JPS59177946U - 半導体処理装置 - Google Patents

半導体処理装置

Info

Publication number
JPS59177946U
JPS59177946U JP7314383U JP7314383U JPS59177946U JP S59177946 U JPS59177946 U JP S59177946U JP 7314383 U JP7314383 U JP 7314383U JP 7314383 U JP7314383 U JP 7314383U JP S59177946 U JPS59177946 U JP S59177946U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing equipment
semiconductor processing
processing
semiconductor
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7314383U
Other languages
English (en)
Inventor
松田　公博
Original Assignee
日本電気株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本電気株式会社 filed Critical 日本電気株式会社
Priority to JP7314383U priority Critical patent/JPS59177946U/ja
Publication of JPS59177946U publication Critical patent/JPS59177946U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来からの処理装置の一例を示す配管系統図で
ある。第２図は本考案の処理装置の一実施例を示す配管
系統図である。第３図ａ、　　ｂはアスピレータの一例
を示す断面図である。 １・・・真空吸着チャック、２・・・トラップ、３・・
・排液バルブ、４・・・真空ポンプ、５・・・ウェーハ
、６・・・ノズル、７・・・電磁弁、８・・・フィルタ
、９・・・真空解除弁、１０・・・回転駆動部、１１・
・・薬液貯蔵タンク、１２・・・ポンプ、１３・・・ろ
かフィルタ、１４・・・排液バルブ、１５・・・アスピ
レータ、１６・・・電磁弁、１７・・・電磁弁、１００
・・・吸引口、１０１・・・薬液入口、１０２・・・薬
液出口、Ａ・・・排気処理系、Ｂ・・・排液処理系。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体ウェーハを液処理するための処理装置において、
    アスピレータに処理液を流すことによって生ずる負圧を
    半導体ウェーハの吸着チャックの真空源として使用する
    ことを特徴とする半導体処理装置。
JP7314383U 1983-05-17 1983-05-17 半導体処理装置 Pending JPS59177946U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7314383U JPS59177946U (ja) 1983-05-17 1983-05-17 半導体処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7314383U JPS59177946U (ja) 1983-05-17 1983-05-17 半導体処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59177946U true JPS59177946U (ja) 1984-11-28

Family

ID=30203275

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7314383U Pending JPS59177946U (ja) 1983-05-17 1983-05-17 半導体処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59177946U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01287569A (ja) * 1988-05-13 1989-11-20 Tokyo Electron Ltd 真空吸着装置及び処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01287569A (ja) * 1988-05-13 1989-11-20 Tokyo Electron Ltd 真空吸着装置及び処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH11320406A (ja) 研磨装置における排液・排気の処理方法及び装置
JPS59177946U (ja) 半導体処理装置
JPS6061011A (ja) 脱気・消泡装置
JPH0577932U (ja) レジスト液供給装置
JPH05283390A (ja) 半導体基板の薬液処理装置
JPS6076035U (ja) シリコンウェファの処理装置
JPS62117689A (ja) 冷却水管の洗浄装置
JPS59122138U (ja) 血液処理装置
JPS60171536U (ja) 吸引処理装置
JPH0412631U (ja)
JPS6417221U (ja)
JPH0192133U (ja)
JPS5885346U (ja) 半導体素片吸着装置
JPH01287569A (ja) 真空吸着装置及び処理装置
JPH0237736U (ja)
JPS594632U (ja) ウエハ−処理装置
JPS59174140U (ja) バキユ−ム缶
JPS58195103U (ja) 油クリ−ニング装置
JPS6017252U (ja) 沈砂洗浄装置
JPS58170320U (ja) 魚類荷揚げ作業の自動化装置
JPS60107747U (ja) 流体試料吸引装置
JPS58127102U (ja) 漏油処理装置
JPS5996033U (ja) 血液処理装置
JPS5818552U (ja) 体液貯留バツグ
JPS6366116U (ja)