JPS59172453A - 塩基性オキシムエ−テルの製造方法 - Google Patents
塩基性オキシムエ−テルの製造方法Info
- Publication number
- JPS59172453A JPS59172453A JP59021514A JP2151484A JPS59172453A JP S59172453 A JPS59172453 A JP S59172453A JP 59021514 A JP59021514 A JP 59021514A JP 2151484 A JP2151484 A JP 2151484A JP S59172453 A JPS59172453 A JP S59172453A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- chloro
- phenylmethylene
- cyclohexane
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 21
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- -1 halogeno compound Chemical class 0.000 claims description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 9
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 9
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 5
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RXYQHVMJQFHKDX-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-n,n-di(propan-2-yl)propan-1-amine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)CCCCl RXYQHVMJQFHKDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- DBVADBHSJCWFKI-UHFFFAOYSA-N n-(2-chloroethyl)-n-propan-2-ylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)CCCl DBVADBHSJCWFKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N potassium ethoxide Chemical compound [K+].CC[O-] RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QDNVQQPKBRGLSF-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-n-propylpropan-1-amine Chemical compound CCCNCCCCl QDNVQQPKBRGLSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 1
- VIHOHTOSUXOBSD-UHFFFAOYSA-N n-[2-[(2-benzylidenecycloheptylidene)amino]oxyethyl]-n-propan-2-ylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)CCON=C1CCCCCC1=CC1=CC=CC=C1 VIHOHTOSUXOBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 19
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 19
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 19
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N cycloheptane Chemical compound C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WQMAANNAZKNUDL-UHFFFAOYSA-N 2-dimethylaminoethyl chloride Chemical compound CN(C)CCCl WQMAANNAZKNUDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-L fumarate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-L 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- NJYFRQQXXXRJHK-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl) thiocyanate Chemical compound NC1=CC=C(SC#N)C=C1 NJYFRQQXXXRJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLOLBVBZWFLGMO-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-4-(2-chloroethyl)piperazine Chemical compound C1CN(CCCl)CCN1CC1=CC=CC=C1 SLOLBVBZWFLGMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZPFCXFBXLZYMQ-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-4-(3-chloropropyl)piperazine;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C1CN(CCCCl)CCN1CC1=CC=CC=C1 PZPFCXFBXLZYMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004806 1-methylethylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- LQLJZSJKRYTKTP-UHFFFAOYSA-N 2-dimethylaminoethyl chloride hydrochloride Chemical compound Cl.CN(C)CCCl LQLJZSJKRYTKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYYRRBOMNHUCLB-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-n,n-dimethylpropan-1-amine Chemical compound CN(C)CCCCl NYYRRBOMNHUCLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005330 8 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M Lactate Chemical compound CC(O)C([O-])=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003444 anaesthetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001430 anti-depressive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000648 anti-parkinson Effects 0.000 description 1
- 239000000935 antidepressant agent Substances 0.000 description 1
- 229940005513 antidepressants Drugs 0.000 description 1
- 239000000939 antiparkinson agent Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M bromate Inorganic materials [O-]Br(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- NARWYSCMDPLCIQ-UHFFFAOYSA-N ethane;hydrochloride Chemical compound Cl.CC NARWYSCMDPLCIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000012458 free base Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003589 local anesthetic agent Substances 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000144 pharmacologic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
- C07D295/08—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms
- C07D295/084—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms with the ring nitrogen atoms and the oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings
- C07D295/088—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms with the ring nitrogen atoms and the oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings to an acyclic saturated chain
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は塩基性オキシムエーテルの新規かツ改良された
方法に関する。
方法に関する。
本発明によれば、
一般式I:
以下余白
(式中、Rは1ないし3個のハロゲン原子および/又は
低級アルコキシ基によりて任意に置換されていてもよい
フェニル基であシ; R1およびR2は水素又は共に一緒になって原子価結合
を形成し; Aは低級アルキレンでアシ; R3およびR4はそれぞれ水素もしくは低級アルキル又
はそれらが結合している隣接窒素原子と共に一緒になっ
て5〜8員複素環を形成し、この複素環は更に酸素もし
くは窒素原子を任意に含有し、および/又は低級アルキ
ル、フェニル又はフェニル−低級アルキルにより任意に
置換されていてもよく、更に nは3,4.5,6又は7である) で表わされる化合物の製造方法が提供される。
低級アルコキシ基によりて任意に置換されていてもよい
フェニル基であシ; R1およびR2は水素又は共に一緒になって原子価結合
を形成し; Aは低級アルキレンでアシ; R3およびR4はそれぞれ水素もしくは低級アルキル又
はそれらが結合している隣接窒素原子と共に一緒になっ
て5〜8員複素環を形成し、この複素環は更に酸素もし
くは窒素原子を任意に含有し、および/又は低級アルキ
ル、フェニル又はフェニル−低級アルキルにより任意に
置換されていてもよく、更に nは3,4.5,6又は7である) で表わされる化合物の製造方法が提供される。
一般式Iの化合物は公知であシ更に抗うつ作用、抗パー
キンソン作用及び局所麻酔作用を示す()・ンガリー特
許169,298 )。該特許によれば、一般式Tの化
合物は特に、一般式■: で表される化合物を一般式■: で表される化合物と、不活性溶剤中塩基性縮合剤の存在
下で縮合させることによシ製造出来る(前記式中、R,
R’、R2、R51R4及びnは先に説明した意味と同
じである)。前記特許の実施例中、不活性溶剤として専
ら有機溶剤(トルエン、エタノール、ベンゼン又はキシ
レン)が使用サレ、一方塩基性縮合剤として水素化ナト
リウム、ナトリウム、ナトリウムアミド及び金属ナトリ
ウムが適用される。該特許によれば、実験的支持はなし
が、アルカリ水酸化物が塩基性縮合剤としても使用する
ことが出来更にこの場合において水が溶剤として役立つ
。ハンガリー特許169.298の教示するところによ
れば、アルカリ金属を、もしも用いる場合、アルコール
性媒体が提案されている。
キンソン作用及び局所麻酔作用を示す()・ンガリー特
許169,298 )。該特許によれば、一般式Tの化
合物は特に、一般式■: で表される化合物を一般式■: で表される化合物と、不活性溶剤中塩基性縮合剤の存在
下で縮合させることによシ製造出来る(前記式中、R,
R’、R2、R51R4及びnは先に説明した意味と同
じである)。前記特許の実施例中、不活性溶剤として専
ら有機溶剤(トルエン、エタノール、ベンゼン又はキシ
レン)が使用サレ、一方塩基性縮合剤として水素化ナト
リウム、ナトリウム、ナトリウムアミド及び金属ナトリ
ウムが適用される。該特許によれば、実験的支持はなし
が、アルカリ水酸化物が塩基性縮合剤としても使用する
ことが出来更にこの場合において水が溶剤として役立つ
。ハンガリー特許169.298の教示するところによ
れば、アルカリ金属を、もしも用いる場合、アルコール
性媒体が提案されている。
該特許において開示された上記手順は特に工業的スケー
ルの生産に関し重大な困難性に直面しているニ ーー一般式のハロゲノアルキルアミンが遊離塩基の形態
でのみしか使用することが出来ず、これは非常に不安定
な化合物であシ容易に三量化及びポリマー化する傾向に
ある; 一装置の特定容量因子が好ましくないニー反応時間が長
い(12〜16時間);−目的生成物の公印が複雑な方
法で行われる(水素化ナトリウム又はナトリウムアミド
の分解、酸性及びアルカリ性抽出、トランスプレシビテ
エションズ(trans−precipitation
s)等)。
ルの生産に関し重大な困難性に直面しているニ ーー一般式のハロゲノアルキルアミンが遊離塩基の形態
でのみしか使用することが出来ず、これは非常に不安定
な化合物であシ容易に三量化及びポリマー化する傾向に
ある; 一装置の特定容量因子が好ましくないニー反応時間が長
い(12〜16時間);−目的生成物の公印が複雑な方
法で行われる(水素化ナトリウム又はナトリウムアミド
の分解、酸性及びアルカリ性抽出、トランスプレシビテ
エションズ(trans−precipitation
s)等)。
−精製が、複雑且つ特別な装置を必要とする高圧で蒸留
によシ行われる; 一反応中に生成したガス状水素が爆発の危険を伴い更に
発生したアンモニアは環境汚染の原因となる; −6る場合には異性化が反応中に生起する。
によシ行われる; 一反応中に生成したガス状水素が爆発の危険を伴い更に
発生したアンモニアは環境汚染の原因となる; −6る場合には異性化が反応中に生起する。
下記の欠点が以下の事実から明らかにされている。即ち
2−[(ト)−(p−クロロフェニルメチレン)−1−
[(ト)−(31−シイソプロビルアミノープにホキシ
イミノ)〕−シクロヘキサンをハンガリー特許169,
298に従って製造した場合、目的産物に加えて、未知
の構造を有する物質が相当量得られ、仁れはその物理化
学定数において目的化合物とは相当に異なったものであ
る。二種の生成物のUVスペクトルは、以下の内容を示
す。即ち目的化合物のλmax値が280nm(ε=1
7456.1 s )であるのに、未知物質の対応する
値は2−aX243nm(a=1245)である。
2−[(ト)−(p−クロロフェニルメチレン)−1−
[(ト)−(31−シイソプロビルアミノープにホキシ
イミノ)〕−シクロヘキサンをハンガリー特許169,
298に従って製造した場合、目的産物に加えて、未知
の構造を有する物質が相当量得られ、仁れはその物理化
学定数において目的化合物とは相当に異なったものであ
る。二種の生成物のUVスペクトルは、以下の内容を示
す。即ち目的化合物のλmax値が280nm(ε=1
7456.1 s )であるのに、未知物質の対応する
値は2−aX243nm(a=1245)である。
仁の違いは、反応中に、好ましくない副反応(異性化)
が起っていることを示している。
が起っていることを示している。
ハンガリー特許169.298は、薬理的に活性な新規
化合物の製造に関する。該特許の目的は、生成物の同定
に対し更に薬理試験の目的に対し充分な量の新規化合物
を提供することにあった。一方、本発明の目的は一般式
■の該公知化合物の製造方法を提供することにあシ、こ
の方法は工業的スケールの生産が容易に可能であシ更に
公知方法による上記欠点をも除去し更に又環境保護、エ
ネルギー節約及び産業的経済性の要求に合致する。
化合物の製造に関する。該特許の目的は、生成物の同定
に対し更に薬理試験の目的に対し充分な量の新規化合物
を提供することにあった。一方、本発明の目的は一般式
■の該公知化合物の製造方法を提供することにあシ、こ
の方法は工業的スケールの生産が容易に可能であシ更に
公知方法による上記欠点をも除去し更に又環境保護、エ
ネルギー節約及び産業的経済性の要求に合致する。
本発明によれば一般式Il:
(式中、Rは1ないし3個のハロゲン原子および/又は
低級アルコキシ基によって任意に置換されていてもよい
フェニル基であシ; R1およびR2は水素又は共に一緒になって原子価結合
を形成し; 更にnけ3,4.5.6又は7である)で麦わされるオ
キシムを一般式■: (式中、Aは低級アルキレンであシ、Halldハロゲ
ンであシ R3およびR4はそれぞれ水素もしくは低級アルキル又
はそれらが結合している隣接水素原子と共に一緒になっ
て5〜8員複素環を形成し、この複素環は更に酸素もし
くは窒素原子を任意に含有し、および/又は低級アルキ
ル、フェニル又はフェニル−低級アルキルによシ任意に
置換されていてもよい) で表わされるハロゲノ化合物と反応させることによる (式中、R,R’、R2、R3、R4、A1およびnは
先に定義した意味を有する) で表わされる塩基性オキシムエーテルおよびそめ酸付加
塩の製造方法であって、低級アルカリアルコラードおよ
び芳香族有機炭化水素の同時存在中で、一般式■のオキ
シムと一般式■のノ・ロゲノ化合物又はその酸付加塩と
の反応を行ない、次いで、所望によシ得られた一般式I
の化合物を公知の方法によシ′その酸付加塩に変換する
ことを含んでなる前記方法が提供される。
低級アルコキシ基によって任意に置換されていてもよい
フェニル基であシ; R1およびR2は水素又は共に一緒になって原子価結合
を形成し; 更にnけ3,4.5.6又は7である)で麦わされるオ
キシムを一般式■: (式中、Aは低級アルキレンであシ、Halldハロゲ
ンであシ R3およびR4はそれぞれ水素もしくは低級アルキル又
はそれらが結合している隣接水素原子と共に一緒になっ
て5〜8員複素環を形成し、この複素環は更に酸素もし
くは窒素原子を任意に含有し、および/又は低級アルキ
ル、フェニル又はフェニル−低級アルキルによシ任意に
置換されていてもよい) で表わされるハロゲノ化合物と反応させることによる (式中、R,R’、R2、R3、R4、A1およびnは
先に定義した意味を有する) で表わされる塩基性オキシムエーテルおよびそめ酸付加
塩の製造方法であって、低級アルカリアルコラードおよ
び芳香族有機炭化水素の同時存在中で、一般式■のオキ
シムと一般式■のノ・ロゲノ化合物又はその酸付加塩と
の反応を行ない、次いで、所望によシ得られた一般式I
の化合物を公知の方法によシ′その酸付加塩に変換する
ことを含んでなる前記方法が提供される。
以下の内容が見い出された。即ち一般式■のオキシムと
、一般式用のノ・ロゲノ化合物又はそれ等の酸付加塩の
反応がアルカリアルコラード及び芳香族有機炭化水素の
存在中で行う場合、反応は優れた収率で短時間内に生起
し更に異性体が存在し々い高純度の生成物を得る。
、一般式用のノ・ロゲノ化合物又はそれ等の酸付加塩の
反応がアルカリアルコラード及び芳香族有機炭化水素の
存在中で行う場合、反応は優れた収率で短時間内に生起
し更に異性体が存在し々い高純度の生成物を得る。
本明細書中で使用される語句「低級アルコキシ」は1〜
4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝鎖のアルコキ
シ基(例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ンプロポキシ等)を意味するものとする。語句「ノ・ロ
ダン」はフッ素、塩素、臭素及びヨー素原子を含む。語
句「低級アルキレン」は、2〜4個の炭素原子を有する
直鎖もしくは分枝鎖アルキレン基(例えばエチレン、ト
リメチレン又は1−メチル−エチレン)を意味するもの
とする。語句「低級アルキル」は1〜4個の炭素原子を
有する直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基(メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル等)を意味するものと
する。
4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝鎖のアルコキ
シ基(例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ンプロポキシ等)を意味するものとする。語句「ノ・ロ
ダン」はフッ素、塩素、臭素及びヨー素原子を含む。語
句「低級アルキレン」は、2〜4個の炭素原子を有する
直鎖もしくは分枝鎖アルキレン基(例えばエチレン、ト
リメチレン又は1−メチル−エチレン)を意味するもの
とする。語句「低級アルキル」は1〜4個の炭素原子を
有する直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基(メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル等)を意味するものと
する。
R3およびR4基はそれ等が結合している隣接水素原子
と共に、5〜8員環の複素環式基を形成し、これは所望
によシ更に酸素又は窒素原子を含有してもよく及び/又
は所望によジ置換されていてもよい。該複素環式基は例
えばモルホリノ、ピロリジノ、ピペリ−ジノ、N−メチ
ル−ピペラジノ、N−フェニルピペラジノ又はN−ベン
ジル−ピペラジノ基等である。nは好ましくは4又は5
である。
と共に、5〜8員環の複素環式基を形成し、これは所望
によシ更に酸素又は窒素原子を含有してもよく及び/又
は所望によジ置換されていてもよい。該複素環式基は例
えばモルホリノ、ピロリジノ、ピペリ−ジノ、N−メチ
ル−ピペラジノ、N−フェニルピペラジノ又はN−ベン
ジル−ピペラジノ基等である。nは好ましくは4又は5
である。
一般式■の化合物の酸付加塩は、無機もしくは有機酸を
用いて得られた医薬として許容され得る酸付加塩である
(例えば塩酸塩、臭酸塩、硫酸塩、酒石酸塩、フマール
酸塩、アセテート、ラクテート等)。
用いて得られた医薬として許容され得る酸付加塩である
(例えば塩酸塩、臭酸塩、硫酸塩、酒石酸塩、フマール
酸塩、アセテート、ラクテート等)。
本発明方法によれば、好ましくはす) IJウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カ
リウムエトキシド又はカリウム第三ブトキシドがアルカ
リアルコラードとして使用出来る。芳香族有機炭化水素
として、好ましくはベンゼン、トルエンもしくはキシレ
ン又はそれ等の混合物を適用することが出来る。本発明
の好ましい態様によれば、一般式■及び■の化合物を、
ナトリウムメトキシド及びトルエン、キシレン又はベン
ゼンの存在中で反応させる。
シド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、カ
リウムエトキシド又はカリウム第三ブトキシドがアルカ
リアルコラードとして使用出来る。芳香族有機炭化水素
として、好ましくはベンゼン、トルエンもしくはキシレ
ン又はそれ等の混合物を適用することが出来る。本発明
の好ましい態様によれば、一般式■及び■の化合物を、
ナトリウムメトキシド及びトルエン、キシレン又はベン
ゼンの存在中で反応させる。
反応は好ましくは加熱下特に反応混合物の沸点で行うこ
とが出来る。反応中に生じた低級アルカノールを芳香族
有機炭化水素と共に好ましく留去することが出来る。反
応時間は非常に短かく、反応は一時間又は工時間以内に
完結する。・一般式■の出発物質は、酸付加塩の形態で
、好ましくは無機酸との酸付加塩として、特にそれ等の
塩酸塩の形態で使用出来る。
とが出来る。反応中に生じた低級アルカノールを芳香族
有機炭化水素と共に好ましく留去することが出来る。反
応時間は非常に短かく、反応は一時間又は工時間以内に
完結する。・一般式■の出発物質は、酸付加塩の形態で
、好ましくは無機酸との酸付加塩として、特にそれ等の
塩酸塩の形態で使用出来る。
反応混合物をそれ自身公知の方法によシ処理出来る。か
くして、反応混合物を水中に注ぎ、洗浄し次いで溶剤を
除去する。別の任意の方法によれば、一般式■の化合物
は、それ等の酸付加塩の形態で単離出来る。塩形成は溶
媒として不活性溶剤中、対応する酸と反応させることに
よりそれ自身公知の方法で行うことが出来る。
くして、反応混合物を水中に注ぎ、洗浄し次いで溶剤を
除去する。別の任意の方法によれば、一般式■の化合物
は、それ等の酸付加塩の形態で単離出来る。塩形成は溶
媒として不活性溶剤中、対応する酸と反応させることに
よりそれ自身公知の方法で行うことが出来る。
本発明の好ましい態様によれば、以下の化合物が製造出
来る: 2−〔■−フェニルメチレン)−1−[(ト)−(3′
−ジイソプロピルアミノーフロポキシイミノ)〕−シク
ロヘキサン: 2−〔(ト)−(p−10ローフエニルメチレン)〕−
1−〔■−(3′−ジインプロビルーアミノフロポキシ
ーイミノ)〕−〕シクロヘキサン;2−ベンザルー1−
(2’−ジイソプロピルアミノ−エトキシイミノ)−
シクロヘプタン。
来る: 2−〔■−フェニルメチレン)−1−[(ト)−(3′
−ジイソプロピルアミノーフロポキシイミノ)〕−シク
ロヘキサン: 2−〔(ト)−(p−10ローフエニルメチレン)〕−
1−〔■−(3′−ジインプロビルーアミノフロポキシ
ーイミノ)〕−〕シクロヘキサン;2−ベンザルー1−
(2’−ジイソプロピルアミノ−エトキシイミノ)−
シクロヘプタン。
本発明方法の利点は以下の通シである。即ち工業的規模
の生産が容易に実行出来(短かい反応時間、簡単な単離
、高圧蒸留による複雑且つ特別な精製の省略;爆発の危
険のある反応物は用いない)、副反応が起シにく\更に
高純度の生成物が優れた収率で得られる。
の生産が容易に実行出来(短かい反応時間、簡単な単離
、高圧蒸留による複雑且つ特別な精製の省略;爆発の危
険のある反応物は用いない)、副反応が起シにく\更に
高純度の生成物が優れた収率で得られる。
以下に本発明の実施例を非制限的に説明する。
例1
2−〔■−(2’ 、 4’−ジクロロ−フェニルメチ
レン))−1−[■−(4’−ベンジル−ピペラジニル
−プロポキシ−イミノ)〕−シクロヘキサンの製造 ・撹拌機を備えた装置に、無水トルエン150ゴ、ナト
リウムメトキシド5.4 r (0,01モル)及び2
−〔■−(2’ 、 4’−ジクロロ−フェニルメチレ
ン)〕−〕シクロヘキサンー1−オンー■−オキシム2
7.02 F (0,1モル)を秤量して入れる。
レン))−1−[■−(4’−ベンジル−ピペラジニル
−プロポキシ−イミノ)〕−シクロヘキサンの製造 ・撹拌機を備えた装置に、無水トルエン150ゴ、ナト
リウムメトキシド5.4 r (0,01モル)及び2
−〔■−(2’ 、 4’−ジクロロ−フェニルメチレ
ン)〕−〕シクロヘキサンー1−オンー■−オキシム2
7.02 F (0,1モル)を秤量して入れる。
反応混合物から、メタノール及びトルエンの混金物約3
07!を留去し次いでトルエン50m1に溶解したN−
ベンジル−N’−(3−10ロープロピル)−ピペラジ
ン27.7 f (0,11モル)の溶液を沸点に加熱
下添加し次いで混合物を1〜2時間後反応に委ねる。反
応混合物を氷水150mg中に注ぎ、トルエン溶液を中
性になるまで洗浄し次いで溶剤を真空下で除去する。か
くして目的化合物41.94 f収率86.2%で得る
。2−■−ブテンジオニー)(1/2)の融点は197
〜200.5℃である。
07!を留去し次いでトルエン50m1に溶解したN−
ベンジル−N’−(3−10ロープロピル)−ピペラジ
ン27.7 f (0,11モル)の溶液を沸点に加熱
下添加し次いで混合物を1〜2時間後反応に委ねる。反
応混合物を氷水150mg中に注ぎ、トルエン溶液を中
性になるまで洗浄し次いで溶剤を真空下で除去する。か
くして目的化合物41.94 f収率86.2%で得る
。2−■−ブテンジオニー)(1/2)の融点は197
〜200.5℃である。
元素分析:式C3,H4,Cl2N30. (718,
65)に対する理論値: C58,51H5,75%C
I 9.86%N5.84%実験値: C58,4%
H5,69% CI 9.79% N 5.87%UV
、 :λmax 、= 273 nm (a = 15
409 )。
65)に対する理論値: C58,51H5,75%C
I 9.86%N5.84%実験値: C58,4%
H5,69% CI 9.79% N 5.87%UV
、 :λmax 、= 273 nm (a = 15
409 )。
力ヱ
2−〔■−(m−クロロ−フェニルメチレン)〕−1−
1:(ト)−(4’−ヘンシル−ピペラジニル−エトキ
シイミノ)〕−シクロヘキサンの製造 撹拌機を備えた装置に、2−〔(ト)−(m−クロロ−
フェニルメチレン)〕−〕シクロヘキサンー1−オンー
■−オキシム23.579 (0,1モル)、キシレン
150+*e及びナトリウムメトキシド18.9 f
(0,35モル)を秤量して入れ次いでキシレン及びメ
タノールの混合物30mJを撹拌し且つ大気圧下で留去
する。反応混合物を沸点以下の温度に冷却し次いでN−
ベンジル−N’−(2−クロロエチル)−ヒペラシンー
二塩ff塩34.2 f(o、i iモル)を添加する
。反応混合物を数時間沸点に加熱し、この間更に溶剤5
o−を留去し、混合物を数時間沸点に加熱し、次いで2
o0cに冷却し、氷水200ゴ中に注加する。キシレン
相を水で中性になるまで洗浄し次いで真空下で蒸発させ
る。かくして目的化合物38.255’を収率87.3
%で得る。2−(ト)−ブテンジオエート(1/2)の
融点は197〜199.5°Cである。
1:(ト)−(4’−ヘンシル−ピペラジニル−エトキ
シイミノ)〕−シクロヘキサンの製造 撹拌機を備えた装置に、2−〔(ト)−(m−クロロ−
フェニルメチレン)〕−〕シクロヘキサンー1−オンー
■−オキシム23.579 (0,1モル)、キシレン
150+*e及びナトリウムメトキシド18.9 f
(0,35モル)を秤量して入れ次いでキシレン及びメ
タノールの混合物30mJを撹拌し且つ大気圧下で留去
する。反応混合物を沸点以下の温度に冷却し次いでN−
ベンジル−N’−(2−クロロエチル)−ヒペラシンー
二塩ff塩34.2 f(o、i iモル)を添加する
。反応混合物を数時間沸点に加熱し、この間更に溶剤5
o−を留去し、混合物を数時間沸点に加熱し、次いで2
o0cに冷却し、氷水200ゴ中に注加する。キシレン
相を水で中性になるまで洗浄し次いで真空下で蒸発させ
る。かくして目的化合物38.255’を収率87.3
%で得る。2−(ト)−ブテンジオエート(1/2)の
融点は197〜199.5°Cである。
元素分析:式C34H4oCIN304(670,2)
に対する理論値: C60,94% H6,02%CI
5.29% N6.27%実験値:C61,04%H
6,13%CI 5.25チN6.31%UV、 :λ
max = 274 nm (ε= 15246 )。
に対する理論値: C60,94% H6,02%CI
5.29% N6.27%実験値:C61,04%H
6,13%CI 5.25チN6.31%UV、 :λ
max = 274 nm (ε= 15246 )。
例3
2−[F]−フェニルメチレン−1−〔(ト)−4′−
フェニル−ピペラジニル−プロポキシイミノ〕−シクロ
ヘキサンの製造 2−■−7エニルメチレンーシクロヘキサンー1−オン
−[F]−オキシム20.1 f (0,1モル)及び
N−フェニル−N’−(3−クロロプロピル)−ピペラ
ジン25.Of (0,105モル)を使用する以外は
、例1に記載したと同様に操作する。目的化合物j5.
199を収率87.2 %で得る。塩酸塩の融点は19
0〜194°Cである。
フェニル−ピペラジニル−プロポキシイミノ〕−シクロ
ヘキサンの製造 2−■−7エニルメチレンーシクロヘキサンー1−オン
−[F]−オキシム20.1 f (0,1モル)及び
N−フェニル−N’−(3−クロロプロピル)−ピペラ
ジン25.Of (0,105モル)を使用する以外は
、例1に記載したと同様に操作する。目的化合物j5.
199を収率87.2 %で得る。塩酸塩の融点は19
0〜194°Cである。
元素分析:式C26H34CIN30 (440,04
)に対する理論値: C70,97チH7,79’16
C18,06チN9.55優実験値: C7!、06
%H7,83チC18,11%N9.61係例4 2−〔■−(o−クロロ−フェニルメチレン)〕−1−
[■−(4′−ベンジル−ピペラジニル−プロポキシイ
ミノ)〕−シクロヘキサンの製造 以下余白 出発物質として2−■−(0−クロロ−フェニルメチレ
ン−シクロヘキサン−1−オンー■−オキシム23.5
7 r (0,1モル)及びN−ベンジル−N’−(3
−クロロプロピル)−ヒベラジンー二塩酸塩35.72
9 (0,11モル)を使用する以外は、例2に記載し
たと同様に行う。かくして目的化合物37.71 Fを
収率83.4 %で得る。
)に対する理論値: C70,97チH7,79’16
C18,06チN9.55優実験値: C7!、06
%H7,83チC18,11%N9.61係例4 2−〔■−(o−クロロ−フェニルメチレン)〕−1−
[■−(4′−ベンジル−ピペラジニル−プロポキシイ
ミノ)〕−シクロヘキサンの製造 以下余白 出発物質として2−■−(0−クロロ−フェニルメチレ
ン−シクロヘキサン−1−オンー■−オキシム23.5
7 r (0,1モル)及びN−ベンジル−N’−(3
−クロロプロピル)−ヒベラジンー二塩酸塩35.72
9 (0,11モル)を使用する以外は、例2に記載し
たと同様に行う。かくして目的化合物37.71 Fを
収率83.4 %で得る。
2−(財)−ブテンジオニー)(1/2)の融点は19
7〜201°Cである。
7〜201°Cである。
元素分析:式C35H4□ClN304(603,5)
に対する理論値:C61,44チH6,15%CI 5
.19%N6.14%実験値: C61,25%H6,
22%CI 5.16チN6.23%UV、 :λma
x == 269 nrn (s = 11573 )
。
に対する理論値:C61,44チH6,15%CI 5
.19%N6.14%実験値: C61,25%H6,
22%CI 5.16チN6.23%UV、 :λma
x == 269 nrn (s = 11573 )
。
例5
2−■−7エニルメチレンー1−〔■−(4t−ベンジ
ル−ピペラジニル−エトキシ−イミノ)〕−シクロヘプ
タンの製造 2−■−フェニルメチレンーシクロヘプタン−1−オン
ー■−オキシム21.53 F (0,1モル)及びN
−ベンジル−N’−(2−クロロエチル)−ピペラジン
26.169 (0,11モル)を出発物質として用い
る以外は、例1に記載したと同様に操作する。目的化合
物38.8 ?を収率93.2%で得る。二塩酸塩の融
点は206〜209°Cである。
ル−ピペラジニル−エトキシ−イミノ)〕−シクロヘプ
タンの製造 2−■−フェニルメチレンーシクロヘプタン−1−オン
ー■−オキシム21.53 F (0,1モル)及びN
−ベンジル−N’−(2−クロロエチル)−ピペラジン
26.169 (0,11モル)を出発物質として用い
る以外は、例1に記載したと同様に操作する。目的化合
物38.8 ?を収率93.2%で得る。二塩酸塩の融
点は206〜209°Cである。
元素分析:式C2,H36CIN30 (489,62
)に対する理論値:C66,23チH7,43%CI
14.56チN8.58チ実験値:C66,12チH7
,15%CI 14.62%N8:、61%UV、 :
λtnax = 262 nm (ε=17012)。
)に対する理論値:C66,23チH7,43%CI
14.56チN8.58チ実験値:C66,12チH7
,15%CI 14.62%N8:、61%UV、 :
λtnax = 262 nm (ε=17012)。
例6
2−(ト)−ン・エニルメチレン−1−〔(ト)−(3
′−ジイソプロピルアミノ−プロポキシイミノ)〕−シ
クロヘキサンの製造 出発物質として2−■−フェニルメチレンーシクロヘキ
サン−1−オン−(ト)−オキシム20.13F (0
,1モル)及び1−ジイソプロピルアミノ−3−クロロ
−プロパン19.539 (0,11モル)を使用する
以外は例1に記載したと同様に行う。
′−ジイソプロピルアミノ−プロポキシイミノ)〕−シ
クロヘキサンの製造 出発物質として2−■−フェニルメチレンーシクロヘキ
サン−1−オン−(ト)−オキシム20.13F (0
,1モル)及び1−ジイソプロピルアミノ−3−クロロ
−プロパン19.539 (0,11モル)を使用する
以外は例1に記載したと同様に行う。
目的化合物33.05 ?を収率96.5 チで得る。
2−(ト)−ブテンジオエート(1/1)の融点は13
0〜132°Cである。
0〜132°Cである。
元素分析:式C,6H38N205(458,61)に
対する理論値: C68,09% H8,35% N
6.10%実験値: C67,95% H8,42%
N6.03%UV、 :λmax=275nm 例7 2−〔■−(p−クロロ−フェニルメチレン)〕−1−
〔■−(3′−ジイソプロピルアミノーフロポキシイミ
ノ)〕−シクロヘキサンの製造 出発物質として2− [(ID>−(p−クロロ−フェ
ニルメチレン)〕−〕シクロヘキサンー1−オンーF]
−オキシム23.6 ft’ (0,1モル)及び1−
ジイソプロピルアミノ−3−クロロ−プロパン19.5
4r (0,11モル)を使用する以外は、例1に記載
したと同様に行う。かくして目的化合物37.142を
収率98,5%で得る。
対する理論値: C68,09% H8,35% N
6.10%実験値: C67,95% H8,42%
N6.03%UV、 :λmax=275nm 例7 2−〔■−(p−クロロ−フェニルメチレン)〕−1−
〔■−(3′−ジイソプロピルアミノーフロポキシイミ
ノ)〕−シクロヘキサンの製造 出発物質として2− [(ID>−(p−クロロ−フェ
ニルメチレン)〕−〕シクロヘキサンー1−オンーF]
−オキシム23.6 ft’ (0,1モル)及び1−
ジイソプロピルアミノ−3−クロロ−プロパン19.5
4r (0,11モル)を使用する以外は、例1に記載
したと同様に行う。かくして目的化合物37.142を
収率98,5%で得る。
2−[F]−ブテンジオニー) (1/1 )の融点は
87〜89.5°Cである。
87〜89.5°Cである。
元素分析: C26H3,ClN205(493,06
)に対する理論値: C63,34チH7,56%CI
7.19チN5.68%実験値: C63,22チH
7,49チC17,18チN5.72%UV、 :λm
aX=280nm(ε=17456)例8 2−(イ)−7エニルメチレンー1− ((2’−ジイ
ソプロピルアミノ−エトキシイミノ)〕−シクロヘプタ
ンの製造 出発物質として2−(2)−フェニルメチレン−シクロ
ヘプタン−1−オン−(ト)−オキシム21.53F
(0,1モル)及び1−ジメチルアミノ−2−クロロ−
エタン−塩酸塩22.02 f (0,11モル)を使
用する以外は例2に記載したと同様に行う。
)に対する理論値: C63,34チH7,56%CI
7.19チN5.68%実験値: C63,22チH
7,49チC17,18チN5.72%UV、 :λm
aX=280nm(ε=17456)例8 2−(イ)−7エニルメチレンー1− ((2’−ジイ
ソプロピルアミノ−エトキシイミノ)〕−シクロヘプタ
ンの製造 出発物質として2−(2)−フェニルメチレン−シクロ
ヘプタン−1−オン−(ト)−オキシム21.53F
(0,1モル)及び1−ジメチルアミノ−2−クロロ−
エタン−塩酸塩22.02 f (0,11モル)を使
用する以外は例2に記載したと同様に行う。
目的化合物31.35’を収率91.4 %で得る。2
−■−ブテンジオエート(t/X)の融点は117〜1
20’Cである。
−■−ブテンジオエート(t/X)の融点は117〜1
20’Cである。
元素分析:式C26H38N2o5(458,6)に対
する理論値: C68,09% H8,35% N6.
11係実験値: c 67.92% H8,42% N
6.07%UV、 :λmax = 258 nm (
ε=11182)例9 2−[(ト)−(p−りoローフェニルメチレン)〕−
1−〔■−(2′−ジメチルアミノ−エトキシイミノ)
〕−シクロヘキサンの製造 出発物質として2−〔■−(p−クロロ−7エニルメチ
レン)〕−〕シクロヘキサンー1−オンート)−オキシ
ム23.57. r (0,01モル)及び1−ジメチ
ルアミノ−2−クロロ−エタン12.249(0,10
5モル)を使用する以外は、例1に記載したと同様に行
う。目的化合物28.60 fを収率93.2チで得る
。
する理論値: C68,09% H8,35% N6.
11係実験値: c 67.92% H8,42% N
6.07%UV、 :λmax = 258 nm (
ε=11182)例9 2−[(ト)−(p−りoローフェニルメチレン)〕−
1−〔■−(2′−ジメチルアミノ−エトキシイミノ)
〕−シクロヘキサンの製造 出発物質として2−〔■−(p−クロロ−7エニルメチ
レン)〕−〕シクロヘキサンー1−オンート)−オキシ
ム23.57. r (0,01モル)及び1−ジメチ
ルアミノ−2−クロロ−エタン12.249(0,10
5モル)を使用する以外は、例1に記載したと同様に行
う。目的化合物28.60 fを収率93.2チで得る
。
2−■−ブテンージオニー)(1/1)の融点は168
.5〜171°Cである。
.5〜171°Cである。
元素分析:式C2、H2,ClN205(422,92
)に対する理論値: C59,64%H6,44チC1
8,,38チN6.62%実験値: C59,42%H
6,38%C18,27% N6.67%UV、 :λ
max=275 nm (ε= 19292 )例10 2−ベンジル−1−〔[F]−(2′−ジメチルアミノ
−エトキシイミノ)〕−シクロヘプタンの製造 出発物質として2−ベンジル−シクロへブタン−1−オ
ンー〇−オキシム21.63 t (0,1モル)及び
2−ジメチルアミノ−1−クロロ−エタン−塩酸塩16
.84 F (0,11モル)を使用する以外は例2に
記載したと同様に行う。目的化合物26.96 fを収
率93.5%で得る。2−(ト)−ブテンジオエート(
1/1)の融点は121°Cである。
)に対する理論値: C59,64%H6,44チC1
8,,38チN6.62%実験値: C59,42%H
6,38%C18,27% N6.67%UV、 :λ
max=275 nm (ε= 19292 )例10 2−ベンジル−1−〔[F]−(2′−ジメチルアミノ
−エトキシイミノ)〕−シクロヘプタンの製造 出発物質として2−ベンジル−シクロへブタン−1−オ
ンー〇−オキシム21.63 t (0,1モル)及び
2−ジメチルアミノ−1−クロロ−エタン−塩酸塩16
.84 F (0,11モル)を使用する以外は例2に
記載したと同様に行う。目的化合物26.96 fを収
率93.5%で得る。2−(ト)−ブテンジオエート(
1/1)の融点は121°Cである。
元素分析:式C22H32N20. (404,51)
に対する理論値:C65,32% H7,97チ N
6.93チ実験値: C65,47% H7,82チ
N6.95チ例11 2−■−フェニルメチレンー1−(囮−(4’−メチル
ーピペラジニループロポキシ1ミノ)〕−シクロヘプタ
ンの製造 出発物質トシて2−(F3−フェニルメチレン−シクロ
へブタン−1−オン−(ト)−オキシム21.25F
(0,1モル)及びN−メチル△N’−(3’−クロロ
プロピル)−ピペラジン18.559 (0,105モ
ル)を使用し更にトルエンの代シにベンゼンを用いる以
外は、例1と同様に行う。目的化合物34.671を収
率93.8チで得る。
に対する理論値:C65,32% H7,97チ N
6.93チ実験値: C65,47% H7,82チ
N6.95チ例11 2−■−フェニルメチレンー1−(囮−(4’−メチル
ーピペラジニループロポキシ1ミノ)〕−シクロヘプタ
ンの製造 出発物質トシて2−(F3−フェニルメチレン−シクロ
へブタン−1−オン−(ト)−オキシム21.25F
(0,1モル)及びN−メチル△N’−(3’−クロロ
プロピル)−ピペラジン18.559 (0,105モ
ル)を使用し更にトルエンの代シにベンゼンを用いる以
外は、例1と同様に行う。目的化合物34.671を収
率93.8チで得る。
2−■−ブテンジオニー) (1/1 )の融点は20
4〜208°Cである。
4〜208°Cである。
元素分析:式C3,H43N30. (601,71)
に対する理論値:C61,881H6,98チ H7,
20%実験値:C61,62% H6,幻チ H7,1
7チUV、 :λmax = 272 nm (g =
1370 )例12 2−(ト)−フェニルメチレン−1−〔■−(2′−ジ
、メチルアミノ−エトキシイミノ)〕−シクロヘプタン
の製造 出a物’ruニジて2−@−7エニルメチレンーシクロ
へブタン−1−オン−(ト)−オキシム21.5317
’ (0,1モル)及び1−ジエチルアミン−2−クロ
ロ−エタン−塩酸塩18.79 (0,105モル)を
使用し更にキシレンの代シにトルエンを使用する以外は
例2に記載したと同様に行う。目的化合物27.51
Fを収率87.5 q6で得る。
に対する理論値:C61,881H6,98チ H7,
20%実験値:C61,62% H6,幻チ H7,1
7チUV、 :λmax = 272 nm (g =
1370 )例12 2−(ト)−フェニルメチレン−1−〔■−(2′−ジ
、メチルアミノ−エトキシイミノ)〕−シクロヘプタン
の製造 出a物’ruニジて2−@−7エニルメチレンーシクロ
へブタン−1−オン−(ト)−オキシム21.5317
’ (0,1モル)及び1−ジエチルアミン−2−クロ
ロ−エタン−塩酸塩18.79 (0,105モル)を
使用し更にキシレンの代シにトルエンを使用する以外は
例2に記載したと同様に行う。目的化合物27.51
Fを収率87.5 q6で得る。
2−■−ブテンジオエート(1/1)の融点は86〜8
8°Cである。
8°Cである。
元素分析:式C24H34N20s(430,53)に
対する理論値:C66,954H7,96% N6.5
1チ実験値:C67,12チ H8,04% N6.5
8q6trV、a %z =26,4 nm (ε=
16395 )例13 2−[F]−フェニルメチレン−1−〔(ト)−(2’
−゛ジイソプロピルアミノーエトキシイミノ)〕−シク
ロヘキサンの製造 出発物質トシて2−■−フェニルメチレンーシクロヘキ
サン−1−オン−[F]−オキシム20.1.3f (
0,1モル)及び1−ジイソプロピルアミノ−2−クロ
ロ−エタン18.009 (0,11モル)を使用する
以外を除き、例゛1に記載したと同様に行う。目的化合
物31.719を収率96.3%で得る。
対する理論値:C66,954H7,96% N6.5
1チ実験値:C67,12チ H8,04% N6.5
8q6trV、a %z =26,4 nm (ε=
16395 )例13 2−[F]−フェニルメチレン−1−〔(ト)−(2’
−゛ジイソプロピルアミノーエトキシイミノ)〕−シク
ロヘキサンの製造 出発物質トシて2−■−フェニルメチレンーシクロヘキ
サン−1−オン−[F]−オキシム20.1.3f (
0,1モル)及び1−ジイソプロピルアミノ−2−クロ
ロ−エタン18.009 (0,11モル)を使用する
以外を除き、例゛1に記載したと同様に行う。目的化合
物31.719を収率96.3%で得る。
2−(ト)−ブテンジオニー)(1/1)の融点は10
3〜105°Cである。
3〜105°Cである。
元素分析:式C26H36N20S (444,58)
に対する理論値: C67,54% H8,16% N
6.30%実験値: C67,23% H8,32%
N6.28%UV、 :λmax=275nm(ε=
17304 )例14 2−(ト)−7エニルメチレンー1−〔[F]−(3′
−ジメチルアミノープロポキシイミノ)〕−シクロオク
タンの製造 出発物質として2−(ト)−フェニルメチレン−シクロ
オクタン−1−オン−(ト)−オキシム22.93f
(0,1モル)及び1−ジメチルアミノ−3−クロロ−
プロパン15.11 ? (0,11モル)を使用し更
にトルエンの代りにベンゼンを用いる以外は例1に記載
したと同様に行う。目的化合物28,401、収率94
.5%を得る。
に対する理論値: C67,54% H8,16% N
6.30%実験値: C67,23% H8,32%
N6.28%UV、 :λmax=275nm(ε=
17304 )例14 2−(ト)−7エニルメチレンー1−〔[F]−(3′
−ジメチルアミノープロポキシイミノ)〕−シクロオク
タンの製造 出発物質として2−(ト)−フェニルメチレン−シクロ
オクタン−1−オン−(ト)−オキシム22.93f
(0,1モル)及び1−ジメチルアミノ−3−クロロ−
プロパン15.11 ? (0,11モル)を使用し更
にトルエンの代りにベンゼンを用いる以外は例1に記載
したと同様に行う。目的化合物28,401、収率94
.5%を得る。
2−[F]−ブテンジオエート(1/1)の融点は13
6〜139℃である。
6〜139℃である。
元素分析:式C23H3゜N20. (416,52)
に対する理論値: C66,32% H7,75チ N
6.73チ実験値:C65,89% H7,64チ
N6.79チUV、 :λmax :l:276 nm
(a = 14395 )例15 2−■−7エニルメチレンー1−〔■−(2’−ジメチ
ルアミノ−2′−メチル−エトキシイミノ)〕−シクロ
ヘキサンの製造 出発物質トシて2−@−フェニルメチレンーシクロヘキ
サン−1−オン−(ト)−オキシム20.139 (0
,1モル)及び2−ジメチルアミン−2−メチル−1−
クロロ−エタン16.6 F (0,105モル)を使
用する以外は、例1と同様に行う。目的化合物26.9
9を収率93.9%で得る。
に対する理論値: C66,32% H7,75チ N
6.73チ実験値:C65,89% H7,64チ
N6.79チUV、 :λmax :l:276 nm
(a = 14395 )例15 2−■−7エニルメチレンー1−〔■−(2’−ジメチ
ルアミノ−2′−メチル−エトキシイミノ)〕−シクロ
ヘキサンの製造 出発物質トシて2−@−フェニルメチレンーシクロヘキ
サン−1−オン−(ト)−オキシム20.139 (0
,1モル)及び2−ジメチルアミン−2−メチル−1−
クロロ−エタン16.6 F (0,105モル)を使
用する以外は、例1と同様に行う。目的化合物26.9
9を収率93.9%で得る。
2−[F]−ブテンジオエートの融点は113〜117
℃である。
℃である。
元素分析:式C22H5ON20.(402,48)に
対する理論値: C65,64チ H,7、51チ N
6.96チ実験値: C65,42% H7,39チ
N6.87チUV、 :λmax = 273 nm
(ε=13475)例16 2−[F]−フェニルメチレン−1−〔[F]−(2′
−ジメチルアミンー27−メチル−エトキシイミノ)〕
−シクロヘプタンの製造 出発物質として、2−■−7エニルメチレンーシクロへ
ブタン−1−オン−(ト)−オキシム21.53? (
0,1モル)及び2−ジメチルアミノ−2−メチル−1
−りoo−エタ:/16.6f(0,105モル)を使
用する以外は例1に記載したと同様に行う。目的化合物
28.61 fを収率95.2 %で得る。
対する理論値: C65,64チ H,7、51チ N
6.96チ実験値: C65,42% H7,39チ
N6.87チUV、 :λmax = 273 nm
(ε=13475)例16 2−[F]−フェニルメチレン−1−〔[F]−(2′
−ジメチルアミンー27−メチル−エトキシイミノ)〕
−シクロヘプタンの製造 出発物質として、2−■−7エニルメチレンーシクロへ
ブタン−1−オン−(ト)−オキシム21.53? (
0,1モル)及び2−ジメチルアミノ−2−メチル−1
−りoo−エタ:/16.6f(0,105モル)を使
用する以外は例1に記載したと同様に行う。目的化合物
28.61 fを収率95.2 %で得る。
2−(ト)−ブタンジオエート(1/1)の融点は12
0〜123°Cである。
0〜123°Cである。
元素分析:式C23H3□N20.に対する理論値:
C66,32% H7,75チ N6.73%実験値:
C66,18% H7,62チ N6.65%UV、
:λmax=262nm(C=17595)例17 2−[F]−7エニルメチレンー1−〔■−(2′−ジ
インプロピルアミノ−エトキシイミノ)〕−シクロオク
タンの製造 出発物質トシて2−■−フェニルメチレンーシクロオク
タン−1−(ト)〜オキシム22.93 F (0,1
モル)及び1−ジイソプロピルアミノ−2−クロロ−エ
タン22.02 r (0,11モル)を使用する以外
は例1に記載したと同様に行う。目的化合物33.22
rを収率93.3 %で得る。塩酸塩の融点は158
〜161℃である。
C66,32% H7,75チ N6.73%実験値:
C66,18% H7,62チ N6.65%UV、
:λmax=262nm(C=17595)例17 2−[F]−7エニルメチレンー1−〔■−(2′−ジ
インプロピルアミノ−エトキシイミノ)〕−シクロオク
タンの製造 出発物質トシて2−■−フェニルメチレンーシクロオク
タン−1−(ト)〜オキシム22.93 F (0,1
モル)及び1−ジイソプロピルアミノ−2−クロロ−エ
タン22.02 r (0,11モル)を使用する以外
は例1に記載したと同様に行う。目的化合物33.22
rを収率93.3 %で得る。塩酸塩の融点は158
〜161℃である。
元素分析:式C23H3,ClN2゜(393,0)に
対する理論値: C70,29チH9,47チC19,
02チN7.13%実験値: C69,78チH9,3
2チC19,11%N7.32チUV、 :λmax
= 276 mm (t = 14170 )例18 2−[■−(p−クロロ−フェニルメチレン)〕−1−
〔■−(4′−メチルーピペラクニループロポキシイミ
ノ)〕−シクロヘキサンの製造 出発物質として2−兜−(p−クロロ−フェニルメチレ
ン)−シクロヘキサン−1−オンー■−オキシム23.
57 f (0,1モル)及びN−メチル−N’−(3
−クロロプロピル)−ヒベラジン18.559 (0,
105モル)を使用し更にトルエンの代シにキシレンを
使用する以外は例1と同様に行う。目的化合物34.4
9 Fを収率87.6%で得る。
対する理論値: C70,29チH9,47チC19,
02チN7.13%実験値: C69,78チH9,3
2チC19,11%N7.32チUV、 :λmax
= 276 mm (t = 14170 )例18 2−[■−(p−クロロ−フェニルメチレン)〕−1−
〔■−(4′−メチルーピペラクニループロポキシイミ
ノ)〕−シクロヘキサンの製造 出発物質として2−兜−(p−クロロ−フェニルメチレ
ン)−シクロヘキサン−1−オンー■−オキシム23.
57 f (0,1モル)及びN−メチル−N’−(3
−クロロプロピル)−ヒベラジン18.559 (0,
105モル)を使用し更にトルエンの代シにキシレンを
使用する以外は例1と同様に行う。目的化合物34.4
9 Fを収率87.6%で得る。
2−[F]−ブテンジオニー)(1/2)の融点は19
6〜199°Cである。
6〜199°Cである。
元素分析:式C2,H38CIN30.に対する理論値
: C57,28チH6,29チC15,83%N6.
91チ実験値: C57,32チH6,37チC15,
78%N6.82チUV、 :λmax=278nm(
a=16507)例19 2−((ト)−(m−りoローフェニルメチレン)〕−
〕1−1:■−4′−ベンジルービベラジニループロボ
キシイミノ)〕−シクロヘプタンの製造 出発物質として2−〔■−(m−クロロ−フェニルメチ
レン)〕−〕シクロヘプタンー1−オンー■−オキシム
24.97 r (0,1モル)及びN−ベンジル−N
’−(3−クロロプロピル)−ピペラジン−二塩酸塩3
5.72 F (0,11モル)を使用する以外は例2
に記載したと同様に行う。かくして目的化合物39.0
’2fを収率86.5 %で得る。
: C57,28チH6,29チC15,83%N6.
91チ実験値: C57,32チH6,37チC15,
78%N6.82チUV、 :λmax=278nm(
a=16507)例19 2−((ト)−(m−りoローフェニルメチレン)〕−
〕1−1:■−4′−ベンジルービベラジニループロボ
キシイミノ)〕−シクロヘプタンの製造 出発物質として2−〔■−(m−クロロ−フェニルメチ
レン)〕−〕シクロヘプタンー1−オンー■−オキシム
24.97 r (0,1モル)及びN−ベンジル−N
’−(3−クロロプロピル)−ピペラジン−二塩酸塩3
5.72 F (0,11モル)を使用する以外は例2
に記載したと同様に行う。かくして目的化合物39.0
’2fを収率86.5 %で得る。
2−[F]−ブテンジオエート(1/2)の融点は19
6〜198°Cである。
6〜198°Cである。
元素分析:式C35H42CIN30. (684,2
0)に対する理論値:C61,44%H6,18チC1
5,1896N6.14%実験値:C61,34%H6
,32%CI5.17チN’6.25%UV、 :λm
aX ==274 nm (C=13700 )第1頁
の続き 0発 明 者 エニケー・シルト ハンガリー国ブダペスト10テー グレベテー・ウッツア24 手続補正書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和59年 特許願 第021514号2、発明の名
称 塩基性オキシムエーテルの製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 ニジノド ジョジセルベジェセティ ジャール
4、代理人 6、補正の対象 明細書(1,2及び11ページ) 7、補正の内容 明細書の浄書(内容に変更なし) 8、添付書類の1鍮 浄書明細書(1,2及び11ページ) 1通関
細 書 1、発明の名称 塩基性オキシムエーテルの製造方法 2、特許請求の範囲 1、一般式■: (式中、Rは工ないし3個の)・ログン原子および/又
は低級アルコキシ基によって任意に置換されていてもよ
いフェニル基であり; R1およびR2は水素又は共に一緒になって原子価結合
を形成し;更に nは3.4,5.6又は7でおる) で表わされるオキシムラ一般式■: (式中、Aは低級アルキレンであり、Malはノヘログ
ンであり、 R3およびR4はそれぞれ水素もしくは低級アルキル又
はそれらが結合している隣接窒素原子と共に一緒になっ
て5〜8員複素猿を形成し、この複素環は更に酸素もし
くは窒素原子を任意に含有し、および/又は低級アルキ
ル、フェニル又はフェニル−低級アルキルにより任意に
置換されていてもよい) で表わされるハロゲノ化合物と反応させることによる 一般式I: (式中、R,R1、R2、R3、R4、A1およびnは
先に定義した意味を有する) で表わされる塩基性オキシムエーテルおよびその更にn
は3,4,5.6又は7である)で表わされるオキシム
’に一般式■: (式中、Aは低級アルキレンであシ、Halはハロダン
であり、 R3およびR4はそれぞれ水素もしくは低級アルキル又
はそれらが結合している隣接窒素原子と共に一緒になっ
て5〜8員複素猿を形成し、この複素環は更に酸素もし
くは窒素原子を任意に含有し、および/又は低級アルキ
ル、フェニル又ハフェニルー低級アルキルによシ任意に
置換されていてもよい) で表わされるハロゲノ化合物ξ反応させることによる 一般式I: 以下余白
0)に対する理論値:C61,44%H6,18チC1
5,1896N6.14%実験値:C61,34%H6
,32%CI5.17チN’6.25%UV、 :λm
aX ==274 nm (C=13700 )第1頁
の続き 0発 明 者 エニケー・シルト ハンガリー国ブダペスト10テー グレベテー・ウッツア24 手続補正書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和59年 特許願 第021514号2、発明の名
称 塩基性オキシムエーテルの製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 ニジノド ジョジセルベジェセティ ジャール
4、代理人 6、補正の対象 明細書(1,2及び11ページ) 7、補正の内容 明細書の浄書(内容に変更なし) 8、添付書類の1鍮 浄書明細書(1,2及び11ページ) 1通関
細 書 1、発明の名称 塩基性オキシムエーテルの製造方法 2、特許請求の範囲 1、一般式■: (式中、Rは工ないし3個の)・ログン原子および/又
は低級アルコキシ基によって任意に置換されていてもよ
いフェニル基であり; R1およびR2は水素又は共に一緒になって原子価結合
を形成し;更に nは3.4,5.6又は7でおる) で表わされるオキシムラ一般式■: (式中、Aは低級アルキレンであり、Malはノヘログ
ンであり、 R3およびR4はそれぞれ水素もしくは低級アルキル又
はそれらが結合している隣接窒素原子と共に一緒になっ
て5〜8員複素猿を形成し、この複素環は更に酸素もし
くは窒素原子を任意に含有し、および/又は低級アルキ
ル、フェニル又はフェニル−低級アルキルにより任意に
置換されていてもよい) で表わされるハロゲノ化合物と反応させることによる 一般式I: (式中、R,R1、R2、R3、R4、A1およびnは
先に定義した意味を有する) で表わされる塩基性オキシムエーテルおよびその更にn
は3,4,5.6又は7である)で表わされるオキシム
’に一般式■: (式中、Aは低級アルキレンであシ、Halはハロダン
であり、 R3およびR4はそれぞれ水素もしくは低級アルキル又
はそれらが結合している隣接窒素原子と共に一緒になっ
て5〜8員複素猿を形成し、この複素環は更に酸素もし
くは窒素原子を任意に含有し、および/又は低級アルキ
ル、フェニル又ハフェニルー低級アルキルによシ任意に
置換されていてもよい) で表わされるハロゲノ化合物ξ反応させることによる 一般式I: 以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式■: (式中、Rは1ないし3個のハロゲン原子および/又は
低級アルコキシ基によって任意に置換されていてもよい
フェニル基であシ; R1およびR2は水素又は共に一緒になって原子価結合
を形成し:更に nは3.4.5,6又は7である) で表わされるオキシムを一般式I11:(式中、Aは低
級アルキレンであシ、Halはハロゲンであシ R3およびR4はそれぞれ水素もしくは低級アルキル又
はそれらが結合している隣接琶素原子と共に一緒になっ
て5〜8員複素環を形成し、この複素環は更に酸素もし
くは窒素原子を任意に含有し、および/又は低級アルキ
ル、フェニル又はフェニル−低級アルキルによシ任意に
置換されていてもよい) で表わされるハロゲノ化合物と反応させることによる 一般式■: (式中、R1、R1、R2、R3、R4、A1およびn
は先に定義した意味を有する) で表わされる塩基性オキシムエーテルおよびその酸付加
塩の製造方法であって、低級アルカリアルコラードおよ
び芳香族有機炭化水素の存在中で、一般式■のオキシム
と一般弐■のノ・ロゲノ化合物又はその酸付加塩との反
応を行ない、次いで、所望により得られた一般式■の化
合物を公知の方法によりその酸付加塩に変換することを
含んでなる、前記方法。 2、アルカリアルコラードとして、ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリ
ウムエトキシド又はカリウム第三ブトキシドを用いるこ
とを含んで成る、特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、芳香族有機炭化水素として、ベンゼン、トルエンも
しくはキシレン又はそれ等の混合物を用いることを含ん
で成る、特許請求の範囲第1項もしくは第2項記載の方
法。 4、前記反応を加熱下、好ましくは反応混合物の沸点で
行うことを含んで成る、特許請求の範囲第1項〜第3項
の何れかに記載の方法。 5、前記反応を1〜2時間行うことを含んで成る、特許
請求の範囲第1項〜第4項の何れかに記載の方法。 6.2−C■−フェニルメチレン〕−シクロヘキサン−
1−オンー■−オキシムを1−ジイン、プロピルアミノ
−3−クロロ−プロパンと反応せしめることによる2−
〔[F]−フェニルメチレン〕−1−〔[F]−(3′
−ジイソプロピルアミノ−プロキシイミノ)〕−シクロ
ヘキサンの製造において、反応をナトリウムメトキシド
及びトルエンの存在中で行うことを含んで成る、特許請
求の範囲第1項〜第5項の何れかに記載の方法。 7.2−[■−(p−クロロ−フェニル−メチレン)〕
−〕シクロヘキサンー1−オンー■−オキシを1−ジイ
ソプロピルアミノ−3−クロロ−プロパンと反応させる
ことによる2−〔■−(p−クロロ−フェニルメチレン
):)−1−[(ト)−(3′−ジイソプロビルアミノ
ーフロポキシイミノ)〕−シクロヘキサンの製造におい
て、ナトリウムメトキシド及びトルエンの存在中で反応
を行うことを含んで成る、特許請求の範囲第1項記載の
方法。 8.2−ベンザル−シクロへブタノン−オキシムを2−
ジイソプロピルアミノ−エチル−クロリドと反応させる
ことによる2−ベンザル−1−(2′−ジイソプロピル
アミノ−エトキシイミノ)−シクロヘプタンの製造にお
いて、ナトリウムメトキシド及びトルエンを同時に存在
させて反応を行うことを含んで成る、特許請求の範囲第
1項記載の方法。 9、反応中に生じたアルコールを芳香族有機炭化水素と
共に蒸留して除去することを含んで成る、特許請求の範
囲第1項〜第8項の何れかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
HU83415A HU189226B (en) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | Process for producing basic oxime-ethers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59172453A true JPS59172453A (ja) | 1984-09-29 |
Family
ID=10949516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59021514A Pending JPS59172453A (ja) | 1983-02-08 | 1984-02-08 | 塩基性オキシムエ−テルの製造方法 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59172453A (ja) |
AT (1) | AT385508B (ja) |
BE (1) | BE898834A (ja) |
CH (1) | CH659063A5 (ja) |
DE (1) | DE3404424A1 (ja) |
ES (1) | ES8506605A1 (ja) |
FR (1) | FR2540492B1 (ja) |
GB (1) | GB2135994B (ja) |
HU (1) | HU189226B (ja) |
IT (1) | IT1196016B (ja) |
SU (1) | SU1299502A3 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
HU197205B (en) * | 1984-07-10 | 1989-03-28 | Egyt Gyogyszervegyeszeti Gyar | Process for production of medical compositions against angine |
HU202195B (en) * | 1987-12-31 | 1991-02-28 | Egyt Gyogyszervegyeszeti Gyar | Process for producing new substituted styrene derivatives and medical compositions comprising such compounds |
US5180736A (en) * | 1989-03-23 | 1993-01-19 | Warner-Lambert Company | Polycyclic amines useful as cerebrovascular agents |
US5071853A (en) * | 1989-03-23 | 1991-12-10 | Bigge Christopher F | Polycyclic amines useful as cerebrovascular agents |
HU212415B (en) * | 1989-08-25 | 1996-06-28 | Egyt Gyogyszervegyeszeti Gyar | Process for producing new cyclic oxym derivatives and pharmaceutical compositions containing them as active components |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4083978A (en) * | 1976-01-27 | 1978-04-11 | Egyt Gyogyszervegyeszeti Gyar | Oxime ethers |
GB1493222A (en) * | 1976-01-27 | 1977-11-30 | Egyt Gyogyszervegyeszeti Gyar | Cycloalkanone oxime ethers and process for the preparation thereof |
HU178518B (en) * | 1978-12-19 | 1982-05-28 | Egyt Gyogyszervegyeszeti Gyar | Process for preparing cyclododekanone oxime ethers |
-
1983
- 1983-02-08 HU HU83415A patent/HU189226B/hu not_active IP Right Cessation
-
1984
- 1984-02-02 CH CH480/84A patent/CH659063A5/de not_active IP Right Cessation
- 1984-02-03 BE BE1/010951A patent/BE898834A/fr not_active IP Right Cessation
- 1984-02-07 IT IT19469/84A patent/IT1196016B/it active
- 1984-02-07 FR FR8401832A patent/FR2540492B1/fr not_active Expired
- 1984-02-07 AT AT0038784A patent/AT385508B/de not_active IP Right Cessation
- 1984-02-07 GB GB08403234A patent/GB2135994B/en not_active Expired
- 1984-02-08 JP JP59021514A patent/JPS59172453A/ja active Pending
- 1984-02-08 SU SU843703074A patent/SU1299502A3/ru active
- 1984-02-08 DE DE19843404424 patent/DE3404424A1/de not_active Withdrawn
- 1984-02-08 ES ES529566A patent/ES8506605A1/es not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2135994B (en) | 1986-08-20 |
AT385508B (de) | 1988-04-11 |
IT1196016B (it) | 1988-11-10 |
ES529566A0 (es) | 1985-08-01 |
CH659063A5 (de) | 1986-12-31 |
ES8506605A1 (es) | 1985-08-01 |
IT8419469A0 (it) | 1984-02-07 |
ATA38784A (de) | 1987-09-15 |
SU1299502A3 (ru) | 1987-03-23 |
DE3404424A1 (de) | 1984-08-16 |
FR2540492B1 (fr) | 1988-02-19 |
GB2135994A (en) | 1984-09-12 |
GB8403234D0 (en) | 1984-03-14 |
HU189226B (en) | 1986-06-30 |
FR2540492A1 (fr) | 1984-08-10 |
BE898834A (fr) | 1984-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0415216B2 (ja) | ||
TW201035056A (en) | Piperazine salt and a process for the preparation thereof | |
PH25982A (en) | A process for the preparation of 2-(2-((4-chlorophenyl) phenyl-methyl)-1-piperazinyl) ethoxy) acetic acid and its dihydrochloride | |
HU193161B (en) | Process for preparing new n-alkyl-norscopines | |
US8143463B2 (en) | Process for the preparation of delmopinol and derivatives thereof | |
KR970009727B1 (ko) | 2-[2-[4-[(4-클로로페닐)페닐메틸]-1-피페라지닐]-에톡시]-아세트산 및 이것의 이염산염의 제법 | |
HU190827B (en) | Process for preparing 2-/4/-/4,4-dialkyl-1,2,6-piperidindion-1-yl/-butyl/-1-piperazinyl/-pyridines | |
EP0629624B1 (en) | Tetrazole derivatives, their production and use | |
JPS59172453A (ja) | 塩基性オキシムエ−テルの製造方法 | |
JPH08119912A (ja) | 安息香酸誘導体中間体およびベンゾチオフェン薬剤の製法 | |
EP0690835B1 (en) | Formylation process for aromatic aldehydes | |
EP0049049B1 (en) | 5-amino-tetrazole derivatives, processes for their preparation and pharmaceutical compositions containing them | |
US2542466A (en) | Cyclohexyl-phenyl-aminoalkylketones and their production | |
Shapiro et al. | Aminophenylethanols and Related Compounds | |
US2841589A (en) | Alpha-aryl | |
US3073826A (en) | 3-pyrrolidylmethyl-4-quinazolones | |
JPS59176246A (ja) | 塩基性オキシムエ−テルの製造方法 | |
JPS58502209A (ja) | 化学的方法 | |
JP2009526838A (ja) | 2−(4−ヒドロキシ−3−モルフォリニル)−2−シクロヘキセノンの調製方法 | |
JP3492433B2 (ja) | 3−(フェニルアルキルアミノアルキルオキシ)−5−フェニルピラゾール−化合物、その製造のための方法及び中間体、及びこれを含有する心臓循環作用薬剤 | |
US3446811A (en) | 2-phenoxy-2-phenyl acetamides | |
Yang et al. | Reactions of 2, 2-dihydropolyfluoroalkylaldehydes with amines: a facile synthetic method for fluoroalkyl enaminoketones | |
GB1568028A (en) | 2-aryl-b-arylidene-1-(substituted aminoalkoxy)-1-cyclohexenes | |
JPH05238998A (ja) | シクロブテン誘導体 | |
JPH053859B2 (ja) |