JPS5917160B2 - レコ−ド盤用清浄化剤 - Google Patents

レコ−ド盤用清浄化剤

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JPS5917160B2
JPS5917160B2 JP6187179A JP6187179A JPS5917160B2 JP S5917160 B2 JPS5917160 B2 JP S5917160B2 JP 6187179 A JP6187179 A JP 6187179A JP 6187179 A JP6187179 A JP 6187179A JP S5917160 B2 JPS5917160 B2 JP S5917160B2
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JP6187179A
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龍彦 筒井
忠敬 山本
徹 瀬間
憲一 磯部
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Shin Etsu Polymer Co Ltd
Lion Corp
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Shin Etsu Polymer Co Ltd
Lion Corp
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はレコード盤用清浄化剤に関し、更に詳細にはレ
コード盤表面に被膜を形成し、これを剥離除去すること
により、レコード盤表面、その音溝内にあるゴミ、ほこ
り等の汚れをこの被膜に付着させてこれと一緒に除去す
るために使用するレコード盤用清浄化剤に関する。
従来、レコード盤表面に被膜を形成し、この被膜を剥離
除去することにより、これと一緒にレコード盤のゴミ、
ほこり等を除去するようにしたレコード盤用の清浄化剤
として、ポリビニルアルコール等の水溶性高分子、帯電
防止剤、防黴剥、離型剤、界面活性剤を溶剤に溶解した
もの(特開昭50−68980号)、或いはポリ塩化ビ
ニルポリエチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ビロリドン等を単に溶剤に溶かしただけのもの(特公昭
51−43763号)、更には酢酸ビニル系樹脂、DB
PもしくはTCP可塑剤、アミン系表面活性剤を含む帯
電防止剤を溶剤に溶解したもの(特公昭53−1044
4号、10445号)が知られている。
しかし、従来のこの種のレコード盤用清浄化剤は、被膜
の乾燥時間、形成される被膜の表面状態、レコード盤に
対する影響等に必ずしも十分の考慮が払われていない上
、いずれも被膜のレコード盤からの剥離性に問題があり
、被膜がもろく、剥離の途中で被膜が切れたり、或いは
被膜がレコード盤に接着し、被膜がレコード盤に残る如
き欠点を有している。
また特に、上述したDBP,TCPを可塑剤として用い
たもの(特公昭53−10444号、10445号)は
、これら可塑剤がレコード盤を侵したり、接着の原因と
なる問題もあり、剥離被膜型のレコード盤用清浄化剤と
して満足したものがないのが現状である。本発明者らは
、上記事情に鑑み、清掃効果が良好であることは勿論、
剥離時に途中で切れたりレコード盤に接着したりするこ
とがなく、連続一様に剥離し得、しかもレコード盤を侵
したりすることもない剥離被膜型のレコード盤用清浄化
剤を得るため鋭意研究を行なつた結果、水溶性高分子と
してポリビニルアルコール、特に重合度400〜250
0、ケン化度40〜90モル?のもの、もしくはハイド
ロキシプロピルセルロース、特に5重量%エタノール溶
液の粘度が10〜1000センチポイズのものが優れた
被膜特性を有することを見い出すと共に、これに剥離剤
として炭素数12〜18の高級脂肪酸、炭素数12〜1
8の高級脂肪族アルコール、又は下記式(1)(式中R
は炭素数1〜4の非置換の一価炭化水素基、aは1〜1
00、bは2〜50、cは1〜5、Xは2〜40の正数
である。
)で示されるオルガノポリシロキサンの1種もしくは2
種以上を前記樹脂100重量部に対して0.01〜5重
量部配合し、かつ同時に可塑剤として多価アルコール又
は下記式(2)(式中Rは炭素数1〜4の非置換の一価
炭化水素基、bは2〜50,.cは1〜5、Xは2〜4
0の正数である。
)で示されるオルガノポリシロキサンの1種又は2種以
上を前記樹脂100重量部に対して1〜10重量部配合
し、更に帯電防止剤、特にアルキルアミンエチレンオキ
シド付加体を配合することにより、初めて被膜の剥離性
が良好になり、レコード盤になめらかで均一かつ柔軟な
被膜が形成されると共に、剥離性がよく、これを剥離す
る時、連続一様のフイルムとして簡単に剥離し得ること
を知見した。かつ、前記樹脂被膜にレコード盤表面、音
溝のゴミ、ほこり等が付着し、被膜の除去によりこれら
汚れも一緒に除去されてレコード盤がきれいに清掃され
、しかもその使用によりレコード盤を侵すようなことも
なく、また被膜剥離後ゴミ、ほこり等が付着し難いこと
を知見し、本発明をなすに至つたものである。以下、本
発明につき詳しく説明する。
本発明において、被膜形成主剤として用いる樹脂はポリ
ビニルアルコール及び/又はハイドロキシプロピルセル
ロースであり、使用性の面からポリビニルアルコールと
しては重合度が400〜2500でケン化度が40〜9
0モル%のものが好ましく、ハイドロキシプロピルセル
ロースとしては5重量%エタノール溶液の粘度が10〜
1000センチポイズの範囲にあるものが好ましい。
ポリビニルアルコールとして重合度が400より小さい
もの、或いはハイドロキシエチルセルロースとして5重
量%エタノール溶液の粘度が10センチポイズより小さ
いものを用いる場合には清浄化剤を塗布、乾燥後被膜を
形成しにくくなる。また、ポリビニルアルコールとして
重合度が2500より大きいもの、或いはハイドロキシ
エチルセルロースとして5重量%エタノール溶液の粘度
が1000センチポイズより大きいものを使用する場合
には清浄化剤の粘度が高くなりすぎて塗布しにくくなる
。この場合、配合量を少なくして希溶液とすることは可
能であるが、被膜として50〜80μの膜厚のものを得
るためには数回の塗布が必要になる。なお、ポリビニル
アルコールの更に望ましい重合度は400〜1700で
ある。これら樹脂の配合量は後述する溶剤100部(重
量部、以下同じ)に対し5〜30部である。
これより樹脂の配合量が少ないと被膜が良好に形成し難
く、また樹脂配合量が上述した範囲より多いと高粘度に
なり過ぎて使用し難く、好ましくない。また本発明では
、上記の樹脂に加えて、剥離剤として炭素数12〜18
の高級脂肪酸、例えばラウリン酸、ステアリン酸、パル
ミチン酸等や炭素数12〜18の高級脂肪族アルコール
、例えばステアリルアルコール、ラウリルアルコール等
、又は上述した式(1)で示されるオルガノポリシロキ
サン、例えば後述する式A,Cで示されるものを前記樹
脂100部に対して0.01〜5部配合する。
これら剥離剤のうちでは(1)式のオルガノポリシロキ
サンが効果が高く、乾燥後はなめらかな被膜表面を得る
ことができるという特徴も兼ね備えている。また、本発
明では前記剥離剤と共に、可塑剤として多価アルコール
、例えばエチレングリコールやグリセリン、又は上述し
た式(2)で示されるオルガノポリシロキサン、例えば
後述する式B,Dで示されるものを樹脂100部に対し
て1〜10部配合する。この場合、前記(2)式のオル
ガノポリシロキサンは前記(1)式のオルガノポリシロ
キサンの樹脂との相溶性を高める働きを有し、また剥離
性を向上させる。このように前記剥離剤、可塑剤を加え
ることによりポリビニルアルコール及び/又はハイドロ
キシプロピルセルロースの被膜の剥離性、柔軟性が向上
し、また均一性も増し、被膜剥離時において被膜が切れ
たりレコード盤に接着したりすることなく、連続一様の
フイルムとなつて簡単に剥離することができるものであ
る。これに対し、前記剥離剤、可塑剤を配合しないもの
は被膜の剥離性、柔軟性が十分でなく、また被膜が不均
一で凸凹し、剥離途中で切れたり接着したりする場合が
あり、本発明の目的を達成し得ない。特に、可塑剤とし
て従来より用いられてきたDOA,DBP,TCP等は
、レコード盤原料である塩化ビニル主体の塩化ビニル一
酢酸ビニル共重合体にも使用されるので、レコード盤に
悪影響を及ぼし、レコード盤を侵したり接着の原因とな
るため使用し得ない。また、剥離剤、可塑剤の配合量が
上述した範囲より少ないと、十分な被膜の均一性、剥離
性、柔軟性が得られず、本発明の効果が生じない。逆に
剥離剤、可塑剤を上述した範囲より多く配合しても配合
量増によるそれ以上の効果が得られず、かえつて液の均
一性、被膜の均一性に悪影響を及ぼす上、清浄化剤塗布
後の乾燥時間が長くなり、また被膜がべたつく場合があ
り、好ましくない。なお、前記剥離剤、可塑剤はそれぞ
れその1種を使用しても2種以上を併用するようにして
もよい。
また、これら剥離剤、可塑剤のうちでは、式(1)のオ
ルガノポリシロキサンと式(2)のオルガノポリシロキ
サンの組合せが好ましい。なお、これらオルガノポリシ
ロキサンは安全性、溶解性(溶剤、樹脂との相溶性)に
優れたものである。更に、本発明においては帯電防止剤
を配合する。
これによつて被膜剥離後にレコード盤にゴミ、ほこり等
が容易に付着することが防止される。帯電防止剤として
は、非イオン系の界面活性剤で高級アルコールエチレン
オキシド付加体、脂肪酸エチレンオキシド付加体、アル
キルアミンエチレンオキシド付加体等があるが、特に下
記(3)式(式中Rは炭素数12〜18のアルキル基、
M,nぱそれぞれ1〜10の整数である。)で示される
アルキルアミンエチレンオキシド付加体が効果がある。
なお、これら帯電防止剤は樹脂100部に対し0.01
〜10部の配合量とする。また溶剤としては前記樹脂、
その他の成分を溶解し、かつレコード盤を侵さないもの
であればいずれのものでも使用でき、水、水一低級アル
コール混合物等が用いられるが、水−エタノール混合物
が良く、特に水が多いと乾燥時間が長くなるため、エタ
ノール50重量%以上の水−エタノール混合溶剤が好適
に用いられる。
なお、本発明においては上記成分に加えて防黴剤、色素
、香料等を混合することもできる。
本発明のレコード盤用清浄化剤は、前記ポリビニルアル
コール及び/又はハイドロキシプロピルセルロース、剥
離剤、可塑剤、帯電防止剤等を加えて前記溶剤に分散、
溶解することによつて製造されるが、場合により適宜な
噴射剤を加えてエアゾール化することもできる。この清
浄化剤は、レコード盤表面に適宜方法で塗布し、前記樹
脂の被膜を形成することにより使用するもので、この被
膜を剥離することにより、レコード盤表面、その音溝の
ゴミ、ほこり等の汚れが被膜に付着してこの被膜と一緒
に除去され、レコード盤がきれいに清掃されるものであ
る。
なお、レコード盤に形成する被膜は、一般に音溝の深さ
が30〜40μあるので、50〜80μの厚さになるよ
うに塗布することが好ましい。而して、本発明に係るレ
コード壁用清浄化剤は、ポリビニルアルコール及び/又
はハイドロキシプロピルセルロースに上述した剥離剤、
可塑剤、帯電防止剤を上述した範囲で配合したことによ
り、レコード盤表面に均一で表面状態が良好である上、
柔軟性があり、剥離性の優れた被膜が形成され、その被
膜の剥離時において、被膜が途中で切れたりレコード盤
に接着して残つたりする不都合もなく、連続一様のフイ
ルムとなつて簡単に剥離除去することができ、非常に使
用性に優れたものである。
また、レコード盤表面、音溝内のゴミ、ほこり等が確実
に被膜に付着して除去され、清掃効果にも優れていると
共に、レコード盤を傷めることもなく、レコード盤用清
浄化剤として好適なものである。また、被膜剥離後レコ
ード盤表面にゴミ、ほこり等が付着し難いものである。
以下、実施例と比較例を示し、本発明を更に具体的に説
明する。
なお、下記の例において”部1はいずれも重量部を示す
。実施例 1 実施例 実施例 sr111 実施例 4 実施例 比較例 〜 ′〜)υ1er崎、、 比較例 2 上記各例に係るレコード盤用清浄化剤はいずれも溶剤(
エタノール一水)に他の各成分を溶解することにより製
造した。
なお、オルガノポリシロキサンA−Dの構造式は下記の
通りである。次に、上記各例の清浄化剤を塩化ビニル一
酢酸ビニル共重合体製のレコード盤に約350〜400
μ塗布して約50μの被膜を形成し、被膜の乾燥時間、
形成された膜の表面状態、柔軟性、レコード盤からの被
膜の剥離性、清掃効果、被膜剥離後の帯電性を調べた。
また比較のため、市販されて・る清浄化剤(市販品1:
剥離被膜タイプのもの、j販品2:エアゾールタイプで
レコード盤に液を−支霧した後、拭き取るタイプのもの
)を用い、同哀に実験を行なつた。第1表にその結果を
示す。
以上の結果より、本発明に係る清浄化剤は、被 20〕
膜の表面状態も良く、清掃効果にも優れている上、被膜
の剥離時において連続一様に剥離し、被膜に柔軟性があ
るため途中で切れることもなく、非常に剥離し易いもの
であることが認められた。
また市販品と比較して被膜剥離後にゴミが付着し難い
25ものであつた。また、下記実施例、比較例のレコー
ド盤清浄化剤を製造し、その被膜の特性を上述した方法
と同様の方法により調べた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 樹脂としてのポリビニルアルコール及び/又はハイ
    ドロキシプロピルセルロースと、炭素数12〜18の高
    級脂肪酸、炭素数12〜18の高級脂肪族アルコール及
    び下記(1)式▲数式、化学式、表等があります▼・・
    ・(1)(式中Rは炭素数1〜4の非置換の一価炭化水
    素基、aは1〜100、bは2〜50、cは1〜5、x
    は2〜40の正数である。 )で示されるオルガノポリシロキサンから選ばれる1種
    もしくは2種以上の剥離剤と、多価アルコール及び下記
    (2)式▲数式、化学式、表等があります▼・・・(2
    )(式中Rは炭素数1〜4の非置換の一価炭化水素基、
    bは2〜50、cは1〜5、xは2〜40の正数である
    。 )で示されるオルガノポリシロキサンから選ばれる1種
    もしくは2種以上の可塑剤と、帯電防止剤と、及び前記
    樹脂、剥離剤、可塑剤、帯電防止剤を溶解する溶剤とを
    主構成成分としてなり、前記樹脂の配合量が溶剤100
    重量部に対して5〜30重量部であると共に、前記剥離
    剤の配合量が樹脂100重量部に対して0.01〜5重
    量部であり、かつ前記可塑剤の配合量が樹脂100重量
    部に対して1〜10重量部であり、前記帯電防止剤の配
    合量が樹脂100重量部に対して0.01〜10重量部
    であり、レコード盤表面に前記樹脂の被膜を形成するよ
    うにしたことを特徴とするレコード盤用清浄化剤。2
    ポリビニルアルコールが重合度400〜2500でケン
    化度が40〜90モル%のものである特許請求の範囲第
    1項記載の清浄化剤。 3 ポリビニルアルコールが重合度400〜1700で
    ケン化度が40〜90モル%のものであり、剥離剤とし
    て(1)式で示されるオルガノポリシロキサンを用いた
    特許請求の範囲第2項記載の清浄化剤。 4 ハイドロキシプロピルセルロースが5重量%エタノ
    ールの粘度が10〜1000センチポイズのものである
    特許請求の範囲第1項記載の清浄化剤。 5 溶剤がエタノールを50重量%以上含有する水−エ
    タノール混合物である特許請求の範囲第1項乃至第4項
    いずれか記載の清浄化剤。 6 帯電防止剤が下記(3)式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(3)(式中
    Rは炭素数12〜18のアルキル基、m、nはそれぞれ
    1〜10の正数である。 )で示されるアルキルアミンエチレンオキシド付加体で
    ある特許請求の範囲第1項乃至第5項いずれか記載の清
    浄化剤。7 樹脂として重合度400〜1700でケン
    化度40〜90モル%のポリビニルアルコールを使用し
    、剥離剤として(1)式で示されるオルガノポリシロキ
    サンを使用し、可塑剤として(2)式で示されるオルガ
    ノポリシロキサンを使用し、帯電防止剤として(3)式
    で示されるアルキルアミンエチレンオキシド付加体を使
    用し、かつ溶剤としてエタノールを50重量%以上含有
    する水−エタノール混合物を使用した特許請求の範囲第
    6項記載の清浄化剤。
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JPS55155099A JPS55155099A (en) 1980-12-03
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WO1991013697A1 (fr) * 1990-03-16 1991-09-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Procede de nettoyage et appareil prevu a cet effet
EP3499873A2 (en) 2017-12-15 2019-06-19 Canon Kabushiki Kaisha Correction of detection error in photon counting image sensor

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