
一般式〔〕で示されるＮ−（２−アミノーベンズ）−ア
ニリド誘導体に一般式〔〕で示されるα−フルオロ酢酸
のカルボキシル基における反応性誘導体を反応させて相
当する２位フルオロアセタミド誘導体〔〕を製し、つい
でこれを脂肪酸無水物と無機プロトン酸またはルイス酸
との存在下に閉環反応させることにより前記一般式〔１
〕で示される目的化合物を製造することが出来る。（但
し、Ｒ１およびＲ２は前記と同一意味を表わし、Ｘは反
応性残基を表わす。
）以下、本発明方法を上記反応式に従つて詳細に説明す
る。
る。
〔第一工程（〔〕＋〔旧→〔〕）〕
まず、一般式凹で示される一方の出発原料たるＮ−（２
−アミノーベンズ）−アニリド誘導体の好適な例として
は記号Ｒ１で示される低級アルキル基が例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル
基、アミル基等であり、記号Ｒ２で示される低級脂肪族
アシル基が例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリ
ル基、アクリロイル基、クロトノイル基、メタクリロイ
ル基等である化合物があげられ、上記アルキル置換基Ｒ
１はベンゼン環上０，ｍまたはｐ位のいずれの位置にあ
つてもよく、それぞれ対応する本目的化合物〔１〕に誘
導することが出来る。
−アミノーベンズ）−アニリド誘導体の好適な例として
は記号Ｒ１で示される低級アルキル基が例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル
基、アミル基等であり、記号Ｒ２で示される低級脂肪族
アシル基が例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリ
ル基、アクリロイル基、クロトノイル基、メタクリロイ
ル基等である化合物があげられ、上記アルキル置換基Ｒ
１はベンゼン環上０，ｍまたはｐ位のいずれの位置にあ
つてもよく、それぞれ対応する本目的化合物〔１〕に誘
導することが出来る。
また他方の原料化合物たるα−フルオロ酢酸のカルボキ
シル基における反応性誘導体〔〕の好適な例としては、
例えばα−フルオロ酢酸の酸無水物、酸プロミド、酸ク
ロリドの如き酸ハライド、エトキシカルボン酸の如き酸
との混酸無水物、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミドエステ
ルの如き活性エステル等があげられる。上記原料化合物
〔〕に〔〕を反応させる際、一方の原料化合物〔〕がい
ずれの形態であつても反応は適当な溶媒中脱酸剤の存在
下または非存在下に好適に進行する。
シル基における反応性誘導体〔〕の好適な例としては、
例えばα−フルオロ酢酸の酸無水物、酸プロミド、酸ク
ロリドの如き酸ハライド、エトキシカルボン酸の如き酸
との混酸無水物、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミドエステ
ルの如き活性エステル等があげられる。上記原料化合物
〔〕に〔〕を反応させる際、一方の原料化合物〔〕がい
ずれの形態であつても反応は適当な溶媒中脱酸剤の存在
下または非存在下に好適に進行する。
脱酸剤としては例えばピリジン、トリエチルアミン等の
有機塩基、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基等を好適
に使用出来る。また反応溶媒としては例えばテトラヒド
ロフラン、クロロホルム、ジオキサン、ジメチルホルム
アミド、酢酸エチル等を適宜使用出来る。また反応温度
としては例えば冷却乃至加温下、特に−５〜５０℃附近
にあるのが好ましい。〔第二工程（ 〔〕→〔１〕）〕
かくして得られたＮ−（２−フルオロアセタミドーベン
ズ）−アニリド誘導体〔〕の閉環反応は適当な溶媒中脂
肪酸無水物と無機プロトン酸またはルイス酸との存在下
に実施するのが好ましい。
有機塩基、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基等を好適
に使用出来る。また反応溶媒としては例えばテトラヒド
ロフラン、クロロホルム、ジオキサン、ジメチルホルム
アミド、酢酸エチル等を適宜使用出来る。また反応温度
としては例えば冷却乃至加温下、特に−５〜５０℃附近
にあるのが好ましい。〔第二工程（ 〔〕→〔１〕）〕
かくして得られたＮ−（２−フルオロアセタミドーベン
ズ）−アニリド誘導体〔〕の閉環反応は適当な溶媒中脂
肪酸無水物と無機プロトン酸またはルイス酸との存在下
に実施するのが好ましい。
存在させる脂肪酸無水物としては例えば無水酢酸、無水
プロピオン酸、無水酪酸等が好適であり、またルイス酸
としては例えば三フツ化ホウ素もしくはそれとエーテル
とのコンプレツクス、塩化亜鉛等無機プロトン酸として
は例えば塩酸、硫酸等をそれぞれ用いることが出来、と
りわけ塩酸、三フツ化ホウ素−エーテルコンプレツクス
等が好適である。反応は加温乃至加熱下、特に５０〜１
５０℃附近にて好適に進行し、反応溶媒としては例えば
酢酸、プロピオン酸、ジオキサン等を適宜使用出来る。
かくして生成した目的化合物〔１〕は、例えば反応終了
液より溶媒を留去し、得られる残基を適当な溶媒より再
結晶する如き公知の精製操作により容易に取得すること
が出来る。
プロピオン酸、無水酪酸等が好適であり、またルイス酸
としては例えば三フツ化ホウ素もしくはそれとエーテル
とのコンプレツクス、塩化亜鉛等無機プロトン酸として
は例えば塩酸、硫酸等をそれぞれ用いることが出来、と
りわけ塩酸、三フツ化ホウ素−エーテルコンプレツクス
等が好適である。反応は加温乃至加熱下、特に５０〜１
５０℃附近にて好適に進行し、反応溶媒としては例えば
酢酸、プロピオン酸、ジオキサン等を適宜使用出来る。
かくして生成した目的化合物〔１〕は、例えば反応終了
液より溶媒を留去し、得られる残基を適当な溶媒より再
結晶する如き公知の精製操作により容易に取得すること
が出来る。
本発明の目的化合物〔１〕はいずれも新規化合物であり
、中枢性筋弛緩作用を有する２−フルオロメチル−３−
フエニル一６−アミノ−４（３Ｈ）−キナゾリノン誘導
体の合成中間体として有用な化合物である。
、中枢性筋弛緩作用を有する２−フルオロメチル−３−
フエニル一６−アミノ−４（３Ｈ）−キナゾリノン誘導
体の合成中間体として有用な化合物である。
例えば本目的化合物の一つである２−フルオロメチル−
３−（０−トリノり−６ーアセタミド−４（３Ｈ）−キ
ナゾリノンは常法によつてＮ−アセチル基を説離させる
ことによりマイナ一・トランキライザ一作用を併有する
中枢性筋弛緩薬２−フルオロメチル−３−（０−トリル
）一６−アミノ−４（３Ｈ）−キナゾリノンに誘導する
ことが出来る。実施例 １ （１） ２−フルオロアセタミド−５−アセタミド−ベ
ンズ−０−トルイジドの合成：２−アミノ−５−アセタ
ミドーベンズ一０ートルイジド２．８３ｇ（０．０１モ
ノ（へ）およびピリジン１．６ｇ（０．０２モル）をテ
トラヒドロフラン５０ｄ中に加え、かくはん下に１０℃
以下に冷却する。
３−（０−トリノり−６ーアセタミド−４（３Ｈ）−キ
ナゾリノンは常法によつてＮ−アセチル基を説離させる
ことによりマイナ一・トランキライザ一作用を併有する
中枢性筋弛緩薬２−フルオロメチル−３−（０−トリル
）一６−アミノ−４（３Ｈ）−キナゾリノンに誘導する
ことが出来る。実施例 １ （１） ２−フルオロアセタミド−５−アセタミド−ベ
ンズ−０−トルイジドの合成：２−アミノ−５−アセタ
ミドーベンズ一０ートルイジド２．８３ｇ（０．０１モ
ノ（へ）およびピリジン１．６ｇ（０．０２モル）をテ
トラヒドロフラン５０ｄ中に加え、かくはん下に１０℃
以下に冷却する。
この溶液にフルオロアセチルクロリド１．９３９（０．
０２モル）を含むテトラヒドロフラン１０ｍｅ溶液を１
０分間を要して加える。室温にて２時間かくはんしたの
ち析出した結晶を口取し、水洗する。この結晶を更にイ
ソプロパノールで洗浄したのち乾燥することにより、無
色結晶として２−フルオロアセタミド−５ーアセタミド
ーベンズ一０−トルイジド３．２ｆ！を得も収率９３．
３％。（２） ２−フルオロメチル−３−（０−トリル
）−６−アセタミド−４（３Ｈ）−キナゾリノンの合成
；２−フルオロアセタミド−５−アセタミド−ベンズ−
０−トルイジド０．５ｇ（１．４６ミリモル）、無水酢
酸０．５９（４．９ミリモル）および三フツ化ホウ素・
エーテルコンプレツクス０．５９（３．５２ミリモル）
を酢酸２ｍ１こ加え、１１０℃にて１．５時間かくはん
する。
０２モル）を含むテトラヒドロフラン１０ｍｅ溶液を１
０分間を要して加える。室温にて２時間かくはんしたの
ち析出した結晶を口取し、水洗する。この結晶を更にイ
ソプロパノールで洗浄したのち乾燥することにより、無
色結晶として２−フルオロアセタミド−５ーアセタミド
ーベンズ一０−トルイジド３．２ｆ！を得も収率９３．
３％。（２） ２−フルオロメチル−３−（０−トリル
）−６−アセタミド−４（３Ｈ）−キナゾリノンの合成
；２−フルオロアセタミド−５−アセタミド−ベンズ−
０−トルイジド０．５ｇ（１．４６ミリモル）、無水酢
酸０．５９（４．９ミリモル）および三フツ化ホウ素・
エーテルコンプレツクス０．５９（３．５２ミリモル）
を酢酸２ｍ１こ加え、１１０℃にて１．５時間かくはん
する。
反応終了液より溶媒を留去し得られる残査に水を加え結
晶化させる。この結晶を口取し、水洗したのち乾燥する
ことにより、無色結晶として２−フルオロメチル−３−
（０−トリル）−６−アセタミド−４（３Ｈ）−キナゾ
リノン０．４ｆ１を得る。収率８５．１（Ｆ６。実施例
２ 実施例１（２）において、三フツ化ホウ素・エーテルコ
ンプレツクスに代えて９％塩酸一酢酸２９を用い、室温
にて３０分間かくはんしたのち１０『℃にて１時間かく
はんする。
晶化させる。この結晶を口取し、水洗したのち乾燥する
ことにより、無色結晶として２−フルオロメチル−３−
（０−トリル）−６−アセタミド−４（３Ｈ）−キナゾ
リノン０．４ｆ１を得る。収率８５．１（Ｆ６。実施例
２ 実施例１（２）において、三フツ化ホウ素・エーテルコ
ンプレツクスに代えて９％塩酸一酢酸２９を用い、室温
にて３０分間かくはんしたのち１０『℃にて１時間かく
はんする。
溶媒を留去し得られる残査をイソプロピルエーテルで洗
浄したのちメタノールより再結晶することにより、無色
結晶として２−フルオロメチル−３−３（０−トリル）
−６−アセタミド−４（３Ｈ）−キナゾリン０．２９を
得る。収率４６．２％。本品の物理的化学的性状は実施
例１（２）で得られた標品のそれに一致した。
浄したのちメタノールより再結晶することにより、無色
結晶として２−フルオロメチル−３−３（０−トリル）
−６−アセタミド−４（３Ｈ）−キナゾリン０．２９を
得る。収率４６．２％。本品の物理的化学的性状は実施
例１（２）で得られた標品のそれに一致した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は低級アルキル基、Ｒ＾２は低級脂肪族
アシル基を表わす。 ）で示されるＮ−（２−フルオロアセタミド−ベンズ）
−アニリド誘導体を脂肪酸無水物と無機プロトン酸また
はルイス酸との存在下に閉環反応させることを特徴とす
る一般式▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記と同一意味を表わす
。 ）で示される２−フルオロメチル−３−フェニル−４（
３Ｈ）−キナゾリノン誘導体の製法。 ２ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は低級アルキル基、Ｒ＾２は低級脂肪族
アシル基を表わす。 ）で示されるＮ−（２−アミノ−ベンズ）−アニリド誘
導体とα−フルオロ酢酸のカルボキシル基における反応
性誘導体とを反応させて一般式▲数式、化学式、表等が
あります▼ （但し、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記と同一意味を表わす
。 ）で示されるＮ−（２−フルオロアセタミド−ベンズ）
−アニリド誘導体を製し、ついでこれを脂肪酸無水物と
無機プロトン酸またはルイス酸との存在下に閉環反応さ
せることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があ
ります▼（但し、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記と同一意味
を表わす。 ）で示される２−フルオロメチル−３−フェニル−４（
３Ｈ）−キナゾリノン誘導体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11997375A JPS5920669B2 (ja) | 1975-10-03 | 1975-10-03 | キナゾリノン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11997375A JPS5920669B2 (ja) | 1975-10-03 | 1975-10-03 | キナゾリノン誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5242889A JPS5242889A (en) | 1977-04-04 |
| JPS5920669B2 true JPS5920669B2 (ja) | 1984-05-15 |
Family
ID=14774767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11997375A Expired JPS5920669B2 (ja) | 1975-10-03 | 1975-10-03 | キナゾリノン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5920669B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103613549A (zh) * | 2013-10-11 | 2014-03-05 | 浙江工业大学 | 一种氟喹酮的制备方法 |
-
1975
- 1975-10-03 JP JP11997375A patent/JPS5920669B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103613549A (zh) * | 2013-10-11 | 2014-03-05 | 浙江工业大学 | 一种氟喹酮的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5242889A (en) | 1977-04-04 |
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