JPS59172284A - 低温テスタ - Google Patents

低温テスタ

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JPS59172284A
JPS59172284A JP58044436A JP4443683A JPS59172284A JP S59172284 A JPS59172284 A JP S59172284A JP 58044436 A JP58044436 A JP 58044436A JP 4443683 A JP4443683 A JP 4443683A JP S59172284 A JPS59172284 A JP S59172284A
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JP
Japan
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wafer
wafer holder
probe needle
holder
temperature tester
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JP58044436A
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English (en)
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JPS6317352B2 (ja
Inventor
Hideaki Nakane
中根 英章
Yutaka Harada
豊 原田
Junji Shigeta
淳二 重田
Kunio Harada
邦男 原田
Sumio Yamaguchi
山口 純男
Ushio Kawabe
川辺 潮
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、ウェハを検査するウェハテスタに係り、特に
低温回路素子のウェハを低温で検査する低温テスタに関
する。
〔従来技術〕
周知のように、ジョセフソン素子は極低温の液体ヘリウ
ム温度で動作する。したがって、作製した該ジョセフソ
ン素子の検査も液体ヘリウム温度でなされる。ところで
、従来の低温テスタにおいては、1チツプずつパッケー
ジに入れて検査が行われたので、非常に時間を要した。
そこで、チッ用低温テスタは、実願昭56−36845
号の重田他による「ジョセフソン集積回路テスタ」に提
示されている。
この従来の低温テスタは、検査すべきウェハを液体−・
リウム溜めの外壁に貼り付けて冷却するようになってお
り、かつウェハに接触して検査を行うプローブ針を持ち
該プローブ針を微動させる微動部が、極低温容器を構成
するデユワ−内部に設置されている。
つ甘り、このように構成されている従来の低温テスタに
あっては、ウェハを液体ヘリウム溜めの外壁を介して該
ウェハの片側のみから冷却するため、充分に冷却が行え
ず、ウェハの冷却に長時間を要するという不具合がある
。また、上記のように微動部がデユワ−内部に設けられ
ているので、該微動部を構成するギヤ等の可動部が凍り
ついたり、該可動部の構成部品の収縮率の相違によ如こ
れらの部品に圧力が加わったり、締め付けられたシして
ギヤ等が円滑に回転しなくなり、微動部が良好に動作し
なくなったり、また該微動部をモーなされたものであシ
、その目的はウエノ・の冷却能力を向上させ、かつ微動
部を円滑に動作させることができる低温回路素子のウニ
ノー用低温テスタを提供することにある。
〔発明の概要〕
上記目的を達成するために本発明は、検査すべきウェハ
をそれを保持するウエノ・ホルダによシ直接液体ヘリウ
ムに浸すようになっており、かつ検査をするプローブ針
に対して微動させるウエノ・ホルダ微動装置を極低温容
器の外部に設置したことを特徴としている。また本発明
の他の特憎としては、極低温容器の開口部を櫟う熱遮蔽
構造を持ち、プローブ針を支持するプローブカードの近
傍にウェハ表面観察用ファイバスコープが設けられ、前
記極低温容器の外側または内側の少なくとも一方に磁気
遮蔽構造が設けてあシ、あるいは前記プローブカードに
設けたグローブ針固定用樹脂がテフロン製であることで
ある。
〔発明の実施例〕
以下本発明の実施例を図面にもとづいて詳細に貯留する
ための液体窒素デユワ−12は該液体窒素デユワ−1の
内側に配置された液体ヘリウム4を貯留するための液体
ヘリウムデユワ−で、これらにより極低温容器19が構
成されている。5は検査すべきウェハ、6はプローブカ
ードで、その部分の拡大図の第2図に示すように該グロ
ーブカード6にはウェハ5に接触して検査を行うプロー
ブ針21と該プローブ針を支持するテフロン製の支持部
材すなわちプローブ針固定樹脂22とが設けである。7
は先端部にウェハ5を保持するウェハホルダ、8は液体
ヘリウムデユワ−2の外部に設けられ、ウエノ・ホルダ
7を矢印方向に微動させるウェハホルダ微動装置、10
はウェハ5に対するプローブ針21の接触状態をファイ
バースコープ9を介してモニターテレビ11に映しだす
テレビカメラ、12は熱遮蔽体、13f″i熱遮断用の
反射板で、熱遮蔽体12、反射板13によpウェハホル
ダ微動装置8に対して極低温容器19の冷気を遮蔽する
熱遮蔽構造20が構成されている。熱の2個の熱遮蔽体
24.25の3つの部分から構成され、それぞれ断熱材
26と熱反射用膜27から成る。14は極低温容器19
の外側に設けられ、通常のパーマロイなどの高透磁率材
料で作られた外側磁気遮蔽構造、15は液体ヘリウムデ
ユワ−2の低部内側に設けた内側磁気遮蔽構造である。
この内側磁気遮蔽構造15は、その拡大図の第4図に示
すように、液体ヘリウム温度で透磁率が最大となる強磁
性材料の壁28と超電導材料の壁29から構成されてい
る。
上記のように構成された本発明の第1の実施例の低温テ
スタにおいて、まずウエノ・5を当該装置に装着する。
ウェハ5の装着は第5図に示すようにウェハホルダ微動
装置8、ウェハホルダ7およびプローブカード6を極低
温容器19から引き上げた状態で行う。ウェハ5をウエ
ノ・ホルダ7の先端部に装着したら、この状態でウエノ
・5の太ざつばな位置合わせを行う。位置合わせが終っ
たら、第1図に示すようにウニノーホルダ微動装置8、
ウェハホルダ7およびプローブカード6を極低温容かし
てウェハ5をプローブ針21に接触させウェハ5の検査
を行う。
以上述べてきたように、本実施例の低温テスタにおいて
は、ウェハ5をウェハホルダ7により直の冷却能力を向
上させることができる。
また、ウェハホルダ微動装置8が液体ヘリウムデユワ−
2すなわち極低温容器の外部に設置されており、加えて
該極低温容器の開口部に熱遮蔽体12と反射板13から
成る熱遮蔽構造20が設けられているので、極低温容器
19の冷気がウェハホルダ微動装置8に達せず該ウェハ
ホルダ微動装置8を室温に保つことができ、その可動部
が凍りついたシ、固くなったシするのを防止することが
できる。なお、熱遮蔽体12は第3図に示すようにウェ
ハホルダ7に取付けられたものと極低温容器19の内壁
に設けられたものとから成っているので、ウェハホルダ
7がウェハホルダ微動装置8により移動しても熱遮蔽効
果が損なわれないようになっている。また、極低温容器
19の外側に外側磁気遮蔽構造14が、さらに磁気遮蔽
効果を向上させるために該極低温遮器の内側に内側磁気
遮蔽構造15が設けであるので、磁気に敏感なジョセフ
ソン素子ウエノ・を検査する際、地磁気に対す一ブ針2
1を精度良く支持することができ、またプローブ針21
が極低温で硬化しても、該テフロン樹脂の弾性により該
プローブ針をウエノS5に無理な力をかけずに接触させ
ることができる。
本発明者らの実験によると、この低温テスタの微動装置
8の微動の精度はウエノ・ホルダ微動部8で±2μm1
ウェハ5の面上で±10μmであった。
第2図は本発明の第2の実施例の低温テスタを示す図で
ある。この図において、16は第1の実施例のウェハホ
ルダ微動装置8(第1図)の替わりに設けた、ウェハホ
ルダ7を自動的に微動させるウェハホルダ自動微動装置
、17はマイクロプロセッサを内蔵したコントローラで
、これらによシ自動チップ検査あるいは任意抽出検査な
どを行(9) うことができる。なお、18は検査結果およびチップの
座標を他の計算機に入力させるGP−IBバスインター
フェイスである。
なお、本実施例において第1の実施例と同様の効果を奏
することができるのはいうまでもなく、著しい効果をも
たらす。
〔発明の効果〕
以上説明してきたように本発明によれば、ウェハを直接
液体ヘリウムに浸すので該ウエノ・の冷却能力を向上さ
せることができ、かつ微動装置が極低温容器の外部に設
置されているので該微動装置を室温に保ち良好に動作さ
せることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例の低温テスタの縦断面図
、第2図は第1図のプローブカード6の(10) 拡大断面図、第3図は第1図の熱遮蔽体12の拡大断面
図、第4図は第1図の内側磁気遮蔽構造15の拡大断面
図、第5図は極低温容器からウェハホルダ微動装置8、
ウェハホルダ7およびプローブカード6を引き上げた状
態を示す図、第6図は本発明の第2の実施例の低温テス
タの縦断面図である。 1・・・液体窒素デユワ−12・・・液体ヘリウムデユ
ワ−15・・・ウェハ、6・・・プローブカード、7・
・・ウェブ針、22・・・プローブ針固定用樹脂(支持
部材)。 特許出願人 (11) vij図 第1頁の続き 0発 明 者 用辺潮 国分寺市東恋ケ窪1丁目280番 413−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 16  液体窒素デユワ−およびその内側に配置された
    液体ヘリウムデユワ−から成る極低温容器と、少なくと
    も先端部が前記液体ヘリウムデユワ−内の液体ヘリウム
    に浸り、該先端部に検査すべきウェハを保持するウェハ
    ホルダと、前記極低温容器の外部に設けられ前記ウェハ
    ホルダを微動させるウェハホルダ微動装置と、前記ウェ
    ハに対向して配置されたグローブ針を持つプローブカー
    ドとを具備することを特徴とする低温テスタ。 2、前記極低温容器の開口部を覆う熱遮蔽構造を持つこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の低温テスタ
    。 3、前記プローブカードの近傍にウェハ表面観察用ファ
    イバスコープが設けであることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項または第2項記載の低温テスタ。 4、前記極低温容器の外側または内側の少なくとも一方
    に、磁気遮蔽構造が設けであることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載の低温テ
    スタ。 5、前記プローブカードにテフロン製の前記プローブ針
    の支持部材が設けであることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の低温テスタ。
JP58044436A 1983-03-18 1983-03-18 低温テスタ Granted JPS59172284A (ja)

Priority Applications (1)

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JP58044436A JPS59172284A (ja) 1983-03-18 1983-03-18 低温テスタ

Applications Claiming Priority (1)

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JP58044436A JPS59172284A (ja) 1983-03-18 1983-03-18 低温テスタ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59172284A true JPS59172284A (ja) 1984-09-28
JPS6317352B2 JPS6317352B2 (ja) 1988-04-13

Family

ID=12691436

Family Applications (1)

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JP58044436A Granted JPS59172284A (ja) 1983-03-18 1983-03-18 低温テスタ

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JP (1) JPS59172284A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61168238A (ja) * 1985-01-21 1986-07-29 Fujitsu Ltd 半導体装置の検査装置
JPS62248232A (ja) * 1986-04-22 1987-10-29 Nec Corp 半導体ウエハ検査装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61168238A (ja) * 1985-01-21 1986-07-29 Fujitsu Ltd 半導体装置の検査装置
JPS62248232A (ja) * 1986-04-22 1987-10-29 Nec Corp 半導体ウエハ検査装置

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