JPS594632U - ウエハ−処理装置 - Google Patents

ウエハ−処理装置

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JPS594632U
JPS594632U JP9976782U JP9976782U JPS594632U JP S594632 U JPS594632 U JP S594632U JP 9976782 U JP9976782 U JP 9976782U JP 9976782 U JP9976782 U JP 9976782U JP S594632 U JPS594632 U JP S594632U
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JP
Japan
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wafer processing
processing equipment
changing
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JP9976782U
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裕 遠藤
Original Assignee
日本電気株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の第一の実施例のブロック図、第２図は
本考案の第二の実施例を示す斜視図である。 なお、図において、１・・・・・・処理槽、２・・・・
・・止弁、３・・・・・・処理液供給部、４．　５．　
６・・・・・・調節弁、７・・・・・・排液部、８・・
・・・・半導体ウェハー、９・・・・・・処理液、１０
・・・・・・側壁、１１．　１２．　１３・・・・・・
案内溝、１４・・・・・・調節壁、である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体ウェハーの洗浄等を行なう処理装置において、処
    理槽容量を変化させる調節部を有することを特徴とする
    ウェハー処理装置。
JP9976782U 1982-07-01 1982-07-01 ウエハ−処理装置 Pending JPS594632U (ja)

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