JPS59171949A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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- JPS59171949A JPS59171949A JP4575983A JP4575983A JPS59171949A JP S59171949 A JPS59171949 A JP S59171949A JP 4575983 A JP4575983 A JP 4575983A JP 4575983 A JP4575983 A JP 4575983A JP S59171949 A JPS59171949 A JP S59171949A
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- Japan
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- photosensitive resin
- resin composition
- oligomer
- sensitizer
- initiator
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光によって重合する感光性樹脂組成物に関する
ものであり、特にパターン露光によりエソチンク時のフ
第１・レノストとして用いられる感光性樹脂組成物に関
するものである。
ものであり、特にパターン露光によりエソチンク時のフ
第１・レノストとして用いられる感光性樹脂組成物に関
するものである。
一般に、プリント配線＆を製造する場合、銅？山等の導
電体箔上に感光性樹脂組成物いわゆるフＡＩ・レジスト
を塗布し、該フォトレジスト現像してフ第１・レノスＩ
・パターン露光、該パターンをエソヂンクマスクとし微
細な導電パターンを作成している。
電体箔上に感光性樹脂組成物いわゆるフＡＩ・レジスト
を塗布し、該フォトレジスト現像してフ第１・レノスＩ
・パターン露光、該パターンをエソヂンクマスクとし微
細な導電パターンを作成している。
そして、上記の様な用途に用いられるフォトレジストと
しては従来からエン−チオール系感光材料、アシド−・
フェノール樹脂混合系感光材料、環化コム−ビスアジド
樹脂混合系感光材料、α−ジアゾケトン系感光材料、ア
クリル樹脂系感光材料等が知られている。
しては従来からエン−チオール系感光材料、アシド−・
フェノール樹脂混合系感光材料、環化コム−ビスアジド
樹脂混合系感光材料、α−ジアゾケトン系感光材料、ア
クリル樹脂系感光材料等が知られている。
ところで、上記エン−チオール系感光材料を上記フォト
レジストに用いた場合には、塗膜物性の点から露光前、
現像後にセミキュア、ボストキュアという加熱工程を必
要としたり、才だ一般に２５ｍＪ／／ＣＩＩｉ以上の高
照度を必要とするためパターン露光に長時間を要する等
、製造工程の短縮化や簡Ｕ＠化の要望に対応することか
てきない。更に感光材料が高粘度なためコーチインクの
除フォトレノスト する。
レジストに用いた場合には、塗膜物性の点から露光前、
現像後にセミキュア、ボストキュアという加熱工程を必
要としたり、才だ一般に２５ｍＪ／／ＣＩＩｉ以上の高
照度を必要とするためパターン露光に長時間を要する等
、製造工程の短縮化や簡Ｕ＠化の要望に対応することか
てきない。更に感光材料が高粘度なためコーチインクの
除フォトレノスト する。
またアン］〜ーフェノール樹脂混合系感光材利、環化ゴ
ム−ビスアジド樹脂混合系感光材料、αーノアソケトン
系悪感光材料用いた場合には、これら感光材料が溶剤に
溶解した所謂溶剤クイズであるため（こ、塗膜形成後、
この感光材料に含まれる溶剤を揮散さぜるための・＼−
キング工程が必要となって、先のエン−チオール系感光
材料と同様に製造工程の短縮化や簡略化が困難なものと
なる。
ム−ビスアジド樹脂混合系感光材料、αーノアソケトン
系悪感光材料用いた場合には、これら感光材料が溶剤に
溶解した所謂溶剤クイズであるため（こ、塗膜形成後、
この感光材料に含まれる溶剤を揮散さぜるための・＼−
キング工程が必要となって、先のエン−チオール系感光
材料と同様に製造工程の短縮化や簡略化が困難なものと
なる。
また、露光により硬化しエツチングマスクとして用いら
れる硬化物を最終的に剥離する場合には、ｌ・リクロル
エチレンやメヂレンクロライＩ・等の属性の高い有機溶
剤を用いているので、作業者の健康状ｊ魚に悪影響そ及
はしたり、上記溶剤の取り扱いが面倒なものとなる等の
問題が生じている。
れる硬化物を最終的に剥離する場合には、ｌ・リクロル
エチレンやメヂレンクロライＩ・等の属性の高い有機溶
剤を用いているので、作業者の健康状ｊ魚に悪影響そ及
はしたり、上記溶剤の取り扱いが面倒なものとなる等の
問題が生じている。
またアクリル樹脂系感−光材料も溶剤タイプのため（こ
、塗膜形成後肢溶剤を揮散させるためのへ一キング工程
を必要とし、更に現像後のアフターヘークも必要である
等の欠点を有する。
、塗膜形成後肢溶剤を揮散させるためのへ一キング工程
を必要とし、更に現像後のアフターヘークも必要である
等の欠点を有する。
そこで、本発Ｉ！Ｆｌ渚等は、従来技術の前記欠点を解
消ぜんと鋭意イ１）［究の結果、感光性樹脂組成物の主
成分にポリニスデルアクリレ−Ｉ・のモノマ〜あるいは
オリゴマ〜及びボリヒニルフェノール誘導体を用いるこ
とによって、この組成物が優れた塗１１Ｑ物性や硬化特
性を有するとともに露光による硬化部分をアルカリ水溶
液を用いて簡単に剥離することができることｆ見出し、
本発明を完成したものである。
消ぜんと鋭意イ１）［究の結果、感光性樹脂組成物の主
成分にポリニスデルアクリレ−Ｉ・のモノマ〜あるいは
オリゴマ〜及びボリヒニルフェノール誘導体を用いるこ
とによって、この組成物が優れた塗１１Ｑ物性や硬化特
性を有するとともに露光による硬化部分をアルカリ水溶
液を用いて簡単に剥離することができることｆ見出し、
本発明を完成したものである。
すなわち、本発明による感光性樹脂組成物は、ポリエス
テルアクリレートのモノマーあるいはオリゴマーと、ポ
リビニルフェノール誘導体と、光重合開始剤と、増感剤
とを含有してなるものである。
テルアクリレートのモノマーあるいはオリゴマーと、ポ
リビニルフェノール誘導体と、光重合開始剤と、増感剤
とを含有してなるものである。
本発明に用いられるポリエステルアクリレートとしては
次式に、示す化合物が挙げられる。
次式に、示す化合物が挙げられる。
（１１Ｈ２Ｃ＝Ｃ０ＯＨ
Ｈ２Ｃ−ＣＯＯＣＨ２ＣＨＯＣＯＣ，ＨぜＨ２Ｒ，（但
しＢ・］は１１、ＣＨ３又はＣ２ＨＪ）も。
しＢ・］は１１、ＣＨ３又はＣ２ＨＪ）も。
（但しＲ２はＨ，ＣＨ３又はＣ２Ｈ，）ＯＨ３
（３） ＣＨ２”’ＣＨＣＯＯＨ２ＣＣＣＨ２０ＣＯ
ＣＨ”’ＣＨ２ＯＨ３ （４） ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２） Ｓ ０ＣＯＣ
Ｈ＝Ｃ）４２（５］ ＣＨｚ＝ＣＨＣ００（ＣＩ（ｚ
）ａＯｃＯｃＨ＝ｃｉ（２９Ｈ２ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２ （６） ＣＨ２＝ＣＣＯＯＣＨ２−Ｃ−ＲｓＣＨ２Ｃ
ＯＯＣＨ＝ＣＨ２ （但しＲ３はＨ，ＣＨａ又はＣ２Ｈ３）ＨｘＯＨ （７） ＣＨｒ−ＣＨＣｏｏＣＨｚ−Ｃ−ＣＨ２０Ｃ
ＯＣＨ＝ＣＨｚＣＨ２０ＣＯＣＨ＝ＣＨ２ ＯＨ３ ｆ Ｃ１（２ＣＨｚ ０９；、 Ｃ０ＣＨ＝ＣＨ２（但
しｍ、ｎは正の整数であり ｍ＋ｎ＝４） （９） ＣＩ−ｈ ：Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４
Ｎ（ＣＨ３）２（１１） ＣＨ２＝ＣＨＣ００Ｃ）
（ｚｃＨ（ＣｚＨｓ）Ｃ＜Ｈ９α２） ＣＨｚミ（Ｃ
Ｈ３）Ｃ００ＣＨｚＣＨ（ＣｚＨｓ）Ｃ４Ｈ９（１：３
） ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ００（ＣＨ２）□、ＣＨ
ｙ（１４）（ＣＨ２＝ＣＣＯＯＣＨ２）２（４ＣＨｚＯ
Ｈ）２！α５） （ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）ａＣ
ＣＨｚＯＨ（１６） （ＣＨ２＝ＣＣＯＯＣＨ２）ａ
ｃｃ２Ｈｓ（１７） （ＣＨ２＝ＣＣＯＯＣＨ２）
ｓ ＣＣ２，Ｈ５晶３ ＣＨｘＯＣＯＣＨ−ＣＨ２ Ｑ３） ＣＨ２−ＣＨＣｏｏＣＨｚ Ｃ−ＣＨ２０Ｃ
ＯＣＨ＝ＣＨ２ＣＨ２０ＣＯＣＨ＝ＣＨ２ （２１７ＣＨ２シＨＣＯＯ（ＯＨ２ＣＨＣ１４２０）３
ＣＯＣＨ＝ＣＨ２ＯＨ 上記に示したポリエステルアクリレートのモノマー又は
オリゴマーの分子量は１５（１〜Ｉ（１（１０であるの
が好ましい。分子量が１５０未満であると感光性樹脂組
成物の重合度が下がり、塗膜物性が低下してし才う。ま
た分子量がｌｔｌ １１０を超えるさ感光性樹脂組成物
のアルカリ剥離が困難となる。
ＣＨ”’ＣＨ２ＯＨ３ （４） ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２） Ｓ ０ＣＯＣ
Ｈ＝Ｃ）４２（５］ ＣＨｚ＝ＣＨＣ００（ＣＩ（ｚ
）ａＯｃＯｃＨ＝ｃｉ（２９Ｈ２ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２ （６） ＣＨ２＝ＣＣＯＯＣＨ２−Ｃ−ＲｓＣＨ２Ｃ
ＯＯＣＨ＝ＣＨ２ （但しＲ３はＨ，ＣＨａ又はＣ２Ｈ３）ＨｘＯＨ （７） ＣＨｒ−ＣＨＣｏｏＣＨｚ−Ｃ−ＣＨ２０Ｃ
ＯＣＨ＝ＣＨｚＣＨ２０ＣＯＣＨ＝ＣＨ２ ＯＨ３ ｆ Ｃ１（２ＣＨｚ ０９；、 Ｃ０ＣＨ＝ＣＨ２（但
しｍ、ｎは正の整数であり ｍ＋ｎ＝４） （９） ＣＩ−ｈ ：Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４
Ｎ（ＣＨ３）２（１１） ＣＨ２＝ＣＨＣ００Ｃ）
（ｚｃＨ（ＣｚＨｓ）Ｃ＜Ｈ９α２） ＣＨｚミ（Ｃ
Ｈ３）Ｃ００ＣＨｚＣＨ（ＣｚＨｓ）Ｃ４Ｈ９（１：３
） ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｃ００（ＣＨ２）□、ＣＨ
ｙ（１４）（ＣＨ２＝ＣＣＯＯＣＨ２）２（４ＣＨｚＯ
Ｈ）２！α５） （ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）ａＣ
ＣＨｚＯＨ（１６） （ＣＨ２＝ＣＣＯＯＣＨ２）ａ
ｃｃ２Ｈｓ（１７） （ＣＨ２＝ＣＣＯＯＣＨ２）
ｓ ＣＣ２，Ｈ５晶３ ＣＨｘＯＣＯＣＨ−ＣＨ２ Ｑ３） ＣＨ２−ＣＨＣｏｏＣＨｚ Ｃ−ＣＨ２０Ｃ
ＯＣＨ＝ＣＨ２ＣＨ２０ＣＯＣＨ＝ＣＨ２ （２１７ＣＨ２シＨＣＯＯ（ＯＨ２ＣＨＣ１４２０）３
ＣＯＣＨ＝ＣＨ２ＯＨ 上記に示したポリエステルアクリレートのモノマー又は
オリゴマーの分子量は１５（１〜Ｉ（１（１０であるの
が好ましい。分子量が１５０未満であると感光性樹脂組
成物の重合度が下がり、塗膜物性が低下してし才う。ま
た分子量がｌｔｌ １１０を超えるさ感光性樹脂組成物
のアルカリ剥離が困難となる。
本発明に用いられるアルカリ剥離促進補助剤としてのポ
リビニルフェノール誘導体としては一般式。
リビニルフェノール誘導体としては一般式。
（式中、）１−１は−Ｈ，−ＣＨ３および−Ｃ２Ｈ５よ
りなる群から選択された置換基を表 す。） で示される繰り返し単位を有する化合物あるいは一般式 ％式％（（ 択された置換基を表す。） で示される繰り返し単位を有する化合物等が挙けられる
。
りなる群から選択された置換基を表 す。） で示される繰り返し単位を有する化合物あるいは一般式 ％式％（（ 択された置換基を表す。） で示される繰り返し単位を有する化合物等が挙けられる
。
上述に示したポリビニルフェノール誘導体の分子量は５
０００〜１１’０００であるのが好ましい。
０００〜１１’０００であるのが好ましい。
分子量が５ｏｏ、ｏｊ満であると感光性樹脂組成物のつ
′ルカリ剥離が困難となる。また分子量が１］０００を
超えると感光性樹脂組成物の粘度か高くなり、塗布しに
くくなってしまう。ポリビニルフェノール誘導体の添加
量は、ポリエステルアクリレートのモノマー又はオリゴ
マー１００重量部に対して８〜２０重量部であるのが好
ましい。添加量が８重量部未満であると感光性樹脂組成
物のアルカリ剥離性が低下し、また添加量が２０重量部
を越えるとポリビニルフェノール誘導体が固体であるた
め、溶解性が低下してしまう。
′ルカリ剥離が困難となる。また分子量が１］０００を
超えると感光性樹脂組成物の粘度か高くなり、塗布しに
くくなってしまう。ポリビニルフェノール誘導体の添加
量は、ポリエステルアクリレートのモノマー又はオリゴ
マー１００重量部に対して８〜２０重量部であるのが好
ましい。添加量が８重量部未満であると感光性樹脂組成
物のアルカリ剥離性が低下し、また添加量が２０重量部
を越えるとポリビニルフェノール誘導体が固体であるた
め、溶解性が低下してしまう。
本発明に用いられる重合開始剤としては、紫外線を照射
したときに光励起されて容易に光重合反応を開始させる
ものであれば全て用いることができ１例えばヘンンイン
、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインメチルエーテ
ル、ヘンゾインイソブロビルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、デシルフロマイト及びα−メチルベン
ゾイン等のアシロイン並ひにその誘導体；２−メチルア
ントラキノン、シクロヘキサノン及び９−フルオレノン
等のカルボニル化合物；ベンジル及びジアセチル等のタ
ケ１゛ン類；ジフェニルモ／サルファイド、ジフェニル
ジサルファイド、デシルフェニルサルファイド及びテト
ラメチルチウラムモノザルファイト ノン、ペンツフェノン、フェニル−２−ｆエニル’ｒ
ｌ−ン、Ｐ−ジメチルアミノへンゾフエノン及び１）
、 ｌ）−テトラメヂルジアミノヘンゾフエノン等のフ
ェノン％ｉ ； Ｐ − １−ルエンスルホニルクロラ
イト、］−ナナフタレンルホニルクロライド、２−ナフ
タレンスルポニルクロライド、１，３−ヘンセンソスル
ボニルクロライド、’ ２，４−ジニトロヘンセンスル
ホニルブロマイド及びＰ−アセトアミドベンゼン・スル
ホニルクロライＦ等のスルホニルハライド類などを挙げ
ることができるが、芳香族カルボニル化合物が特に好才
しい。
したときに光励起されて容易に光重合反応を開始させる
ものであれば全て用いることができ１例えばヘンンイン
、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインメチルエーテ
ル、ヘンゾインイソブロビルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、デシルフロマイト及びα−メチルベン
ゾイン等のアシロイン並ひにその誘導体；２−メチルア
ントラキノン、シクロヘキサノン及び９−フルオレノン
等のカルボニル化合物；ベンジル及びジアセチル等のタ
ケ１゛ン類；ジフェニルモ／サルファイド、ジフェニル
ジサルファイド、デシルフェニルサルファイド及びテト
ラメチルチウラムモノザルファイト ノン、ペンツフェノン、フェニル−２−ｆエニル’ｒ
ｌ−ン、Ｐ−ジメチルアミノへンゾフエノン及び１）
、 ｌ）−テトラメヂルジアミノヘンゾフエノン等のフ
ェノン％ｉ ； Ｐ − １−ルエンスルホニルクロラ
イト、］−ナナフタレンルホニルクロライド、２−ナフ
タレンスルポニルクロライド、１，３−ヘンセンソスル
ボニルクロライド、’ ２，４−ジニトロヘンセンスル
ホニルブロマイド及びＰ−アセトアミドベンゼン・スル
ホニルクロライＦ等のスルホニルハライド類などを挙げ
ることができるが、芳香族カルボニル化合物が特に好才
しい。
重合開始剤の添加量は、ポリエステ゛）レアクリレート
モノマー又はオリゴマー１００重量部に対して１〜２０
重量部であるのが好ましい。添加量り３１重量部未満で
は感光性樹脂組成物が光により硬化しにくく、ま、た添
加量が２０重量部を越えると感光性樹脂組成物の塗膜物
性だ低下してしまう。
モノマー又はオリゴマー１００重量部に対して１〜２０
重量部であるのが好ましい。添加量り３１重量部未満で
は感光性樹脂組成物が光により硬化しにくく、ま、た添
加量が２０重量部を越えると感光性樹脂組成物の塗膜物
性だ低下してしまう。
本発明に用いられる増感剤としてはｌ− ＩＪエチルア
ミン等のアルキルアミン類、トリエチレンテトラアミン
、テトラエチレンペンタアミン、ペンクエチレンヘキ→
ノーアミン、ジエチレンデトラミン等のエチレンアミン
類が挙げられる。上記した増感剤は、空気中の酸素が紫
外゛線照射による感光性樹脂組成物の表面硬化を遅らせ
るのを防止する作用をするものである。増感剤の添加量
：は、ポリエステルアクリレートモノマー又はオリゴマ
ー１００重量部に対して１〜２重量部であるのが好まし
い。
ミン等のアルキルアミン類、トリエチレンテトラアミン
、テトラエチレンペンタアミン、ペンクエチレンヘキ→
ノーアミン、ジエチレンデトラミン等のエチレンアミン
類が挙げられる。上記した増感剤は、空気中の酸素が紫
外゛線照射による感光性樹脂組成物の表面硬化を遅らせ
るのを防止する作用をするものである。増感剤の添加量
：は、ポリエステルアクリレートモノマー又はオリゴマ
ー１００重量部に対して１〜２重量部であるのが好まし
い。
添加量が１重量部未満では上述した作用を発揮てきす、
韮た添加ニーが２重量部を越えると感光性（ｈ１脂却成
物が凝編してしまう。
韮た添加ニーが２重量部を越えると感光性（ｈ１脂却成
物が凝編してしまう。
本発明による感光性樹脂組成物は溶剤を必要と１−ない
いわゆる無溶剤タイプで高い塗膜物性を有するため、フ
レ・・−り、アフターヘーク等の加熱工程を必要とぜす
、製造工程の簡略化を計ることができ、また無溶剤タイ
プの感光性樹脂組成物にも７））７１）わらず、１００
〜３０００ＣＰＳという低粘度なために、塗膜形成のコ
ーチインク方法としてスピナーコープインク、ロールコ
ーチインク、テイツピング等の種々の方法により塗布可
能てあり、また塗膜にビンポールか生じる虞れもない。
いわゆる無溶剤タイプで高い塗膜物性を有するため、フ
レ・・−り、アフターヘーク等の加熱工程を必要とぜす
、製造工程の簡略化を計ることができ、また無溶剤タイ
プの感光性樹脂組成物にも７））７１）わらず、１００
〜３０００ＣＰＳという低粘度なために、塗膜形成のコ
ーチインク方法としてスピナーコープインク、ロールコ
ーチインク、テイツピング等の種々の方法により塗布可
能てあり、また塗膜にビンポールか生じる虞れもない。
また本発明による感光性樹脂組成物は８〜１０７ｎＪ
／Ｃ１ｎという低照度て硬化する非常ζζ高感１腿な感
光材料であり、こイ１により露光時間が１〜２秒と短縮
され、製造効率を著しく向上させることかできる。
／Ｃ１ｎという低照度て硬化する非常ζζ高感１腿な感
光材料であり、こイ１により露光時間が１〜２秒と短縮
され、製造効率を著しく向上させることかできる。
さらに本発明による感光性樹脂組成物は、アルノＪり剥
離促進補助剤としてポリビニルフェノール誘導体を含有
して鵠るので、この感光性樹脂組成物を露光によ、って
硬化した硬化物をアルカリ水溶液を用いて簡単に剥離す
ることが可能となっている。したがって、毒性の高い有
機溶剤を用いる必−要かなくなり作業環境の改善を図る
ことが可能となる。
離促進補助剤としてポリビニルフェノール誘導体を含有
して鵠るので、この感光性樹脂組成物を露光によ、って
硬化した硬化物をアルカリ水溶液を用いて簡単に剥離す
ることが可能となっている。したがって、毒性の高い有
機溶剤を用いる必−要かなくなり作業環境の改善を図る
ことが可能となる。
また感光性樹脂組成物の生成物としてポリニスデルアク
リレートモノマー又はオリコマ−を用いているため、非
常に安い感光材料となる。
リレートモノマー又はオリコマ−を用いているため、非
常に安い感光材料となる。
また本発明（こよる感光性樹脂組Ｉ３ｙ：物は、２０（
Ｊｎ、７７Ｌ〜３００ｎｍの短波長の紫外線に感光域を
有するため、従来用いられている紫匁線（波長３００ｎ
７１１〜４ＱＱ＋ｔｉ）と比較して回折や干渉による像
のボケが少なくなり、高解像度の露光か可能となる。
Ｊｎ、７７Ｌ〜３００ｎｍの短波長の紫外線に感光域を
有するため、従来用いられている紫匁線（波長３００ｎ
７１１〜４ＱＱ＋ｔｉ）と比較して回折や干渉による像
のボケが少なくなり、高解像度の露光か可能となる。
以下、本発明の具体的な実施例について説明する。
第１表に示すポリエステルアクリレ−Ｉ・のうちの一つ
の化合物の七ツマ−あるいはオリコマ−と、第２表に示
すポリビニルフェノール誘導体のうちの一つの化合物と
、第３表に示す光重合開始剤のうちの一つの化合物と、
第４表に示す増感剤のうちの一つの化合物とをそれぞれ
選択し、これら骨化合物を第５表に示す組成比のうちい
ずれかの割合で混合し゛、得られる混合物を充分攪拌し
て液状の感光性樹脂組成物を作成した。
の化合物の七ツマ−あるいはオリコマ−と、第２表に示
すポリビニルフェノール誘導体のうちの一つの化合物と
、第３表に示す光重合開始剤のうちの一つの化合物と、
第４表に示す増感剤のうちの一つの化合物とをそれぞれ
選択し、これら骨化合物を第５表に示す組成比のうちい
ずれかの割合で混合し゛、得られる混合物を充分攪拌し
て液状の感光性樹脂組成物を作成した。
得られた液状の感光性樹脂組成物をフォ］・レジストと
して用い、銅箔伺き基板上にバーコーターにより１０μ
ｍの厚さに塗布し、フオＩ・レジスＩ・しｆ−′ 膜を形成した出力３ ＫＷの超高圧水銀灯を光源に用い
、ツノラス乾版を介して上記フォトレジスト膜をｒ・１
１ブ（、シた。露光時間は１秒（照度８−Ｊ／ｃ艷）で
ある。露光済のフレトレンスト アルコール類やメチルエチルケ（・ン等のケトン類なと
て現像し、塩化第二鉄溶液て銅箔をエソチンクした後、
４％ＩＮ；＋ＯＩ−Ｉ水醍液でフォトレジスト挨を剥離
した。これにより線幅５０μ２２１のストライブ状の銅
箔パ″クーンが得られた。
して用い、銅箔伺き基板上にバーコーターにより１０μ
ｍの厚さに塗布し、フオＩ・レジスＩ・しｆ−′ 膜を形成した出力３ ＫＷの超高圧水銀灯を光源に用い
、ツノラス乾版を介して上記フォトレジスト膜をｒ・１
１ブ（、シた。露光時間は１秒（照度８−Ｊ／ｃ艷）で
ある。露光済のフレトレンスト アルコール類やメチルエチルケ（・ン等のケトン類なと
て現像し、塩化第二鉄溶液て銅箔をエソチンクした後、
４％ＩＮ；＋ＯＩ−Ｉ水醍液でフォトレジスト挨を剥離
した。これにより線幅５０μ２２１のストライブ状の銅
箔パ″クーンが得られた。
なお、上記各化合物のいかなる組合せによっても１１月
様の効果を竹する感光性樹脂組成物を得ることができた
。
様の効果を竹する感光性樹脂組成物を得ることができた
。
このように本発明による感光性樹脂組成物をプリント配
線板のフォトレジスト 感光性樹脂組成物が無溶剤タイプで高い塗膜物性を有す
るため従来必要であった加熱工程を簡略化するこ乏がで
き、また比較的低照度で硬化しうるためラインのスピー
ド化が計れその製造上のメリットは太きい。
線板のフォトレジスト 感光性樹脂組成物が無溶剤タイプで高い塗膜物性を有す
るため従来必要であった加熱工程を簡略化するこ乏がで
き、また比較的低照度で硬化しうるためラインのスピー
ド化が計れその製造上のメリットは太きい。
更に本発明による感光性樹脂組成物は無溶剤タイプにも
かかわらず、１００〜３ ０ ０ ０ＣＰＳという低粘
度なため種々のコーチインク方法により塗布可能であり
、また塗膜にピンホールが生じない。また上記感光性樹
脂組成物の硬化物をアルカリ水溶液で剥離することがで
きるとともに、未硬化部分をアルコールやケトン等の比
較的毒性の低い有機溶剤で現像することかできるので、
作業環境の向上を図ることが可能となっている。
かかわらず、１００〜３ ０ ０ ０ＣＰＳという低粘
度なため種々のコーチインク方法により塗布可能であり
、また塗膜にピンホールが生じない。また上記感光性樹
脂組成物の硬化物をアルカリ水溶液で剥離することがで
きるとともに、未硬化部分をアルコールやケトン等の比
較的毒性の低い有機溶剤で現像することかできるので、
作業環境の向上を図ることが可能となっている。
一一一
第１表
第２表
第 ３ 表
第４表
Claims (1)
- ポリニスデル７′クリレートのモノマー又はオリゴマー
と、ボリヒニルフェノール誘導体と、光重合開始剤と、
増感剤とを含有してなる感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4575983A JPS59171949A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4575983A JPS59171949A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59171949A true JPS59171949A (ja) | 1984-09-28 |
Family
ID=12728220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4575983A Pending JPS59171949A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59171949A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63304003A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-12 | Somar Corp | 紫外線硬化性組成物 |
| EP0453126A2 (en) * | 1990-04-04 | 1991-10-23 | Hoechst Celanese Corporation | Negative photoresist developable in aqueous base |
| US5147759A (en) * | 1988-04-15 | 1992-09-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photopolymerizable compositions |
| US5344747A (en) * | 1988-04-15 | 1994-09-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photopolymerizable compositions |
| US5922510A (en) * | 1988-04-15 | 1999-07-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photopolymerizable compositions |
| JP2009149793A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Jsr Corp | 液状硬化性樹脂組成物 |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP4575983A patent/JPS59171949A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63304003A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-12 | Somar Corp | 紫外線硬化性組成物 |
| US5147759A (en) * | 1988-04-15 | 1992-09-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photopolymerizable compositions |
| US5344747A (en) * | 1988-04-15 | 1994-09-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photopolymerizable compositions |
| US5922510A (en) * | 1988-04-15 | 1999-07-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photopolymerizable compositions |
| EP0453126A2 (en) * | 1990-04-04 | 1991-10-23 | Hoechst Celanese Corporation | Negative photoresist developable in aqueous base |
| EP0453126A3 (en) * | 1990-04-04 | 1991-12-11 | Hoechst Celanese Corporation | Negative photoresist developable in aqueous base |
| JP2009149793A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Jsr Corp | 液状硬化性樹脂組成物 |
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