JPS59188832A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気記録媒体に関するものである。

磁気記録媒体の一つである磁気テープでは、その慈性層
とは反対側のベース面にバックコート層を形成するため
にバンクコート処理が行なわれる。

その主な目的は、 （１）ベース面の表面電気抵抗を下げて、磁気テープの
帯電によるトラブルを防ぐ。

（２）テープの巻き特性−早送り、巻戻し時の乱巻きを
防ぎ長期保存、輸送時の巻き不良発生を防ぐ。

（３）ベース面の耐久性を上げ、使用中の傷付き発生を
防いでドロップアウトあるいはスクラッチノイズの増加
を抑える。

（４）テープ間の摩擦を小さくする。

などである。

しかし、記録密度の向上に伴い、磁性層表面の平滑性が
向上し、従来のバンクコート層では、磁気テープを巻い
たまま長期間保存すると、磁性層とバックコート層の間
に粘着現象が起る。この層間粘着を防ぐために、従来は
一定期間をおいてテープを巻き直したり、各種の滑剤が
、例えばグラファイト等の非磁性粉及び塩化ビニル系等
の結合剤を含むバックコート塗料に加えられたり、また
、バックコート層に塗布されたりしている。これらの滑
剤としては、二硫化モリブデン、グラファイト、高級脂
肪酸、高級脂肪酸エステル、パラフィン系炭化水素、グ
リセライド、脂肪酸金属石ケン、。

脂肪酸アミド、シリコーンオイル（例えばジメチルシリ
コーンオイル、ジフェニルシリコーンオイル等）が使用
されている。滑剤を塗布する方法は効果が直ちに現われ
るものの、滑剤は浸透によってバンクコート層表面にお
ける滑剤の濃度が低下して、長時間後には磁気テープは
初期の性能を保持しなくなる。また滑剤を添加する方法
では、ノ（ツクコート層の表面に成る種度の量の滑剤を
保つために、塗布法におけるよりはるかに多い量の滑剤
を添加せねばならず、これが原因でバックコート層の可
塑化が起こり、したがって巻かれたまま長期間保存する
とやはり眉間で粘着現象が起るという欠点がある。

本発明は、前記欠点を除去するために鋭意研究の結果成
し遂げられたものであって、 （ａ）一般式 ％式％（） （式中、Ｒ１は炭素原子数７〜２１の１価炭化水素基を
表わす） で表わされるチオエステル基及び （ｂ）一般式 ％式％（６） （式中　Ｒ１は前記と同じ意味を有する）で表わされる
エステル基の少なくとも一方の基と、（ｅ）一般式 ％式％ （式中、Ｒ２は−ＣＨ＝　ＣＲ２又は−Ｃ−ＣＨ２の基
を表わす） で表わされるチオエステル基及び （ｄ）一般式 ％式％（） （式中　１２は前記と同じ意味を有する）で表わされる
エステル基の少なくとも一方の基とを分子鎖の末端及び
／又は中間位置のＳｉに直接又は間接に結合してなるオ
ルガノポリシロキサン系化合物が、放射線照射によって
バックコート層に結合されてなる磁気記録媒体に係るも
のである。

本発明において使用できるオルガノポリシロキサン系化
合物は、下記一般式（Ｖ）で表わされる構造式からなっ
ているのが望ましい。

■２ １式中、Ａ１は−Ｒ’Ｓ　ＣＯＲ’又は−８Ｃ’ＯＲ’
シココで　Ｒ１は前記と同じ意味を有し、Ｒ５は−（Ｃ
Ｈ２）ａ−（ＱＣ２Ｈ４）ｂ（ＯＣ５Ｈ６）ｃ（ＯＣ４
Ｈａ）（１（ここで、ｂ＋　ｃ　＋　ｄ　−０〜１００
））のチオエステル基及び−Ｒ１１ＯＣＯＲ’又は−ｏ
ｃｏＲｌ（ここで、Ｒ１とＲ５は前艷と同じ意味を有す
る）のエステル基の少なくとも一方の基を表わし、Ａ２
は−Ｒ’５ＣＯＲ２又は−５ＣＯＲ２（ここで　Ｒ２と
Ｒ５は前記と同じ意味を有する）のチオエステル基及び
−Ｒ３０ＣＯＲ２又は−０ＣＯＲ２（ここで　Ｒ２とＲ
３は前記と同じ意味を有する）のエステル基の少なくと
も一方の基、Ａ３は、メチル基、Ｆ（ＣＦ’２）、　Ｃ
Ｈ２ＣＨ２−（ここで、ｐは１〜１１の整数である）、
前記Ａ１又はＡ２の基を表わし、ｋ、Ａ’、ｍ、ｎはそ
れぞれ０〜２００の整数に＋Ｊ＋ｍ＋ｎ≦３００、そし
てに＋ｍｎ＋７≧０．１であり、にがメチル基又は−Ｃ
Ｈ２ＣＨ２（ＣＦ２）ｐＦの基のときはｍ≧１及びｎ≧
１（好ましくはｎ≧２）　、Ａ５が前記Ａ２と同じであ
るときｍ≧１、そしてＡ３がＡ１と同じであるときはｎ
≧１（好ましくはｎ≧２）である。） なお、前記一般式（Ｖ）は各構成成分が規則的な配列を
有するよう薯と記載されているが、それらの構成成分の
配列は前記一般式（Ｖ）のような配列に限定されるもの
ではな（、ランダムな配列をも包含するものと理解すべ
きである。

前記の基Ａ１における１価炭化水素基Ｒ１としては、ｎ
−ヘプチル、ｎ−ノニル、２エチルヘキシル、トリデシ
ル、ヘプタデシル、ヘンエイコシル、オレイル、リノー
ル等が挙げられ、前記の基Ａ１及びＡ２における２価炭
化水素基Ｒ５としては、メチレン、エチレン、プロピレ
ン、メチレン、２−メチルプロピレン等が挙げられる。

また、前記の基Ａ１、Ａ２及びＡ３のうち、−Ｒ’　Ｓ
　ＣＯＲ”、−Ｒ’５ＣＯＲ２、−Ｒ５０ＣＯＲ’、−
Ｒ’０ＣＯＲ２及び−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）ｐＦで示
される基Φ具体例として次のものが挙げられる。

−Ｒ’５ＣＯＲ’： ＯＨ。

−ＣＨ２ｃＨＣＨ２ＳＣＯＣ１５Ｈ３１、−ＣＨ２ＣＨ
２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＯＣ２Ｈ１９゜−Ｒ’　５Ｃ
ＯＲ２：　　　　　　　　　　　ＣＨ。

ＣＨ２５ＣＯＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＩ（２ＳＣＯＣ＝　Ｃ
Ｈ２、−ＣＨ２ＣＨ２５ＣＯＣ＝　ＣＨ２、ＣＨ２ＣＨ
２ＣＨ２５ＣＯＣＨ＝　ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２
ＣＨ２ＣＨ２５ＣＯＣＨゴＣＨ２゜−Ｒ’　０ＣＯＲ’
　ニ ーＣＨ２０ＣＯＣ１ＳＨ２ハ　−ＣＨ２０ＣＯＣ＋ｙＨ
Ｘ５１−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２０ＣＯＣｐＨ１ｐ、ＣＩ（
２ＣＨ２ＣＨ２０ＣＯＣ１５Ｈ５１、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ
２０ＣＯＣ＋ｙＨ３５、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２０ＣＯＣ
１ｙＨｓｓ、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２０ＣＯＣ２，Ｈ４，
、−（ＣＨ２）ｇ　　　０ＣＨ２ＣＨ２０ＣＯＣ１７Ｈ
５１、（ＣＨｚ）ｇ　　（ＯＣＨ２ＣＨ２）１００ＣＯ
Ｃ７Ｈ１５、−０ＣＯＣ７Ｈ１５、−０ＣＯＣ９Ｈ１９
、−０ＣＯＣ＋＋Ｈ２Ｍ、−〇α）Ｃ１３Ｈ２７、−０
ＣＯＣ１５Ｈ５１、０ＣＯＣ１ｙＨｓｓ、−０ＣＯＣ１
７Ｈ３５、−０ＣＯＣ２１Ｈ４５゜−Ｒ’　０ＣＯＲ２
： （ＣＨ２）　ｓ　ＯＣＨ２ＣＨ２０００ＣＨ＝　ＣＨ２
、ＣＨ。

−ＣＨ２ＣＨ２Ｈ２（ＯＣＨ２ＣＨ２）　１ｏＯｃＯｃ
Ｈ＝　ＣＨ２、ＣＨ３ 一０ＣＯＣ＝　ＣＨ２゜ −ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）ＰＦ　ニ ー　ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ　５、　−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２
）２Ｆ　。

−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｆ　、　　−ＣＨ２ＣＨ２
ＣＣＦ２）８Ｆ　％ＣＨ２０Ｈ２（ＣＦ２）　＋ｊＦ。

本発明のオルガノポリシロキサン系化合物でｋ。

ｄ、ｍ、ｎが前記の範囲を越えると粘度が上昇し滑剤と
しての特性は低下する。

前記一般式（Ｖ）で表わされるオルガノポリシロキサン
系化合物は、所望位Ｋｓｉに直接又は間接ｉと、前記一
般式（Ｉ、ｌのチオエステル基及び前記一般式（ＴＩ）
のエステル基の少なくとも一方の基と、前記ＩｆＲ式（
ｌｉｔ）のチオエステル基及び前記一般式（１ｖ）のエ
ステル基の少なくとも一方の基とを有する。

従・′）で、この化合物は前記一般式（Ｉ）のチオエス
テル基及び前記一般式（Ｉｎ）のエステル基の少なくと
も一方の基を有するので、基本的には滑性効果を示す化
合物でありながら、前記一般式（ＩＩＩ）で表わされる
チオエステル基及び前記一般式（１ｖ）で表わされるエ
ステル基のＲ２中に二重結合が存在するために、放射線
照射によってフリーラジカルが生じ、このフリーラジカ
ルが反応の開始種として作用して、結果的にはオルガノ
ポリシロキサン系化合物は、それ自身が重合したり、バ
ラフコ−）１結合剤分子と反応してグラフト共重合体を
生成して複雑な架橋構造を形成する。このため、前記オ
ルガノポリシロキサン系化合物はバックコート層内部に
浸透することなく、かつ多数回走行後もバックコート層
表面におけるその量は減少することがない。また、放射
線の照射量を調節することによって架橋反応の進行程度
を旨理することが可能であり、充分に架橋させることに
よって、オルガノポリシロキサン系化合物（滑剤）が非
磁性ペース側に移行するのを防止することができる。

本発明で使用するオルガノポリシロキサン系滑剤は、バ
ンクコート層に１ｍ２当り６〜１，０００ｍ２の量で塗
布するのが望ましい。この滑剤の塗布液を調製するため
の溶剤には、バックコートｍを溶解しないものを使用す
べきであり、例としてフレオン（Ｄｕ　Ｐｏｎｔ社のフ
ルオ四炭化水素の商品名）が挙げられる。この滑剤の塗
布は、バックコート層に放射線を照射する前後のいずれ
でもよい。滑剤の塗布後直ぢに放射線を照射するのが好
ましいが、数時間後に照射を行なっても期待される効果
が得られる。バックコート層に放射線を照射してから滑
剤を塗布する場合、バンクコート層の結合剤分子から生
じるフリーラジカルが、滑剤の塗布時に、滑剤化合物の
前記一般式（ＩＩｌ、）で表わされるチオエステル基及
び前記一般式（１ｖ）で表わされるエステル基のＲ２中
の二重結合と反応し得るに充分であればよい。

放射線としては電子線、中性子線等が考えられその照射
量は１〜１０　Ｍｒａｄ　　が好ましい。

本発明で使用するオルガノポリシロキサン系化合物の具
体例として次に示すものが挙げられる。

（以ド余白、次頁につづく。） −Ｇ　　　　　　　　　　　　　の ６ｒｑ Ｑ ８　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　貴ζｆｆ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｇ−前記一般
式（Ｉ）のチオエステル基及び前記一般式（ＩＩ）のエ
ステル基の少なくとも一方の基と、前記一般式（川）の
チオエステル基及び前記一般式（１ｖ〕のエステル基の
少なくとも一方の基とを前記具体例とは別の組み合わせ
で有するオルガノポリシロキサン系化合物も本発明で使
用するオルガノポリシロキサン系化合物として挙げるこ
とができる。

これらの化合物は次の一般的な合成方法によってつくる
ことができる。

（１）前記一般式（Ｉ）　賛ｂ　（Ｉｌｌ）でそれぞれ
示される２種類のチオエステル基を有するオルガノボリ
シ・キサ・系化合物：、／ 〔式中　ＢＳは前記と同じ意味を有し、Ａ４は、メチル
基、−ＣＨｚＣＨ２（ＣＦ２）ｐＦ（ここで、ｐは前記
と同じ）又はＲ’ＳＲ（ここで　Ｒ５は前記と同じ）の
基を表わし、ｋ％ｌ、ｍ、ｎは前記と同じ意味を有し、
前記Ａ４がメチル基又は−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ　２　）
ｐＦ　の基であるときはｍ＋ｎ≧２、好ましくはｍ＋ｎ
≧３である。〕 で示されるメルカ鴬ブト基含有オルガノポリシロ（ここ
で　Ｒ１は前記と同じ意味を有し、Ｘは塩素原子又は臭
素原子を表わす）でそれぞれ示される２種類のカルボン
酸ハロゲン化合！ｌｌｌ！ト、ハｏ　ケア化水素捕獲剤
の存在下で反応させる。この反応は通常、溶剤の存在下
で０°〜１２０℃の温度範囲で行なう。溶剤の例として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケ
トン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジク
ロルエタン、トリクロルエタン、ｔｌクロルエチレン、
ナト２クロルエチレン等が挙げられる。ハロゲン化水素
捕獲剤の例としては、ピリジン、ピコリン、トリエチル
アミン等の６級アミンが誉げられろ。

（２）前記一般式〇Ｉ）及びＯＶ）でそれぞれ表わされ
る２種類のエステル基を有するオルガノポリシロキサン
系化合物： （４）、付加反応による方法 一般式 〔式中　Ａ４は水素原子、メチル基又は−ＣＨ２ＣＨ２
（ＣＦ２）、Ｆ　　の基（ここでｐは前記と同じ意味を
有し、Ａ４がメチル基又は−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２　）
ｐＦ　の基のときはｍ＋ｎ≧２、好ましくはｍ十ｎ≧６
である。〕で示されるオルガノポリシロキサンを、ｃＨ
２＝ＣＨ−Ｒ６０ＣＯＣ”　　（式中、Ｒ６は炭素原子
数１〜乙の２価炭化水素基を表わし　Ｒ１は前記と同じ
意味を有する）及び、Ｃｌｌｌ２＝　ＣＨ−Ｒ’　０Ｃ
ＯＣＨ＝　ＣＨ２又はＣＨ３ ＣＨ２＝　ＣＨ−Ｒ６０ＣＯＣ＝　０Ｈ２（式中、Ｒ６
は前記と同じ意味を有する）の不飽和エステル化合物と
白金触媒の存在下で付加反応させる。

ω）、脱塩反応による方法 一般式 〔式中、Ｘは塩素又は臭素原子、Ｒ７は炭素原子数１〜
５の２価炭化水素基、そしてにはメチル基、−（’、■
ｌ２ＣＨ２（ＣＦ２）ｐＦ　（ここで、ｐは前基と同じ
意味をイｆする）またはＲ’Ｘを表わし、ｋ、１３．ｍ
％ｎは前記と同じ意味を有し　Ａ５がメチル基又はＣＨ
２ＣＨ２（ＣＦ２）ＰＦの基である乏きはｍ十ｎ≧２、
より好ましくはｉｎ　＋　ｎ≧６である〕で示されるオ
ルガノポリシロキサンヲ、Ｒ’　ｃｏｏｙ（式中、Ｙは
ナトリウム又はカリウムを表わし、Ｒ１は前記と同じ意
味を有する）及び、ＣＨ７＝　ＣＨ−ＣＨ３ ■ −ｃｏｏｙ又はｃ■Ｉ＝　ｃｃｏｏｙ　＜式中、Ｙは前
記と同じ意味を有する）でそれぞれ示される２種類のカ
ルボン酸アルカリ金属塩き脱塩反応させる。

（Ｑ、脱ハロゲン化水素反応による方法一般式 〔式中　１３は前記と同じ意味を有し、Ａ６はメチル基
、−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）ｐＦ　　（ここで、ｐは前
記と同じ意味を有する）文は−Ｒ３０Ｈの基を表わし、
ｋ１１％ｍ、１は前記と同じ意味を有し、Ａ６がメチル
基又は−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）ｐＦ　　（ここで、ｐ
は前記と同じ意味を有する）の基であるときはｍ　＋　
ｎ≧２、好ましくはｍ＋ｎ≧６である。〕で示されるオ
ルガノポリシロキサンを、Ｒ１Ｃ０Ｘ（式中　Ｒ＋とＸ
は前記と同じ意味を有する）及び、ｃＨ２＝ｃＨｃｏＸ
ＣＨ。

又はＣＨ２＝　ＣＣ０Ｘ　（式中、Ｘは前記と同じ意味
を有する）でそれぞれ示される２種類のカルボン酸ハロ
ゲン化物と、トリエチルアミン、ピリジンなどのハロゲ
ン化水素捕獲剤の存在下で反応させる。

同様にして、前記一般式（Ｉ）のチオエステル基及び前
記一般式（ＩＩ）のエステル基の少なくとも一方の基き
、前記一般式（ＩＩＩ）のチオエステル基及び前記（１
ｖ）のエステル基の少なくとも一方の基とを、前記の合
成例に示した以外の組み合わせで有するオルガノポリシ
ロキサン系化合物を合成することができる。

本発明におけるオルガノポリシロキサン系化合物が適用
される非磁性層即ちバックコート層を有する磁気記録媒
体は、磁性粉と結合剤を主体とす″る磁性層を有するい
わゆる塗布型媒体、および蒸着、スパッタリング、イオ
ンブレーティング等によって形成される強磁性金属薄膜
を有するいわゆる金属薄膜型磁気記録媒体であってよい
。

非磁性粉末、結合剤、分散剤などからなるバックコート
層に使用可能な非磁性粉末としては、カーボンブランク
、グラファイト、二硫化タングステン、二硫化モリブデ
ン、窒化ホウ素、５１ｏ２、ＣａＣＯ３、Ａｌ２Ｏ３、
ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＣａＯ等を挙げることがで
き、これら２　ｆｆｉ以上を混合して使用しても差支え
ない。また、バンクコート層に使用できる結合剤として
は、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化とニル−アクリロ
ニトリル共重合体、アクリル醒エステルーアクリロニト
リル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共
重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合
体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、熱可塑
性ポリウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリフッ化ビニ
ル、塩化ビニリデン−７クリロニトリル共重合体、ブタ
ジェン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル
−ブタジェン−アクリル酸共重合体、アクリロニトリル
−ブタジェン−メタクリル酸共重合体、ポリビニルブチ
２−ル、ポリビニルアセタール、セルロース誘導体、ス
チレン−ブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂
、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、尿素ホル
ムテルデヒド樹脂等が挙げられる。また、分散剤として
レシチンを使用できる。

バックコート屑塗料の調製に当っては、有機溶剤として
、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン等のケトン類、メタノール、エ
タノール、プ四パノール、ブタノール等のアルコール類
、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、
酢酸グリコール　モノエチルエーテル等のエステル類、
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素、ヘキサン、ヘプタノ等の脂肪族炭化水素、ニト
ロプロパン零を単独で又は混合物として使用することが
できる。この有機溶剤で調製されたバックコート塗料を
塗布する非磁性ベースとしては、ポリエチレンテレフタ
レート等のポリエステル類、ポリプロピｔ／ン等のポリ
オレフィン類、セルローストリアセテート、セルロース
ジアセテート等のセルロース誘導体、ポリカーボネート
、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、アルミニウム、銅等の
金属材料、紙等が挙げられる。

また金属薄膜型磁気記録媒体としては非磁性支持体上に
Ｃｏ、Ｆｅ％Ｎ１　　等の強磁性金屑あるいはこれらの
合金層を真空蒸着等のいわゆるフィジカル・ベーパー・
デポジション技術によって形成したものが悶えられる。

以下、本発明を実施例について更に詳細に説明する。

実施例１ 以下の利料を用いてパンクコート塗料をＣ■製した。

粉末： カーボンブランク（旭カーボン１５）　　　　　　５０
重量部無水ケイ酸（Ｓｉ０２）　　　　　　　　　　　
　　　　３０　　を結合剤： フェノキシ樹脂（ＵＣＣ社製のＰＫＩ（Ｉ■）　　　　
　　５０　　を溶剤： 硬化剤： ディスモジュールＬ（バイエル社１１）　　　　　　　
　１０　　＃これらの各材料をボールミルで２４時間混
合してから、フィルターをつ正して取り出した。・丙ら
れたバックコート塗料を片面に磁性層を形成し゛た１５
μＦｉ＋　　厚のポリエチレンテレフタレートベース十
に、乾燥後の厚みが２．５μｎ１になるように塗布した
後、乾燥した。得られたバックコート層の上に、前記具
体例として左げたオルガノボリシロキザン系化合物のう
ちの前記（４）の化合物の２重量％７レオン溶液を、固
形分２００ＴＩり／？ｌＩ２の塗布量になるように塗布
し、電子線を５　ｒｖｉｒａｄ　　照射した後、１／２
　インチ幅に切断して磁気テープを得、バックコート層
が外側になるようにしてリールに巻き取った。このテー
プについて、粘着性（粘着力と粘着度）とスチルライフ
を次のようにして測定した。

ｆｌ）粘着力 磁気テープを圧力釜に入れ、１２０℃、２気圧で１時間
蒸した後、取り出し、真空乾燥器で２時間乾燥した。次
に、巻き取りリールの芯から１　ｍｍの巻き厚さだけテ
ープを残して他の部分を取り除き、残ったテープについ
てテンションゲージにより粘着力を測定した。

（２）粘着度 前記粘着力試験で残ったテープを強く剥ぎ取ったときの
剥離状態を次の基準に従って評価した。

○：磁性層及び／又はバックコート層の剥離なし。

△：磁性層の一部がバックコート層に粘着。

×：磁性層の大部分がパンクコート層に粘着。

（３）スチルライ７ スチル画像を観察するのに適当な格子パターンを形成し
得るテレビジョン信号を磁気テープに記録し、この記録
個所をソニー社製家庭用ＶＴＲで録画再生し、出力が１
／２！こ低下するまでに要した時間でもってスチルライ
フとした。

比較例として、本実施例で使用した磁気テープであって
、前記具体例（４）のオルガノポリシロキサン系化合物
をバンクコート層に塗布しないテープについて前記と同
様の測定を行なった。これらの結果を第１表に示す。

実施例２及び６ 実施例１で使用したオルガノポリシロキサン系化合物を
用いて、第１表に示す条件の他は、実施例１と同様にし
て磁気テープを得、測定を行なった。結果を第１表に示
す。

実施例４〜６ 前記具体例として挙げたオルガノポリシロキサン系化合
物のうちの前記ａ渇の化合物を用いて、第１表に示す条
件の他は実施例１と同様にして磁気テープを得、測定を
行った。結果を第１表に示す。

（以下余白、次頁につづ（。） 第１表 第１表の結果から明らかなように、本発明の磁気記録媒
体は従来のものに比べて、バックコート層の粘着性が極
めて小さく、すぐれたものである。

代理人　上屋　勝 常包芳男 杉浦俊貴

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （ロ））一般式 ％式％ （式中　Ｒ＋は炭素原子数７〜２１の１価炭化水素基を
   表わす） で表わされるチオエステル基及び （ｂ）一般式 ％式％ （式中、Ｒ１は前記と同じ意味を有する）で表わされる
   エステル基の少なくとも一方の基と、（Ｃ）一般式 ％式％） で表わされるチオエステル基及び （ｄ）一般式 ％式％ （式中、Ｒ２は前記と同じ意味を有する）で表わされる
   エステル基の少なくとも一方の基とを分子鎖の末端及び
   ／又は中間位置のｓｌに直接又は間接柘結合してなるオ
   ルガノポリシロキサン系化合物が、放射線照射によって
   バンクコート層に結合されてなる磁気記録媒体。