JPS59190871A - サ−マルヘツドの発熱抵抗体層保護膜 - Google Patents
サ−マルヘツドの発熱抵抗体層保護膜Info
- Publication number
- JPS59190871A JPS59190871A JP6558083A JP6558083A JPS59190871A JP S59190871 A JPS59190871 A JP S59190871A JP 6558083 A JP6558083 A JP 6558083A JP 6558083 A JP6558083 A JP 6558083A JP S59190871 A JPS59190871 A JP S59190871A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- value
- heating resistor
- protective film
- resistor layer
- thermal head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/335—Structure of thermal heads
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、サーマルへ・ノドの発熱抵抗体層保護膜に係
る。
る。
従来、薄膜型サーマルヘッドの発熱抵抗体層の保護膜と
しては、8i02/ Ta2O,からなる積層−・膜、
又はSiCあるいはSi3N4からなる膜などが一般的
に適用されている。
しては、8i02/ Ta2O,からなる積層−・膜、
又はSiCあるいはSi3N4からなる膜などが一般的
に適用されている。
保護膜は、発熱抵抗体の酸化を防止するとともに、加圧
摺動てる記録紙による摩耗を防止することを目的として
いる。従って、保護膜の%Ill性として耐磨耗性が要
求される。しかし、Sin。
摺動てる記録紙による摩耗を防止することを目的として
いる。従って、保護膜の%Ill性として耐磨耗性が要
求される。しかし、Sin。
/ Ta2O,からなる積層膜は、硬度が小さく耐摩耗
性に劣る。その結果、7〜8μmに積層する必要があり
、製造工程がかさむ等の問題が生ずる。また、SiCか
らなる膜は、化学的に不安定1゜なため感熱剤と反応し
て、耐摩耗性が著しく低。
性に劣る。その結果、7〜8μmに積層する必要があり
、製造工程がかさむ等の問題が生ずる。また、SiCか
らなる膜は、化学的に不安定1゜なため感熱剤と反応し
て、耐摩耗性が著しく低。
下fろことかある。
一力、SIN系の8i、べからなる膜は、P−CVD法
(プラズマ気相成長法)によって形成。
(プラズマ気相成長法)によって形成。
され、硬度が高く耐摩耗、及び化学的安定性は良いが、
靭性が低く、膜内に犬?tYx内部応力が生ずる。従っ
て、稼動時における記録紙の押付圧のために、亀裂ある
いは膜はがれが経時的に発生し、そのため、発熱抵抗体
層を破損してしまう場合がある。
靭性が低く、膜内に犬?tYx内部応力が生ずる。従っ
て、稼動時における記録紙の押付圧のために、亀裂ある
いは膜はがれが経時的に発生し、そのため、発熱抵抗体
層を破損してしまう場合がある。
本発明の目的は、従来の保護膜のかかる欠点をたくし、
耐摩耗性、耐亀裂性に優れかつ化学的に安定l「保護膜
を提供することにある。
耐摩耗性、耐亀裂性に優れかつ化学的に安定l「保護膜
を提供することにある。
〔発明の概要〕 、。
Si3N4から77cる膜は、硬度が犬きく、耐摩耗性
に優れているという点に本発明者は着目した。
に優れているという点に本発明者は着目した。
そして、残る問題である耐亀裂性を牧舎てる目的から、
内部応力の最適化を計るため鋭意工夫を重ね、数々の検
討を力日えた。
内部応力の最適化を計るため鋭意工夫を重ね、数々の検
討を力日えた。
1へ
その結果、材料として、5ixHyNを主成分とする材
料を取り上げ、これにより膜を形成し、該X値、y値を
膜厚方向に異ならせると、成膜は、Si、N4からなる
膜に近い硬度をもち、かつ高い靭性な有することがわか
った。
料を取り上げ、これにより膜を形成し、該X値、y値を
膜厚方向に異ならせると、成膜は、Si、N4からなる
膜に近い硬度をもち、かつ高い靭性な有することがわか
った。
そこで本発明者は、サーマルヘッドの発熱抵抗体層保護
膜として、5i2HyN を主成分とする材料を用い
、該X値を発熱抵抗体層表面から外側表面に向かい変化
させ、かつ該X値は発熱抵抗体層側表面の値の方が外側
表面の値より小さ)くしで成る本発明に到達したもので
ある。ここで、5ixl−JyNを主成分とする材料と
は、一般にサーマルヘッドの発熱抵抗体保護膜として使
用される材料中に所期の効果を牛するよう5ixtyへ
を含有させたものを言うが、これにはS i xHy
u)へのみから成る材料も含まれることは言うまでもな
い。
膜として、5i2HyN を主成分とする材料を用い
、該X値を発熱抵抗体層表面から外側表面に向かい変化
させ、かつ該X値は発熱抵抗体層側表面の値の方が外側
表面の値より小さ)くしで成る本発明に到達したもので
ある。ここで、5ixl−JyNを主成分とする材料と
は、一般にサーマルヘッドの発熱抵抗体保護膜として使
用される材料中に所期の効果を牛するよう5ixtyへ
を含有させたものを言うが、これにはS i xHy
u)へのみから成る材料も含まれることは言うまでもな
い。
牙1図は、本発明の一実施例に係る保護膜を使用したサ
ーマルヘッドの発熱抵抗体層近傍の1,1断面構造図で
ある。
ーマルヘッドの発熱抵抗体層近傍の1,1断面構造図で
ある。
本実施例においては、保護膜4は、S i xHyNで
示される材料からなり、発熱抵抗体層2側表面から外側
表面に向かいX値ば02から09に連続的に変化してお
り、優れた硬度をもち耐摩耗性に優れるとともに、靭性
が高く耐亀裂性に優れている。
示される材料からなり、発熱抵抗体層2側表面から外側
表面に向かいX値ば02から09に連続的に変化してお
り、優れた硬度をもち耐摩耗性に優れるとともに、靭性
が高く耐亀裂性に優れている。
本実施例を更に詳細に説明する。
本例は図示の如くグレージングされた平滑面を有するア
ルミナセラミックス基板1上に、た3とえは蒸着法、ス
パッタリング法などの真空成膜法により、Cr−8i薄
膜とCr / A−1膜をそれぞれ発熱抵抗体層2、電
極層3として積層しである。このような構造から1rる
パターン上にS i xHyNからなる保護膜4を形成
しである。 10保−膜4の形成は本実施例ではP
−CVD法により、SiH,、N)1.− N2の混合
気体から5ixHyN。
ルミナセラミックス基板1上に、た3とえは蒸着法、ス
パッタリング法などの真空成膜法により、Cr−8i薄
膜とCr / A−1膜をそれぞれ発熱抵抗体層2、電
極層3として積層しである。このような構造から1rる
パターン上にS i xHyNからなる保護膜4を形成
しである。 10保−膜4の形成は本実施例ではP
−CVD法により、SiH,、N)1.− N2の混合
気体から5ixHyN。
を反応生成させて行な5゜この時の生成条件は次のもの
である。
である。
RFパワー:450W +s
生成ガス圧カニ 0.2 Torr カス流量比(5i)I、/ NH,): 0.6生成温
度=200〜350°C 上記条件で、X値の制御は、生成温度を変えることによ
り行った。本実施例では、200°Cから開始し、連続
的に3500Cまで加温した。
生成ガス圧カニ 0.2 Torr カス流量比(5i)I、/ NH,): 0.6生成温
度=200〜350°C 上記条件で、X値の制御は、生成温度を変えることによ
り行った。本実施例では、200°Cから開始し、連続
的に3500Cまで加温した。
加温速度は保護膜の膜生成速度、保護膜の膜厚(本実施
例では3μm)を測定して適宜に設定する。このように
して形成した保護膜4のX値、y値を赤外線吸収分析、
質量分析などσ゛)一般的−・な分析手法で定量した。
例では3μm)を測定して適宜に設定する。このように
して形成した保護膜4のX値、y値を赤外線吸収分析、
質量分析などσ゛)一般的−・な分析手法で定量した。
保挿膜40発熱折抗体層211III表面のX値はo2
であり、y 1mはo9であった。一方、外側表面のX
値ば09であり、y値は01であった。また発熱抵抗体
操2側表面と外側表面との間では、X値、y値は連続的
1゜に増加していた。
であり、y 1mはo9であった。一方、外側表面のX
値ば09であり、y値は01であった。また発熱抵抗体
操2側表面と外側表面との間では、X値、y値は連続的
1゜に増加していた。
本実施例の保護膜4の内部応力及びヌープ硬度を測定し
た。その結果を、Sin、 /Ta2O,J:りなる保
護膜とSi、N4よりなる保護膜について測定したもの
と比較して才1表に示す。
た。その結果を、Sin、 /Ta2O,J:りなる保
護膜とSi、N4よりなる保護膜について測定したもの
と比較して才1表に示す。
矛1表
(−X−1):発熱抵抗体層側表面−20、外側表面−
80 発熱抵抗体層側表面のy値が02、y値が09外側表面
のy値が0.9、y値がolである本実施例の保護膜4
を形成したサーマルヘッドで評価試験を3行ない、耐摩
耗性、耐亀裂性および発熱抵抗体層2の抵抗変化率を調
べた。通電条件は、パルス電圧開力ロ時間ms、パルス
周期10m5、印加電力密度30W/82である。この
時の発熱抵抗体層2の形状は、幅9011’m、長さ2
50μm +。
80 発熱抵抗体層側表面のy値が02、y値が09外側表面
のy値が0.9、y値がolである本実施例の保護膜4
を形成したサーマルヘッドで評価試験を3行ない、耐摩
耗性、耐亀裂性および発熱抵抗体層2の抵抗変化率を調
べた。通電条件は、パルス電圧開力ロ時間ms、パルス
周期10m5、印加電力密度30W/82である。この
時の発熱抵抗体層2の形状は、幅9011’m、長さ2
50μm +。
である。また主走査密度は8ドツト/M!Lである。
この条件で108パルス、紙走行30km後の保護膜4
の摩耗量は0.8μm、抵抗変化率は初期。
の摩耗量は0.8μm、抵抗変化率は初期。
値に対して5チ以下であった。また保護膜4には亀裂、
膜はがれは発生しなかった。
膜はがれは発生しなかった。
これらの特性を比較例とともに牙2表に示す。
周・2衣
(% 2 ) 5ixNyN の場合の摩耗性を10と
した時の値 上記した各実施例ではy値は連続的に変化てろ構成とし
たが、保護膜の成膜を数段階にわたって行txう技術な
どを用いて例えば3層の膜を ・形成てるなどの場合、
y値は必ずしも連続的に変化するものでな(てもよい。
した時の値 上記した各実施例ではy値は連続的に変化てろ構成とし
たが、保護膜の成膜を数段階にわたって行txう技術な
どを用いて例えば3層の膜を ・形成てるなどの場合、
y値は必ずしも連続的に変化するものでな(てもよい。
不連続に変化したり、あるいは部分的にy値の逆転があ
っても、発熱抵抗体層側表面のy値が外側表面のy値よ
りも小さけれは、所期の効果を奏し皆るもので1゜ある
。
っても、発熱抵抗体層側表面のy値が外側表面のy値よ
りも小さけれは、所期の効果を奏し皆るもので1゜ある
。
本発明の保護膜を適用てることにより、耐摩。
耗性、耐亀裂性がともに優れまた化学的にも安定してい
る高性能なサーマルヘッドが実現でき、。
る高性能なサーマルヘッドが実現でき、。
る。また摩耗量の低減により保護膜の薄膜化が可能とな
り、サーマルヘッドの製造原価を低減させることができ
る。
り、サーマルヘッドの製造原価を低減させることができ
る。
なお当然のことではあるが、本発明は上記した実施例に
の人限定されるものではない。
の人限定されるものではない。
図面は、本発明の一実施例に係る保護膜を使用したサー
マルヘッドの断面構造図であイ)。 1・・・基板、2・・・発熱抵抗体層、3・・・電極層
、4・・・保護膜。 代理人弁理士 高 橋 明 夫 −371 手続補正書(自発) 事件の表示 昭和58 年特iiQ願第65580 号発 明
の 名 称 サーマルヘッドの発熱抵抗体層保穫膜補正
をする者 ・lft’lとの1駈 特許出願人 名 称 ”511111イ゛1式会11 [
1立 製 作 所代 理 人 補正の内容 明細−第7頁、第8行目の「′亀圧印力1
1時間m s Jを1電圧印加時間1rnsJに1止す
る。 以上
マルヘッドの断面構造図であイ)。 1・・・基板、2・・・発熱抵抗体層、3・・・電極層
、4・・・保護膜。 代理人弁理士 高 橋 明 夫 −371 手続補正書(自発) 事件の表示 昭和58 年特iiQ願第65580 号発 明
の 名 称 サーマルヘッドの発熱抵抗体層保穫膜補正
をする者 ・lft’lとの1駈 特許出願人 名 称 ”511111イ゛1式会11 [
1立 製 作 所代 理 人 補正の内容 明細−第7頁、第8行目の「′亀圧印力1
1時間m s Jを1電圧印加時間1rnsJに1止す
る。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 i、 5ixHyNを主成分とする判料か1l−)な
り、発)熱抵抗体層側表面から外面表面に向かいy値が
変化し、かつ2発熱抵抗体層側表面のy値が外側表面の
y値より小さい、サーマルヘッドの発熱抵抗体層側表面
。 イ旦し、x +y = 1.0〜11である。
1t12 y値は発熱抵抗体層側表面から外側表面に向
かい連続的に変化するものである特許請求の範囲牙1項
記載のサーマルヘッドの発熱抵抗体層保護膜。 ろ 外側表面のy値が09、y値が0.1であり、1゜
発熱抵抗体層側表面のy値が02、y値が09である特
許請求の範囲牙1項記載のサーマルヘッドの発熱抵抗体
鳩保鰻膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6558083A JPS59190871A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | サ−マルヘツドの発熱抵抗体層保護膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6558083A JPS59190871A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | サ−マルヘツドの発熱抵抗体層保護膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59190871A true JPS59190871A (ja) | 1984-10-29 |
Family
ID=13291085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6558083A Pending JPS59190871A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | サ−マルヘツドの発熱抵抗体層保護膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59190871A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018517097A (ja) * | 2015-04-23 | 2018-06-28 | エマソン クライメット テクノロジーズ(スーチョウ)カンパニー、リミテッド | スクロール圧縮機並びにスクロール圧縮機のための駆動軸及びアンロード・ブッシュ |
-
1983
- 1983-04-15 JP JP6558083A patent/JPS59190871A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018517097A (ja) * | 2015-04-23 | 2018-06-28 | エマソン クライメット テクノロジーズ(スーチョウ)カンパニー、リミテッド | スクロール圧縮機並びにスクロール圧縮機のための駆動軸及びアンロード・ブッシュ |
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