JPS59203644A - 蒸発源用るつぼ - Google Patents

蒸発源用るつぼ

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Publication number
JPS59203644A
JPS59203644A JP7950383A JP7950383A JPS59203644A JP S59203644 A JPS59203644 A JP S59203644A JP 7950383 A JP7950383 A JP 7950383A JP 7950383 A JP7950383 A JP 7950383A JP S59203644 A JPS59203644 A JP S59203644A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crucible
evaporation
lid
main body
substance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7950383A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichiro Yamanishi
山西 健一郎
Sanjiyu Ko
広 三寿
Kimio Momiyama
籾山 公男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP7950383A priority Critical patent/JPS59203644A/ja
Publication of JPS59203644A publication Critical patent/JPS59203644A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は真空蒸着、クラスターイオンビーム蒸着等(
こおいて用いられる蒸発源用るつぼに関するものである
従来、常温固体状の物質を加熱蒸発せしめて被蒸着材上
に蒸窟して薄膜形成を行なう真空蒸着。
クラスターイオンビーム蒸着等において、常温固体状の
物質を加熱蒸発させるためのるつぼとしては黒鉛からな
るものが一般的であった。
ところか、黒鉛からなるるつぼを用いてニッケル(Ni
)、シリコン(Sl)等の物質を蒸着しようとする場合
、蒸着物質か黒鉛と反応してるつほが破損するという欠
点があり、寸たるつぼ本体を上記物質と反応を起こさな
い材質例えばマグネシア等で構成した場合(こけ、マグ
ネシアが絶縁性であるため加熱方法として電子@宗法を
用いることができないという欠点も有し一〇いた。
この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになされたもので、るつぼ本体は蒸着物質と反応を起
こさない材料で桟成し、本体外面は電子衝撃法を用□い
て加熱してもチャージアップを起こすことがないように
、導電性材料で被覆を行なうことにより、各種物質を高
渦で蒸発させる二とが可能なるつほを提供することを目
的としている。
図はこの発明の一実施例になるクラスクーイオンビーム
蒸着用るつほの構成を示す縦断面図で、fりはるつぼ本
体、(2)はるつぼ本体(1)を被覆する本体被覆材、
+3+は試料の出し入れ時に除去されるるつぼ用ふた、
(4)はるつぼ用ふた(3)の外面を被覆するふたw、
覆材、(5)は蒸着物質、(6)は蒸発物質(5)の蒸
気が噴出するノズルである。
この実施例では図示のように、るつは本体+1+および
るつぼ用ふた(3)をそれぞれ導電性の%’i−uv材
(2)。
(4)で被+17している。この場合るつぼ本体fl)
およびるつぼ用ふた(3)は蒸着物質と反応を起こしG
こくい材料、例えばジルコニア、マグネシアなどを用い
、被覆材+21 、 +4+に(・は黒鉛などを用いる
。このような構成にしで、iJ−けば′E圧子勧撃(・
二よってるつ1・圧を力a熱し、てもナヤージアップを
起こすことはな(、寸だ、るつぼの、′]爪)j’l−
が」1列、して、蒸発物質(6)の蒸グ(、がノズル(
6)からづ(出しているI′j、jJも、類7υ物5−
15)とるつIA本体(lij’+・よびるつ(・了用
ふた(宏り反応を起こすこともン、rい。
2−お、上記宸飾例でけ1]〉楔材として黒鉛をるつぼ
外面にコーティングした場合を示したが、被覆材として
はタングステン、タンタル、モリブデン。
ニオブなどの高融点金属を用いてもよく、また被覆方法
としてもシート状のものをるつぼに巻きつける方法、ま
たは容器状に形成された被覆材の中へるつぼを設置する
方法などを用いてもよい。また、上記実施例ではクラス
ターイオンビーム蒸着用のるつぼの場合を示したが、通
常の真空蒸着やイオンブレーティング用のるつほにもこ
の発明は適用できる。
以上説明したように、この発明になる蒸発源用るつぼで
は、るつは本体をその内部に収容する蒸着物質と反応を
起こさない材料で構成し、るつぼ外表面を導電性の被色
材で覆ったので、電子衝撃加熱方法を用いてもチャージ
アップを生じることなく加熱が可能で、各種物質の蒸着
を、生成蒸着膜への不純物の混入を伴なうことなく行な
うことができる。また、るつぼが蒸着物質と反応して破
損することもなく、るつぼの信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
図はこの発明の一実施例になるクラスターイオンビーム
蒸着用るつほの構成を示す縦断面図である。 図において、(1)はるつぼ本体、(2]は本体被覆材
、(3)はるつば用ふた、(4)はふた用被覆材、(5
)は蒸着物質、(6)はノズルである。 代理人 大岩増雄

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ++)  るつぼ本体は内部に収容する蒸発物質と反応
    しにくい材料で構成され、上記るつぼ本体の外表面が導
    電性材料からなる被覆材で汐われていることを特徴とす
    る蒸発源用るつぼ。 (2)  るつぼ本体がジルコニア、マグネシアなどの
    セラミックからなることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の蒸発源用るつぼ。 (3)  被侵材が黒鉛からなることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項または第2項記載の蒸発源用るつぼ。
JP7950383A 1983-05-06 1983-05-06 蒸発源用るつぼ Pending JPS59203644A (ja)

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JPS59203644A true JPS59203644A (ja) 1984-11-17

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JP (1) JPS59203644A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62202768U (ja) * 1986-06-16 1987-12-24
JPS6389963U (ja) * 1986-11-28 1988-06-10
JPS63119665U (ja) * 1986-09-11 1988-08-02

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62202768U (ja) * 1986-06-16 1987-12-24
JPS63119665U (ja) * 1986-09-11 1988-08-02
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