JPS6076035U - シリコンウェファの処理装置 - Google Patents

シリコンウェファの処理装置

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JPS6076035U
JPS6076035U JP16742783U JP16742783U JPS6076035U JP S6076035 U JPS6076035 U JP S6076035U JP 16742783 U JP16742783 U JP 16742783U JP 16742783 U JP16742783 U JP 16742783U JP S6076035 U JPS6076035 U JP S6076035U
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JP
Japan
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wafer processing
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carrier
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JP16742783U
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俊明 山本
山西 通
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海上電機株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は実施例の構成の概略を示す図である。 1・・・アーム、2・・・搬送機、3,3′・・・支持
腕、4・・・加湿器本体、5・・・給水パイプ、6・・
・排水パイプ、7・・・送出口、8冑キヤリヤ、9・・
・ウェファ、10・・・薬液槽、11・・・液、12・
・・霧。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. シリコンウェファを収納したキャリヤ8を保持する駆動
    用アーム1に、加湿器本体が固定されていることを特徴
    とするシリコンウェファの処理装置。
JP16742783U 1983-10-31 1983-10-31 シリコンウェファの処理装置 Granted JPS6076035U (ja)

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JP16742783U JPS6076035U (ja) 1983-10-31 1983-10-31 シリコンウェファの処理装置

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JPS6076035U true JPS6076035U (ja) 1985-05-28
JPH0115178Y2 JPH0115178Y2 (ja) 1989-05-08

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ID=30366295

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017011212A (ja) * 2015-06-25 2017-01-12 株式会社Screenホールディングス 基板処理方法及びその装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2017011212A (ja) * 2015-06-25 2017-01-12 株式会社Screenホールディングス 基板処理方法及びその装置

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JPH0115178Y2 (ja) 1989-05-08

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