JPS59178450A - 写真用支持体の製造方法 - Google Patents
写真用支持体の製造方法Info
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- JPS59178450A JPS59178450A JP58054948A JP5494883A JPS59178450A JP S59178450 A JPS59178450 A JP S59178450A JP 58054948 A JP58054948 A JP 58054948A JP 5494883 A JP5494883 A JP 5494883A JP S59178450 A JPS59178450 A JP S59178450A
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- JP
- Japan
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- irradiation
- coating layer
- electron beam
- coating
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- Pending
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/10—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation for articles of indefinite length
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
- B29C59/04—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts
- B29C59/046—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts for layered or coated substantially flat surfaces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/775—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of paper
- G03C1/79—Macromolecular coatings or impregnations therefor, e.g. varnishes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
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- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0866—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation
- B29C2035/0877—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation using electron radiation, e.g. beta-rays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C2791/00—Shaping characteristics in general
- B29C2791/001—Shaping in several steps
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は特に電子線照射を用いた写真用支持体の製造方
法に関する。
法に関する。
先行技術とその問題点
従来、写真印画紙用支持体として用いられているポリオ
レフィン樹脂被覆層を有する支持体は、紙基材表面に約
３００℃の溶融状態でグイから被覆層を形成している。
レフィン樹脂被覆層を有する支持体は、紙基材表面に約
３００℃の溶融状態でグイから被覆層を形成している。
このため、紙基材の表面が変形し°、表面性が悪くな
り、鏡面ができにくいという欠点がある。
り、鏡面ができにくいという欠点がある。
また、ポリオレフ謙ン樹脂を薄い層として被覆するとき
には、より高温で被覆する必要があり、ポリオレフイン
カζ熱分解しやすく、黄変したり、ピンホールを生じた
りする。
には、より高温で被覆する必要があり、ポリオレフイン
カζ熱分解しやすく、黄変したり、ピンホールを生じた
りする。
さらに、被覆層には白色顔料が含有されることが好まし
いが、溶融したポリオレフィン樹脂。
いが、溶融したポリオレフィン樹脂。
に白色顔料を分散する際には、分散性が低く、顔ネ４の
含右械を大きくすることができず、写真画像の鮮鋭度が
不十分となる。
含右械を大きくすることができず、写真画像の鮮鋭度が
不十分となる。
このような欠点を解消するため、電子線照射によって硬
化可能な被覆層を紙基材−Ｆに塗布して、これに電子線
を照射して硬化させる方法が提案されている（＃開閉５
７−２７２５７号、［）７１５７−３０８３０号、 同
５７−４９９４６号・ ） 。
化可能な被覆層を紙基材−Ｆに塗布して、これに電子線
を照射して硬化させる方法が提案されている（＃開閉５
７−２７２５７号、［）７１５７−３０８３０号、 同
５７−４９９４６号・ ） 。
このような方法によれば、常温で塗布および硬化を行う
ので、紙基材表面があれたり、ピンホールが生じたりす
ることがなく、また常温で白色顔料を分散させるので、
分散性がよく、顔ネ；ｌ含有量を大きくすることができ
、酊鋭性も向」ニする。
ので、紙基材表面があれたり、ピンホールが生じたりす
ることがなく、また常温で白色顔料を分散させるので、
分散性がよく、顔ネ；ｌ含有量を大きくすることができ
、酊鋭性も向」ニする。
しかし、このような電子線照射のみでは、被覆層の平滑
性は悪く、また被覆層表面に所望の型付けを行うことが
できない。
性は悪く、また被覆層表面に所望の型付けを行うことが
できない。
そこで、上記特開昭５７−３０８３０号では、被覆層を
弱い圧力の下で高光沢ロールに押圧し、ロールの成形面
との接触中に紙支持体の成形面から剥離する方法が開示
されている。
弱い圧力の下で高光沢ロールに押圧し、ロールの成形面
との接触中に紙支持体の成形面から剥離する方法が開示
されている。
しかし、この方法では、成形部材との接触中に電子線を
照射するため、剥離に際し成形部材表面に被覆物が残っ
てしまい、品質が低下し、しかも生産性が悪い。
照射するため、剥離に際し成形部材表面に被覆物が残っ
てしまい、品質が低下し、しかも生産性が悪い。
特に凹凸型付けを行うときには、成形面への被覆物の付
着はきわめて多く、実用化することはむずかしい。
着はきわめて多く、実用化することはむずかしい。
また、電子線照射によって硬化可能な材料は、通常、嫌
酸素性であり、電子線照射は不活性ガス中等で行われる
ものである。 従って、この方法によれば、照射ゾーン
中にロールを組みこまなくてはならず、装置が大型化し
、ゾーン中の酪素の除去効率が悪くなり、また、不活性
ガス量が多くなり、経済性が悪くなり、また硬化が十分
行われないことがある。
酸素性であり、電子線照射は不活性ガス中等で行われる
ものである。 従って、この方法によれば、照射ゾーン
中にロールを組みこまなくてはならず、装置が大型化し
、ゾーン中の酪素の除去効率が悪くなり、また、不活性
ガス量が多くなり、経済性が悪くなり、また硬化が十分
行われないことがある。
なお、印刷分野においても、成形部材接触中に電子線を
照射して、被覆層表面を鏡面仕上げないし凹凸化する方
法が知られている（特開昭５６−１６４８１６号、同５
７−２１９６０号、同５７−２２２０４号、同５７−５
９６６７号）が、これらも上記と全く同一の欠点をもＩ
Ｉ 発明の目的 本発明はこのような実状に鑑みなされたものであって、
その主たる目的は、黄変、ピンホール等がなく、きわめ
てすぐれた成形面精度を有し、高品質の平滑ないし型付
は面をもつ被覆層を南する写真用支持体かえられ、しか
も安定した成形面かえられ、かつ成形部材への被覆物の
イ・１着がなく、装置が大型化することがなく、生産性
のきわめてよい写真用支持体の製造方法を提供すること
にある。
照射して、被覆層表面を鏡面仕上げないし凹凸化する方
法が知られている（特開昭５６−１６４８１６号、同５
７−２１９６０号、同５７−２２２０４号、同５７−５
９６６７号）が、これらも上記と全く同一の欠点をもＩ
Ｉ 発明の目的 本発明はこのような実状に鑑みなされたものであって、
その主たる目的は、黄変、ピンホール等がなく、きわめ
てすぐれた成形面精度を有し、高品質の平滑ないし型付
は面をもつ被覆層を南する写真用支持体かえられ、しか
も安定した成形面かえられ、かつ成形部材への被覆物の
イ・１着がなく、装置が大型化することがなく、生産性
のきわめてよい写真用支持体の製造方法を提供すること
にある。
このような目的は、以下の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、
基材の両面に設層した電子線照射によって硬化可能な２
つの被覆層に、電子線の１次照射を行い、次いで、被覆
層の表面を成形部材にそれぞれ接触させて剥離し、次い
で、被覆層に電子線の２次照射を行う工程からなり、成
形部材から各被覆層を剥離したとき各被覆層の表面がそ
れぞれ成形部材の表面形状と実質的に対応する形状を保
持しうるように、１次照射を行うことを特徴とする写真
用支持体の製造方法である。
つの被覆層に、電子線の１次照射を行い、次いで、被覆
層の表面を成形部材にそれぞれ接触させて剥離し、次い
で、被覆層に電子線の２次照射を行う工程からなり、成
形部材から各被覆層を剥離したとき各被覆層の表面がそ
れぞれ成形部材の表面形状と実質的に対応する形状を保
持しうるように、１次照射を行うことを特徴とする写真
用支持体の製造方法である。
なお、本発明者らは、この出願の先願として、本発明の
方法を基材の一方の面に形成した被覆層に適用した場合
に関する提案を行っているが、本発明は、基材の両面に
形成した被覆層に１次照射−成形−２次照射を行い、基
材両面に同時ないし連続的に型付は被覆層を形成する方
法に関するものである。
方法を基材の一方の面に形成した被覆層に適用した場合
に関する提案を行っているが、本発明は、基材の両面に
形成した被覆層に１次照射−成形−２次照射を行い、基
材両面に同時ないし連続的に型付は被覆層を形成する方
法に関するものである。
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明における電子線の１次照射は、１次照射後の被覆
表面が型付けされ、成形部材から剥離した後、その型付
けが実質的に保持されるよう行う。
表面が型付けされ、成形部材から剥離した後、その型付
けが実質的に保持されるよう行う。
１次照射量は、照射強度を変えたり、照射距離を変えた
り、他の遮弊物を介して照射したり、酩素量をコントロ
ールしたりして、適宜調節できる。
り、他の遮弊物を介して照射したり、酩素量をコントロ
ールしたりして、適宜調節できる。
照射量については、これらの方法のいかんや硬化物の種
類、厚さ、顔料の種類および含イＪ量雰によって異なる
ので、照射量を一義的に示すことはできナイが、通常、
０ 、 ＯＩＭｒａｄ 〜１０Ｍ ｒａｄが適当である
。
類、厚さ、顔料の種類および含イＪ量雰によって異なる
ので、照射量を一義的に示すことはできナイが、通常、
０ 、 ＯＩＭｒａｄ 〜１０Ｍ ｒａｄが適当である
。
このような１次照射は、不活性ガス雰囲気中または真空
中で行うのが好ましい。 不活性ガスとしては、窒素ガ
ス、炭酸ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用す
ることができる。
中で行うのが好ましい。 不活性ガスとしては、窒素ガ
ス、炭酸ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用す
ることができる。
電子線の２次照射量は、型伺けされた被覆層を不活性ガ
ス雰囲気中または真空中で硬化を完結させるまで照射す
る。
ス雰囲気中または真空中で硬化を完結させるまで照射す
る。
この照射によって、１次照射後、被覆層に残存していた
未反応のラジカルの反応を完結させ、ることができる。
未反応のラジカルの反応を完結させ、ることができる。
なお、必要により２次照射後、さらに３次、４次と随時
、電子線を照射したり、熱風または遠赤外線で加熱する
こともできる。
、電子線を照射したり、熱風または遠赤外線で加熱する
こともできる。
なお、２次照射量は・、通常、０ 、５ Ｍｒａｄ〜
１５ Ｍｒａｄ程度である。
１５ Ｍｒａｄ程度である。
また、１次照射および２次照射は、基材の被覆層形成面
側から行っても、その背面側から行ってもよい。
側から行っても、その背面側から行ってもよい。
本発明における成形部材とは、表面成形加圧した材料で
あり、被覆層の平滑性を高める手段として表面を鏡面仕
上げしたロールや、所望の型付けを被覆層に形成させる
手段として表面に微細な凹凸を形成したロールなどがあ
る。
あり、被覆層の平滑性を高める手段として表面を鏡面仕
上げしたロールや、所望の型付けを被覆層に形成させる
手段として表面に微細な凹凸を形成したロールなどがあ
る。
型付けの種類は、綱目、粗面、微粒面等があり、必要に
応じて種々の型付けを施すことができる。
応じて種々の型付けを施すことができる。
そして、このようなロールは、公知の方法で作製される
。
。
また、ロールではなく、エンドレスベルト等を用いても
よい。
よい。
なお、成形部材と被覆層との接触の際の圧力には、制限
はない。
はない。
本発明に用いられる電子線照射によって硬化＋＋）能な
被覆層は、不飽和二重結合を有する化合物またはこれを
含む組成物であればよく、このような化合物は、好まし
くは３不飽和二重結合を２個以」二重するプレポリマー
および／またはオリゴマーであり、さらに、これらに不
飽和二重結合を有する単量体（ビニルモノマー）を粘度
調整等の目的で含有させることができる。
被覆層は、不飽和二重結合を有する化合物またはこれを
含む組成物であればよく、このような化合物は、好まし
くは３不飽和二重結合を２個以」二重するプレポリマー
および／またはオリゴマーであり、さらに、これらに不
飽和二重結合を有する単量体（ビニルモノマー）を粘度
調整等の目的で含有させることができる。
また、組成物の好ましい実施態様としては、無機白色顔
料を含有する態様を挙げることができる。
料を含有する態様を挙げることができる。
不飽和二重結合を２個以上有するプレポリマーまたはオ
リ−マーとしては、特開昭５７−３０８３０号に記載さ
れているもの、あるいは関連技術分野において開示され
ている公知のプレポリマーやオリゴマーのいずれでもよ
い。
リ−マーとしては、特開昭５７−３０８３０号に記載さ
れているもの、あるいは関連技術分野において開示され
ている公知のプレポリマーやオリゴマーのいずれでもよ
い。
り
あるいはビニルエーテル基（−ＣＨ２＝ ＣＨ−０−）
を有する樹脂も好適に使用できる。
を有する樹脂も好適に使用できる。
このようなプレポリマー、オリゴマーについての具体例
としては下記のようなものがある。
としては下記のようなものがある。
１） 不飽和ポリエステル
特公昭４８−２３６５４号、特公昭４９−２３２９３号
、特公昭４９−４７１０３号、特公昭４９−４４５７２
号、特開昭５４−７４７３号に開示されている化合物 ２） 変性不飽和ポリエステル ウレタン変性不飽和ポリエステル 特に、特公昭４８−１４６６７号に開 示されている化合物 アクリルウレタン変性不飽和ポリエステル１、＋ｊに、
特公昭４８−１ ’４７９０号に開示されている化合物 末端にアクリル基を有する液状の不飽和ポリエステル 特に米国特許３４５５８０２号、米国 ４￥訂３４８５７３２号に開示されている化合物 ３） アクリル系ポリマー ポリエステルアクリレート Ａ、Ｃ，Ｊ、Ｖａｎ ０ｏｓｔｅｒｈｏｕｔ ａｎｄ
Ａ、ｖａｎ Ｎｅ−ｅｒｂａｓ、’Ｄｏｕｂｌｅ Ｌｉ
ａｉｓｏｎ−Ｃｈｉｍ Ｐｅ１ｎｔ、 ２７（２９５）
、 ＋３５ （１９８０） ニ記載されているポリエス
テルアクリレートオリゴマー エボ午ジアクリレート 特公昭４７−１３０２３号、特開昭５ ７−１６２７１３号に開示されている化合物 すなわち、多官能エポキシ化合物にア クリル酸、その他α、β不飽和カルボン耐を伺加させて
得られるエポキシアクリレート シリコーンアクリレート 特公昭４８−２２１７２号、特開昭４ ８−３９５９４号に開示されているヒトコーンと、ヒド
ロキシエチルメタクリ レートの縮合物。
、特公昭４９−４７１０３号、特公昭４９−４４５７２
号、特開昭５４−７４７３号に開示されている化合物 ２） 変性不飽和ポリエステル ウレタン変性不飽和ポリエステル 特に、特公昭４８−１４６６７号に開 示されている化合物 アクリルウレタン変性不飽和ポリエステル１、＋ｊに、
特公昭４８−１ ’４７９０号に開示されている化合物 末端にアクリル基を有する液状の不飽和ポリエステル 特に米国特許３４５５８０２号、米国 ４￥訂３４８５７３２号に開示されている化合物 ３） アクリル系ポリマー ポリエステルアクリレート Ａ、Ｃ，Ｊ、Ｖａｎ ０ｏｓｔｅｒｈｏｕｔ ａｎｄ
Ａ、ｖａｎ Ｎｅ−ｅｒｂａｓ、’Ｄｏｕｂｌｅ Ｌｉ
ａｉｓｏｎ−Ｃｈｉｍ Ｐｅ１ｎｔ、 ２７（２９５）
、 ＋３５ （１９８０） ニ記載されているポリエス
テルアクリレートオリゴマー エボ午ジアクリレート 特公昭４７−１３０２３号、特開昭５ ７−１６２７１３号に開示されている化合物 すなわち、多官能エポキシ化合物にア クリル酸、その他α、β不飽和カルボン耐を伺加させて
得られるエポキシアクリレート シリコーンアクリレート 特公昭４８−２２１７２号、特開昭４ ８−３９５９４号に開示されているヒトコーンと、ヒド
ロキシエチルメタクリ レートの縮合物。
ウレタンアクリレート
米国特許３８６４１３３号、同３８９
１５２３号、同３９１２５１６号、特公昭４８−２２１
７２号、特開昭４８−３９５９４号、特開昭４９−２６
３３７ 号、特公昭４９−３５３４６号、特開昭４９−９６０４
３号、特公昭５２−３１２３９号、特開昭５４−８０３
９４号、特開昭５４−１２９０３４号、特開昭５４−１
２７９９４号に開示されているウレタンアクリレート。
７２号、特開昭４８−３９５９４号、特開昭４９−２６
３３７ 号、特公昭４９−３５３４６号、特開昭４９−９６０４
３号、特公昭５２−３１２３９号、特開昭５４−８０３
９４号、特開昭５４−１２９０３４号、特開昭５４−１
２７９９４号に開示されているウレタンアクリレート。
具体的には、
多官能インシアネート化合物にヒドロ
キシエチルメタアクリレートを付加反応させて得られた
ウレタンアクリレート ポリオキシアルキレンビスフェノール Ａ誘導体と、ポリイソシアナートおよびヒドロキシル基
含有アクリレートとの反応によって得られたウレタンア
クリレート ヒドロキシル官能基を有するアミド含 イ１化合物とポリイソシアナートとヒドロキシ含有アク
リレート化合物を反応させたアミドウレタンアクリレー
ト 等が挙げられる。
ウレタンアクリレート ポリオキシアルキレンビスフェノール Ａ誘導体と、ポリイソシアナートおよびヒドロキシル基
含有アクリレートとの反応によって得られたウレタンア
クリレート ヒドロキシル官能基を有するアミド含 イ１化合物とポリイソシアナートとヒドロキシ含有アク
リレート化合物を反応させたアミドウレタンアクリレー
ト 等が挙げられる。
４） ブタジェン系ポリマー
４！ｊ ｌ！日唱５０−１２３１８７号に開示されてい
るウレタン化１，２−ポリブタジェンや、特開昭５４−
１４８０９４号に開示されているエポキシ化ポリブタジ
ェンにモノエステル化合物を付加させ、さらに脂肪族低
級カルボン酩を付加させた変性ポリブタジェン等が挙げ
られる。
るウレタン化１，２−ポリブタジェンや、特開昭５４−
１４８０９４号に開示されているエポキシ化ポリブタジ
ェンにモノエステル化合物を付加させ、さらに脂肪族低
級カルボン酩を付加させた変性ポリブタジェン等が挙げ
られる。
以上の化合物は、単独または２種以」−混合して用いて
もかまわない。
もかまわない。
また、その数平均分子量として５００〜２００００程度
、好ましくは１０００−１００００程度である。
、好ましくは１０００−１００００程度である。
好ましいＩＥ様として、これらプレポリマー、オリ、ゴ
マ−とブレンドされる無機白色顔料の濃度としては、こ
れらポリマーと顔料の混合重量比で１０７１〜１／１、
好ましくは、５／１〜０．７７１程度が好ましい。
マ−とブレンドされる無機白色顔料の濃度としては、こ
れらポリマーと顔料の混合重量比で１０７１〜１／１、
好ましくは、５／１〜０．７７１程度が好ましい。
また、不飽和結合を有する単量体は、これらポリマーに
対し、重量比でｌ／１０〜１０／１程度が好ましい。
対し、重量比でｌ／１０〜１０／１程度が好ましい。
不飽和結合を有する単量体 （ビニルモノマー）は、組
成物の粘度を低下させ、塗布作業性を向上させる目的で
配合され、このモノマーが硬化速度を向上させるもので
ある。
成物の粘度を低下させ、塗布作業性を向上させる目的で
配合され、このモノマーが硬化速度を向上させるもので
ある。
これら千ツマ−は、単独で用いてもよく、またこれらの
七ツマ−を必要に応じ、２種以上混合して用いてもよい
。
七ツマ−を必要に応じ、２種以上混合して用いてもよい
。
これらモノマーの代表的なものとしては、以下のような
ものがある。
ものがある。
ａ） 単官能上ツマ−
メチルアクリレート、エチルアクリレー１・、ブチルア
クリレート、２−エチルへキシルメタアクリレート、２
−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレ−１、クリシジルメタクリレ−１・、ｎ−
へキシルアクリレート、ラウリルアクリレートなと ｂ） ２官能モノマー １．６−ヘキサンジオールジアクリレート、１．６−ヘ
キサンジオールジアクリレート ブタンジオールジアクリレート、エチレングリコールジ
アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート
、ペンタエリスリトールジアクリレート、ジビニルベン
ゼンなどｃ） ３官能以上のモノマー トリメチロールプロパントリアクリレートレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリ
トールへキサアクリレ−１・、エチレンジアミンのアク
リル酸エステルなと また、無機顔料としては、特開昭５７−２７２５７号、
５７−３０８３０号に記載されているもの、すなわち、
Ｔｉ０２（アナターゼ、ルチル型）、Ｚｎ０２ 、Ｓ
ｉ０２ 、ＢａＳＯ４、ＣａＳＯ４ 、ＣａＣＯ３ 、
タルク、フレート等が好ましい。
クリレート、２−エチルへキシルメタアクリレート、２
−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレ−１、クリシジルメタクリレ−１・、ｎ−
へキシルアクリレート、ラウリルアクリレートなと ｂ） ２官能モノマー １．６−ヘキサンジオールジアクリレート、１．６−ヘ
キサンジオールジアクリレート ブタンジオールジアクリレート、エチレングリコールジ
アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート
、ペンタエリスリトールジアクリレート、ジビニルベン
ゼンなどｃ） ３官能以上のモノマー トリメチロールプロパントリアクリレートレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリ
トールへキサアクリレ−１・、エチレンジアミンのアク
リル酸エステルなと また、無機顔料としては、特開昭５７−２７２５７号、
５７−３０８３０号に記載されているもの、すなわち、
Ｔｉ０２（アナターゼ、ルチル型）、Ｚｎ０２ 、Ｓ
ｉ０２ 、ＢａＳＯ４、ＣａＳＯ４ 、ＣａＣＯ３ 、
タルク、フレート等が好ましい。
その他硬化しないバインダーも必要に応じ配合できる。
例えば、特開昭５７−３０８３０号に記載されているも
の、すなわち、 セルロースエステル、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸
ビニルならびに酢酸ビニル共重合体、スチロール−アク
リル酸共重合体、飽和ないし不飽和のスチロール不合ポ
リエステル樹脂などである。
の、すなわち、 セルロースエステル、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸
ビニルならびに酢酸ビニル共重合体、スチロール−アク
リル酸共重合体、飽和ないし不飽和のスチロール不合ポ
リエステル樹脂などである。
本発明で使用する基材は、通常、紙であり、天然パルプ
、合成バルブ、あるいはこれらの混合物よりなるものが
使用できる。
、合成バルブ、あるいはこれらの混合物よりなるものが
使用できる。
例えば、公知の方法によって作製された写真川原紙、上
質紙等、平面性のよい紙であればいずれでもかまわない
。
質紙等、平面性のよい紙であればいずれでもかまわない
。
そして、その厚さは８０〜２５０ルｍ程度、材量は８０
〜２ ０ ０ ｇ ／ ｍ’程度が好ましい。
〜２ ０ ０ ｇ ／ ｍ’程度が好ましい。
これらの紙には、必要により紙力増強剤、サイズ剤、着
色剤、蛍光増白剤等を添加して使用できる。
色剤、蛍光増白剤等を添加して使用できる。
その他、ポリエステル、ポリスチレン等のフィルムが上
記紙にかわり使用でき、このときには、顔料を含んでも
含まなくてもよい。
記紙にかわり使用でき、このときには、顔料を含んでも
含まなくてもよい。
本発明の被覆層を硬化させる電子線加速器としては、バ
ンプグラフ型のスキャニング方式、ダブルスキャニング
方式、カーテンビーム力式が使用できる。 この場合特
に好ましいのは、比較的安価で大出力が得られるカーテ
ンビーム力式である。
ンプグラフ型のスキャニング方式、ダブルスキャニング
方式、カーテンビーム力式が使用できる。 この場合特
に好ましいのは、比較的安価で大出力が得られるカーテ
ンビーム力式である。
電イ線特性としては、加速電圧が１００〜１０００ＫＶ
、好ましくは１５０〜３００ＫＶのものが好適である。
、好ましくは１５０〜３００ＫＶのものが好適である。
これは、１００ＫＶより小では透過量が不足であり、ｌ
０ ０ ０ＫＶより大では経済的でないからである。
０ ０ ０ＫＶより大では経済的でないからである。
本発明の被覆層を基体に被覆する方法としては、ブレー
ドコート、エアナイフコート、グラビアニート、リバー
スロールコート、スプレーコート、カーテンコート、ト
ランスファーロールコーＩ−等、いずれも使用可能であ
る。
ドコート、エアナイフコート、グラビアニート、リバー
スロールコート、スプレーコート、カーテンコート、ト
ランスファーロールコーＩ−等、いずれも使用可能であ
る。
そして、その被覆量としては３〜８０，ｍ、好ましくは
５〜５０ＩＬｍが好ましい。
５〜５０ＩＬｍが好ましい。
これは、３μｍより小では基材に浸透してしまい、平滑
性が悪くなり、かつ連続膜形成がむずかしく、また、８
０，ｍより大では、塗布ムラが多く、硬化に多大なエネ
ルギーが必要となり、経済的に不利であり、かつ、硬化
が不十分となるからである。
性が悪くなり、かつ連続膜形成がむずかしく、また、８
０，ｍより大では、塗布ムラが多く、硬化に多大なエネ
ルギーが必要となり、経済的に不利であり、かつ、硬化
が不十分となるからである。
なお、被覆層を組成物とするときの分散方法としては、
種々の混線機を使用すればよい。
種々の混線機を使用すればよい。
例えば、二本ロールロールミル、三本ロールミル、ボー
ルミル、ペブルミル、ニーグー、サンドクラインダー、
高速インペラー分散機、高°速ス）・−ンミル、高速度
衝撃ミル、ホモジナイザー“ｉである。
ルミル、ペブルミル、ニーグー、サンドクラインダー、
高速インペラー分散機、高°速ス）・−ンミル、高速度
衝撃ミル、ホモジナイザー“ｉである。
未発１す１においては、１次照射、成形部材との接触−
剥離、２次照射からなる工程を、逐次、各基材それぞれ
に対し段階的に行ってもよいが、通常は、生産性の点か
ら、被覆層を有する長尺基材を搬送しながら、連続的に
これらの工程を行うことが好ましい。 このような場合
の例が、第１図〜第３図に示される。
剥離、２次照射からなる工程を、逐次、各基材それぞれ
に対し段階的に行ってもよいが、通常は、生産性の点か
ら、被覆層を有する長尺基材を搬送しながら、連続的に
これらの工程を行うことが好ましい。 このような場合
の例が、第１図〜第３図に示される。
第１図に略示した実施態様は、被覆層 ２．２′を基材
ｌの両面に被覆したものに対し、電子線加速器５により
１次照射し、この後、成形部材３で被覆層２に片面型伺
けし、次いで成形部材４で反対面の被覆層２′に型判け
をし、その後１し子線加速器６で２次照射して、硬化を
完結する例である。
ｌの両面に被覆したものに対し、電子線加速器５により
１次照射し、この後、成形部材３で被覆層２に片面型伺
けし、次いで成形部材４で反対面の被覆層２′に型判け
をし、その後１し子線加速器６で２次照射して、硬化を
完結する例である。
第２図に略示した実施態様は、被覆層 ２゜２′を基材
ｌの両面に被覆して、電子線加速器５により１次照射し
、］＆形部材３．４で被覆層２．２′両面を同時に型付
けし、その後電子線ある。
ｌの両面に被覆して、電子線加速器５により１次照射し
、］＆形部材３．４で被覆層２．２′両面を同時に型付
けし、その後電子線ある。
第３図に略示した実施態様は、組成物 ２．２′を基材
１の両面に被覆し、第２図の２次照射用電子線加速器５
により透過した電子線により１次照射を行い、その後成
形部材３．４で被覆層両面を同時に型付けし、次いで電
子線加速器５で２次照射して、硬化を完結する例である
。
１の両面に被覆し、第２図の２次照射用電子線加速器５
により透過した電子線により１次照射を行い、その後成
形部材３．４で被覆層両面を同時に型付けし、次いで電
子線加速器５で２次照射して、硬化を完結する例である
。
■ 発明の具体的効果
未発り］によれば、型判は後の被覆層の型付けおよび平
滑化精度はきわめて高く、しかも安定している。
滑化精度はきわめて高く、しかも安定している。
また、黄変、ピンホール等はほとんどない。
さらに、成形部材への被覆物の４＝Ｊ着はない。
加えて、電子線照射ゾーンには成形部材を配置する必要
がないので、装置が大型化することがない。
がないので、装置が大型化することがない。
しかも、本発明では、基材両面に形成した被覆層に同時
ないし連続的に型付けおよび平滑化かできるので、連続
作業が単一化し、生産」二きわめて有利である。
ないし連続的に型付けおよび平滑化かできるので、連続
作業が単一化し、生産」二きわめて有利である。
なお、このような両面型イ１けは、従来の方法ではきわ
めて困難である。
めて困難である。
従って、印画紙用の支持体としてきわめて有用な支持体
の、有利な製造方法が実現する。
の、有利な製造方法が実現する。
■ 発明の具体的実施例
以ド、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
実施例
不飽和ポリエステル ３５重量％（特開昭５４
−７４７３号 合成例１記載のもの） エチレングリコール ジアクリレート １０重量％トリメチロー
ルプロバン ト リ ア り リ し − １・
２ ０ 重 量 ％二
酸化チタン ３５重量％（アナターゼ型
） 上記組成物をボールミルにて２４時間分散した後、公知
の方法により作製された秤邦約１６０ ｇ ／ ｍ’の
写真用原紙の両面に、被覆厚が約３０ルｍとなるよう被
覆し、この被覆層を第１図に示される例に従い、窒素ガ
ス雰囲気下加速電圧で０ 、５ Ｍｒａｄの吸収線量と
なるよう、両層同時に゛電子線を１次照射した。
−７４７３号 合成例１記載のもの） エチレングリコール ジアクリレート １０重量％トリメチロー
ルプロバン ト リ ア り リ し − １・
２ ０ 重 量 ％二
酸化チタン ３５重量％（アナターゼ型
） 上記組成物をボールミルにて２４時間分散した後、公知
の方法により作製された秤邦約１６０ ｇ ／ ｍ’の
写真用原紙の両面に、被覆厚が約３０ルｍとなるよう被
覆し、この被覆層を第１図に示される例に従い、窒素ガ
ス雰囲気下加速電圧で０ 、５ Ｍｒａｄの吸収線量と
なるよう、両層同時に゛電子線を１次照射した。
次いで、一方の被覆層の表面に、絹目型付け（深さ約２
０ ｇ ｍ’）を施したロールと接触させて型付けした
後、型付はロールから剥離し、引き続き反対面を表面を
鏡面に仕−ヒげたロールに接触させて平滑化させた後剥
離し、その後ただちに、窒素ガス雰囲気下、吸収線量が
３ Ｍｒａｄとなるよう両層同時に２次の電子線照射を
行い、硬化を完結させて巻き取った。
０ ｇ ｍ’）を施したロールと接触させて型付けした
後、型付はロールから剥離し、引き続き反対面を表面を
鏡面に仕−ヒげたロールに接触させて平滑化させた後剥
離し、その後ただちに、窒素ガス雰囲気下、吸収線量が
３ Ｍｒａｄとなるよう両層同時に２次の電子線照射を
行い、硬化を完結させて巻き取った。
この試料をサンプル陽、ｌとする。
上記実施例において１次の照射を行わない他は、全く同
じ操作を行い巻き取った。
じ操作を行い巻き取った。
この試料をサンプル間、２とする・
また、］二記実施例において２次の照射を行わない他は
、全く同じ操作を行い巻き取った。
、全く同じ操作を行い巻き取った。
この試料をサンプル間、３とする。
これらのサンプルの表面形状を観察した結果を表１に示
す。
す。
表 １
サンプル 表 面 形 状
陽 。
１ −−一方の面は、高光沢で絹［１型付けが（本
発明） シャープに再現、 他方の面は、高光沢で平滑性良好 ２ 光沢ムラ、剥離ムラ多い ３ 表面ベトッキ 以上の結果から、１次および２次照射を行ったもののみ
が、品質的にきわめてすぐれた両面型付けが行われてい
ることがわかる。
発明） シャープに再現、 他方の面は、高光沢で平滑性良好 ２ 光沢ムラ、剥離ムラ多い ３ 表面ベトッキ 以上の結果から、１次および２次照射を行ったもののみ
が、品質的にきわめてすぐれた両面型付けが行われてい
ることがわかる。
第１図〜第３図は、それぞれ、本発明の実施態様を説明
するための図である。 １ ・・・・・・ 基材。 ２．２′・・・・・・ 被覆層。 ３．４ ・・・・・・ 成形部材。 ５．６ ・・・・・・ 電子線加速器 出願人 小西六写真工業株式会社 代理人 弁理士 石 井 陽 −
するための図である。 １ ・・・・・・ 基材。 ２．２′・・・・・・ 被覆層。 ３．４ ・・・・・・ 成形部材。 ５．６ ・・・・・・ 電子線加速器 出願人 小西六写真工業株式会社 代理人 弁理士 石 井 陽 −
Claims (1)
- ｌ： 基材の両面に設層した電子線照射によって硬化可
能な２つの被覆層に、電子線の１次照射を行い、次いで
、各被覆層の表面を成形部材にそれぞれ接触させて剥離
し、次いで、両被覆層に電子線の２次照射を行う工程が
らなり、成形部材から各被覆層を剥離したとき各被覆層
の表面がそれぞれ成形部材の表面形状と実質的に対応す
る形状を保持しうるように、１次照射を行うことを特徴
とする写真用支持体の製造力ｕ、。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58054948A JPS59178450A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 写真用支持体の製造方法 |
| US06/589,876 US4554175A (en) | 1983-03-28 | 1984-03-15 | Method of producing support for photographic paper |
| DE3410797A DE3410797C2 (de) | 1983-03-28 | 1984-03-23 | Verfahren zur Herstellung eines Trägers für photographisches Papier |
| GB08407878A GB2137118B (en) | 1983-03-28 | 1984-03-27 | Method of producing support for photographic paper |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58054948A JPS59178450A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 写真用支持体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59178450A true JPS59178450A (ja) | 1984-10-09 |
Family
ID=12984876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58054948A Pending JPS59178450A (ja) | 1983-03-28 | 1983-03-29 | 写真用支持体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59178450A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61270750A (ja) * | 1985-05-25 | 1986-12-01 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS61270749A (ja) * | 1985-05-25 | 1986-12-01 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH01280092A (ja) * | 1988-05-02 | 1989-11-10 | Toppan Printing Co Ltd | 高光沢紙の製造方法 |
| WO1993007533A1 (en) * | 1991-10-03 | 1993-04-15 | Oji Paper Co., Ltd. | Support for photographic printing paper and method of making said support |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5665664A (en) * | 1979-10-31 | 1981-06-03 | Matsushita Electric Works Ltd | Preparation of building panel |
| JPS5730830A (en) * | 1980-06-18 | 1982-02-19 | Schoeller Felix Jun | Waterproof photographic paper support and method of producing same |
-
1983
- 1983-03-29 JP JP58054948A patent/JPS59178450A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5665664A (en) * | 1979-10-31 | 1981-06-03 | Matsushita Electric Works Ltd | Preparation of building panel |
| JPS5730830A (en) * | 1980-06-18 | 1982-02-19 | Schoeller Felix Jun | Waterproof photographic paper support and method of producing same |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61270750A (ja) * | 1985-05-25 | 1986-12-01 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS61270749A (ja) * | 1985-05-25 | 1986-12-01 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH01280092A (ja) * | 1988-05-02 | 1989-11-10 | Toppan Printing Co Ltd | 高光沢紙の製造方法 |
| WO1993007533A1 (en) * | 1991-10-03 | 1993-04-15 | Oji Paper Co., Ltd. | Support for photographic printing paper and method of making said support |
| US5470652A (en) * | 1991-10-03 | 1995-11-28 | Oji Paper Co., Ltd | Support sheet for photographic printing paper and process for producing the sheet |
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