JPS59206375A - オキシラン類の製法 - Google Patents

オキシラン類の製法

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JPS59206375A
JPS59206375A JP59082137A JP8213784A JPS59206375A JP S59206375 A JPS59206375 A JP S59206375A JP 59082137 A JP59082137 A JP 59082137A JP 8213784 A JP8213784 A JP 8213784A JP S59206375 A JPS59206375 A JP S59206375A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は植物生長抑制及び収賄・殺カビ(finli=
cidαl)活性を刹する化合物の合成に対1−る中間
体として使用し得る公知のオキシランのMj規な製造7
5伝に関するものでめる。
tlif化ジメデジメチルIjlC葭ジメチルを久むさ
せ、次にこれにより中間体として庄じるトリメチルスル
ホニウム硫酸メチルを不活1午弔墨心媒の存在下で、且
つ強塩基、例えばフ゛チル−リチウム、水系化ナトリウ
ム、ナトリウムアミド、カリウムt−ブチラード、ナト
リウムエチラート葦たはナトリウムエチラートの存在下
でカルボニル化合物と反応させることによりオキシラン
を製造し得ることは既に開示されそいる〔J、Amer
、Chem、Soc、87.1353〜1364  (
1965)及びBer、96.1881  (1963
)参照〕。かくして、例えば転化ツメチル及び’nit
敵ツメチルから調製したトリメチルスルホニウム硫酸メ
チルをその場でナトリウムメチラートのmV下匹てアセ
トニトリル中のl−(4−クロロンエノキシ)−3,3
−ジメチル−2−ブタノンと又Cシラせることによシ2
−(4−クロロンエノキシメチル)−2−1−−jfル
オキシランを製造することができる〔ヨーロッパ竹科出
願公開(b″p−us)第40.345号蚕照〕。この
方法の収率は良好である。しかしながら、用いるすべて
の塩−4f!:特別に調製する必要があり、そしてこれ
らのものが水分に=s&でhLそしてこれらのあるもの
力斥R祭性でやるために取り扱いが区1録であることは
不利である。
また脆化ジメチルをV仁政ジメチルで処理し、そして生
成するトリメチルスルホニウム硫酸メチルを函厚な水酸
化ナトリウム水浴液及び水と混和しにくい有+7A溶媒
の存在下にて、且つ相移動<phα8−1ransfe
r)触媒の存在下にてカルヂニル化合備と反応さゼーた
場合にオキシラ/が得られることが開示されティる[A
ngew、Chem、85.867〜868  (19
73)及びJ、Urg、Chem、34.2133  
(1969)参照〕。しかしながら、従来アルデヒドの
みがこの方法を用いてオキシランに転化された。加えて
、2つの液相からなる系においては相移動触媒の存在が
席に心安である。
不活性の有戦注布釈剤の存在下で脆化ヅメチルを倣いア
ジメチルで処理し、そしてそ71−vこよジ生反する式 %式%() のトリメチルスルホニウム呪ハメテルを前もって単離せ
ずに、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムa床の存
在下にて、且つ不活性の有恢性希釈OCR。
式中、Xは酸素またはCR7を表わし、Yは塩素または
フェニルを表わし、そしてZは水素またはハロゲンを表
わす、 のケトンと反応させることを特徴とする式式申、X、 
Y及びZは上記の意味を有する、の公知のオキシランが
侍らnることが見い出された。
式(+)のオキシランが本発明の方法により従米公加の
方法と比較して高収率で製造できることは極めて属くべ
きことと言わねばならない。更に、当該分野の公知の現
状を基に、対応するアルデヒドより勿論活性が一般的に
低いこの糧のケトンの反応に対して相移動触媒の存在が
必要であることは推祭された。しかしながら、予想に反
してこのことは必要では橙い。触媒が存在しなくとも反
応は同鵬なく起こるが、同相及び液相からなる系におい
て起こっている。また本発明による反応は水酸化ナトリ
ウムまたは水酸化カリウムを用いて姑なく行うことがで
き、一方塩基として粉末の水酸化リチウムを用いる揚台
に同様な反り己において不満足な結末が侍らnることは
鵞くべさことである・。
本方法(fこよる方法は畝多くのオリ点により材億っけ
られる。7:)”<して、1更用し得る塩基(1仰工来
旧規模でも得られ、取り慎いが容易でめり、そして可燃
性ではない。史に、この方法により式(1)のオキシラ
ンは極めて高収率で得らnる。
不発明によ、!lll製造し得るオキシランは式(1)
によp定職される。この式においてXは酸素またはCB
2基を表わす。Yは塩素またはフェニルを表わし、そし
てZは好ましくは水素、フッ素または塩素を衣わす。
本発明による方法において出発物質として1−(4−ク
ロロフェノキシ)−3,3−ジメチル−2−ブタノンを
用い、そして塩基として水酸化カリウム粉末を用いる場
合、反応の径路は下記の図で表わすことができる: a)(C’H3)2S  −4−(CB、)、SO,→
(C“H8)、S■cH,so4C) ROM−粉末 本発明の方法における出−A物質として必要なケトンは
式(Ill)で定義される。この式において、Yは垣索
またはフェニルを表わす。Xは―累またはCB2基を表
わし、ぞしてZは好壕しくは水素、フッ素または塩素を
表わす。
式(1)のケトンは公知のものである〔ドイツ国特許第
2,201,063号、ドイツ国特許田願公開(DE−
US)第2.705.678号及び同第4737、48
9号参照〕。
また不発明によめIli発物質として必安な式([1)
のトリメチルスルホニウム硫ハメテルは同様に公知のも
のである[Heterocycles  8.、 39
7  (1977)、1照〕。このものは上記の反応に
おいて硫化ジメチルをt、f酸ジメチルと反応させて、
その場で生じさせた餌だな製造状態のままで用いる。
本発明による方法に用いる塩基は粉末の水酸化カリウム
または粉末の水酸化ナトリウムである。
トリメチルスルホニウム硫酸メチルの製造及び続いての
この+jl1%と式(In)のケトンとの反応の両方に
対して、本発明による方法の希釈剤としてすべての不活
性有機溶媒を用いることができる。適当で且つ好ましい
ものにはニトリル例えばアセトニトリル、並びに極性溶
媒例えばジメチルスルホキシド、賛だ脂肪族ぽたは芳香
族炭化水素例えばヘキサン、ベンゼン、トルエンもしく
ハキシレン、並びに蚊後にアルコール例えばt−ブタノ
ール及びイソプロ/ぐノール、爽に1■−メチルピロリ
ドンがある。
不発明による方法をイテう際に、反応温度はある範囲内
で変えることができる。一般に、トリメチルスルホニウ
ム61鍍メチルの製造及びその続いての式(I[l)の
ケトンとの反応の両方に対して、0℃乃至60℃間、好
ましくは10℃乃至40℃間の温度を用いる。
本発明による方法は一般に常圧下で行われる。
しかしながら、昇圧または減圧下でも行うことができる
。− 本発明による方法を行う除に、一般的に式@)のケトン
1モルに対して1.0〜2.0モル、好ましくは10〜
1.5七ルの硫酸ジメチル、1.0〜Z2モル、好まし
くは10〜1.6モルの硫化ジメチル及び1.0〜4.
0モル、好ましくは15〜ZOモルの水欧化カリウムま
たは水酸化ナトリウムを用いるように反応に:1=−け
る成分の量を逃ふ。
本発明による方法に対する特定の方法ばWlt化ジメジ
メチル匂・;を臥ツメチルを玲媒ψで混合し、次に@僚
酊妹甲の式(lO)のケトンのsiをこの溶液に刃口え
、絖いて特に必妥とされる量の塩基を刃口えることであ
る。常法で処坤ケ行う。一般に、この方法は敢初に真空
中で饅媒を除去し、次に過酸化水素水浴液、布釈仄亜塩
累酸ナトリウムもしくは次亜埴累ばカリウム溶液の如@
は化剤、または水及び\ 水゛とはとをと混和¥ない有@溶媒の混合物を一緒に残
留している残壓に加え、有機相を分別し、洗浄し、そし
て必要に応じて乾燥前に蒸発させることからなる。これ
により生じる生成物を更に精製するために減圧下で蒸留
することができる。
本発明の方法により製造し得る式(1)のオキシランは
植物生長抑制及び殺菌・殺カビ特性に優れた1−ヒドロ
キシ−ニブ°ルアゾール誘導体の自戒に対する価値ある
出発吻寅、である(ヨーロッノセ特許出願公開第40.
34”5号参照〕。
かくして、例えば水酸化力・ノウムの存在下で2− (
4−クロロフェノキシメチル)−2−t−ブチルオキシ
ランf:x、2.4−)リアゾールと反応させることに
より式 ( (2 %式% iミルメチル−2−ブタノールを製造すること−CD2 E M2 本発明による方法を仄の英施例で説明する。
実施例1 硫化ジメチル2?+rd!(0,375モル)及び・硫
酸ジメチル30d(0,317モル)を室温でアセトニ
トリル400m/lに加えた。トリメチルスルホニウム
硫酸メチルが生成するようにこの混合・物を室温で12
時間放置し、次にトルエ;/100−中の1− (4−
クロロフェノ斤シ)−3,3−シ゛メチルー2−ブタノ
ン57j’(0,25モル)の溶液をtノ押しながら滴
下して加えた。次に、氷水を用いて外部冷却し、そして
攪拌しながら粉砕した水酸化力・ノウム25.8F(0
,46モル)を一部ずつ加えた。このパ昆曾・、吻を室
温で更に12時間撹1手し、そして酊媒400m1を留
去した。残りの混合物を冷却し、次亜塊糸滅ナトリウム
の布釈水浴液300 :nt fカロえ、そしてこの(
昆台′吻を5分間攪拌した。
有・重相τ分離いに6々100葱の水で2回洗浄し、次
に(’、fQ圧下で蒸発させた。残渣6 i、 4 F
が残留し、このものはガスクロマ1グラムより93.6
%の2−(4−クロロフェノキシメチル)−2−t−ブ
チルオキシランからなっていた。こ←から計算された収
率は理論量の95.6%であった。
実施例2 水酸化カリウムの代りに粉砕した水酸化ナトリウム18
.4 ? (0,46%ル)を用いる以外rI:芙施実
施に記載した方法をく9返して行った。処理欽、ガスク
ロマドクラムにより90.9 %の2−(4−クロロフ
ェノ千ジメチル)  −2−t−ブチルオキシランから
なる残渣57.8 rが併られた。これから計典された
収率jd理論量の87.4%でつった。
比収実施例 無水アセl−ニド!jル400m1甲の硫化ジメチル1
62彪(22モル)の溶液を室温で無水アセトニトリル
1200m1中の硫酸ツメチル189rnt(2,0モ
ル)の溶液に加えた。この反応混合物を室温で一夜攪拌
した。次にナトリウムメチラート118.8r(2,2
モル)を加えた。この混合物を30分間攪拌し、次に無
水アセトニトリル600m1.中の1− (4−クロロ
フェノキシ)−3,3−ジメチル−2−ブタノン272
F(1,2モル)の高液全30分間以内に滴下しながら
加えた。次にこの反応混合物を一夜放直した。次にこの
ものを蒸発させ、残渣を水及び酢酸エチル間に分配させ
、廟戦相を分別し、水で2回そして飽和塩化ナトリウム
浴液で1回洗浄し、懺酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発さ
せ、そして残渣を真空中で蒸留した。
沸点115〜22°C10,003關Bg柱、融点50
〜52℃の2−(4−クロロフェノキシメチル)  −
2−t−ブチルオキシラン2414r  (理論量の8
4%)が得られた。
一ヒドロキシエチルアゾール誘導体の合成に対す! B C’H2 トルエン?Or、A及びツメチルスルホキシド75m1
中の2− (4−クロロフェノキンメチル)−2−1−
フf ルオー ’/う730?、l、2.4−)リアゾ
ール9.81及び同体水酸化カリウム1.21の混合物
を幌流下で6時間加熱した。室温に冷却した後、シリカ
ゲル22をこの反応混合物に加え、次にこのものをろ過
した。このろ液に半濃厚の塩液75−を肌え、そしてこ
れにより分別した結晶を吸引でろ別した。次に水80m
及び水酸化ナトリウム水浴液を混合物のpE値が139
るように結晶固体に加えた。このものを室温で更に2時
間攪拌し、次に吸引でろ別し、そして中性になるまで水
で洗浄した。この方法で、融点84〜87℃の2−(4
−クロロフェノキシメチル) −3゜3−ジメチル−↓
−(1,2,4−トリアゾル−1−イルメチル) −2
−ブタノール20? (理論量の52%)が得られた。
%n出願人 バイエル・アクチエンヶ゛ゼルシャフトド
イツ連邦共和国デー5600ブツ ペルタール1キービツツベーク 12アー

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 不活性有伝希釈剤の存在下で、伝1[化ジメチル
    を硫酸ジメチルで処理し、そしてそれにより生成する式 %式%() のトリメチルスルホニウムIr−1c 酸メチルを、前
    もってJ+L島1トせずに、水酸化カリウムまたは水酸
    化ナトリウムの粉末の存在−下且つ木活性・爵様希釈剤
    の存在下にて、0℃と60℃の111Jの温度で式0式
    % 式中、x”B酸系才たけCH2を表わし、Y−:塩素ま
    たはフェニルを衣わし、そしてZは水素またはハロゲン
    を表わす、 のケトンと反応させることを特徴とする式式中、X、1
    ′及びZは上記のし1体を41する、のオキシラン川の
    製法。 2.7XX全全10と40℃の1−’BiJの温度で行
    うことを特徴とする特証ト拍求の祿囲弔1項記載の方法
    。 3、IJ機る釈剤として、アセトニトリル、ジメチルス
    ルホキンド、トルエン及び/lた1it−ブタン−ルを
    用いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方
    法。 4、 式(■)のケトンとして、2−  (4−クロロ
    フェノキシ)−3,3−ジメチル−2−ブタノンを用い
    ることを特徴とする特許請求のII+12囲第1項記載
    の方法。
JP59082137A 1983-04-29 1984-04-25 オキシラン類の製法 Granted JPS59206375A (ja)

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