JPS59170751A - 板状物の検査装置 - Google Patents
板状物の検査装置Info
- Publication number
- JPS59170751A JPS59170751A JP715384A JP715384A JPS59170751A JP S59170751 A JPS59170751 A JP S59170751A JP 715384 A JP715384 A JP 715384A JP 715384 A JP715384 A JP 715384A JP S59170751 A JPS59170751 A JP S59170751A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- photomask
- mask
- defect
- observed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフォトマスク等の検査装置に関するものである
。
。
シリコン半導体装置の製造に不可欠な写真処理には半導
体基板表面に塗布したラオトレジスト（感光性耐食樹脂
）膜を選択的に感光させる工程が必要となる。この感光
処理は、透明ガラス板の一生面にクロム等からなる金属
膜を所要のパターンに形成してなるフォトマスクを使用
しフォトレジスト膜を形成したウェハ状の半導体基板表
面に密着させた状態で露光し選択的感光させることによ
り行われる。そして、一枚のフォトマスクをま数十枚、
数百枚のウエノ・に対する感光処理に使用され、その間
にフォトマスクに傷がつくことがある。
体基板表面に塗布したラオトレジスト（感光性耐食樹脂
）膜を選択的に感光させる工程が必要となる。この感光
処理は、透明ガラス板の一生面にクロム等からなる金属
膜を所要のパターンに形成してなるフォトマスクを使用
しフォトレジスト膜を形成したウェハ状の半導体基板表
面に密着させた状態で露光し選択的感光させることによ
り行われる。そして、一枚のフォトマスクをま数十枚、
数百枚のウエノ・に対する感光処理に使用され、その間
にフォトマスクに傷がつくことがある。
この傷は例えば、半導体ウエノ・表面に存在する異物に
よってガラスマスクをウエノ・に密着させた際に生じる
。この傷があると、フォトレジスト膜が所要とするパタ
ーンと異なるノくターンに感光され、不良発生の原因と
なる。したがって、フォトマスクは使用回数に応じて時
々検査される。
よってガラスマスクをウエノ・に密着させた際に生じる
。この傷があると、フォトレジスト膜が所要とするパタ
ーンと異なるノくターンに感光され、不良発生の原因と
なる。したがって、フォトマスクは使用回数に応じて時
々検査される。
ところで、このフォトマスクの検査は一般に検査員がフ
ォトマスク表面状態を顕微鏡で拡大して目視することに
より行っていた。
ォトマスク表面状態を顕微鏡で拡大して目視することに
より行っていた。
このような目視検査によれば、検査時間が極めて長く（
マスク１枚を検査するのに２〜３時間程度かかる。）か
かり省力化が要請されている。そのために自動的に欠陥
（傷）の有無を認識できるようにすることが検討された
が、自動ノ（ターン認識装置によれば欠陥とマスクツ〈
ターンとを一体にしてしかパターン認識することができ
ず、認識された結果から直接にきずのみを抽出し、きず
有無の検出結果を得ることは困難であった。
マスク１枚を検査するのに２〜３時間程度かかる。）か
かり省力化が要請されている。そのために自動的に欠陥
（傷）の有無を認識できるようにすることが検討された
が、自動ノ（ターン認識装置によれば欠陥とマスクツ〈
ターンとを一体にしてしかパターン認識することができ
ず、認識された結果から直接にきずのみを抽出し、きず
有無の検出結果を得ることは困難であった。
本発明はマスクの欠陥のみを明確に検出し、延いては自
動的にフ第１・マスクの検査ができるようにすることを
目的とするものである。
動的にフ第１・マスクの検査ができるようにすることを
目的とするものである。
上記目的を達成するだめの本発明の一実施例は、透明板
表面に不ｄり明体膜を部分的に形成してなるフォトマス
クの内部に向って平行光線を投射し、主光軸と異なった
角度より上記透明板の主面内面で乱反射する光線を検知
することにより上記フォトマスク表面の傷を検査するこ
とを特徴とするものである。
表面に不ｄり明体膜を部分的に形成してなるフォトマス
クの内部に向って平行光線を投射し、主光軸と異なった
角度より上記透明板の主面内面で乱反射する光線を検知
することにより上記フォトマスク表面の傷を検査するこ
とを特徴とするものである。
以下本発明を実施例により説明する。
第１図はフォトマスク側面より平行光を照射し、フォト
マスク表面と垂直方向より検知する一実施例に係る検査
装置の構成図である。
マスク表面と垂直方向より検知する一実施例に係る検査
装置の構成図である。
１は検査すべきフォトマスクを複数枚収納するマスク収
納治具、２はフォトマスクを順次一枚ずつマスク載置台
に供給するために必要な収納治具１への送り（上下方向
の送り）をかけるための収納治具送り駆動部、３はフォ
トマスクを順次一枚ずつ横方向に移動させることにより
マスク載置台にローディングするためのマスク送り部、
４は被検前マスクを載置するためのマスク載置台、５は
マスク載置台をＹ−Ｙ方向に移動させる駆動部、６はマ
スク載置台４をＹ−Ｙ駆動部５も含めてＸ−Ｘ移動させ
る載置台送り駆動部、７はフォトマスクに対してその側
面から内部に向ってマスクの主面と平行方向に投射する
平行光線を発生するレーザ光線発生器である。レーザ光
線で検査するのはレーザ光線が極めて平行度の良い平行
光線であるからである。９は対物レンズ、１０はリレー
レンズ、１１は目視観察を行なう場合の照明光線をフォ
トマスクに上方向から投射するための反射俤、１２は目
視観察をするだめの僻、１３はレンズ、１４はアパーチ
ャー、１５は反射光検知用光電変換器、］６は光電変換
器からの電気的情報を処理することにより異物の存在９
位置、数を検出するための検出回路装置、１７は目視観
察用接眼レンズ、１８はレンズ、１９は目視観察用投下
照明用光源である。
納治具、２はフォトマスクを順次一枚ずつマスク載置台
に供給するために必要な収納治具１への送り（上下方向
の送り）をかけるための収納治具送り駆動部、３はフォ
トマスクを順次一枚ずつ横方向に移動させることにより
マスク載置台にローディングするためのマスク送り部、
４は被検前マスクを載置するためのマスク載置台、５は
マスク載置台をＹ−Ｙ方向に移動させる駆動部、６はマ
スク載置台４をＹ−Ｙ駆動部５も含めてＸ−Ｘ移動させ
る載置台送り駆動部、７はフォトマスクに対してその側
面から内部に向ってマスクの主面と平行方向に投射する
平行光線を発生するレーザ光線発生器である。レーザ光
線で検査するのはレーザ光線が極めて平行度の良い平行
光線であるからである。９は対物レンズ、１０はリレー
レンズ、１１は目視観察を行なう場合の照明光線をフォ
トマスクに上方向から投射するための反射俤、１２は目
視観察をするだめの僻、１３はレンズ、１４はアパーチ
ャー、１５は反射光検知用光電変換器、］６は光電変換
器からの電気的情報を処理することにより異物の存在９
位置、数を検出するための検出回路装置、１７は目視観
察用接眼レンズ、１８はレンズ、１９は目視観察用投下
照明用光源である。
以下に具′体重にどのようにフォトマスクを検査するか
について説明する。
について説明する。
最初にマスク収納治具１に収納されたフォトマスク２０
をマスク載置台４へ不透明部付着表面を１幌察方向と反
対に向けてローディングする。
をマスク載置台４へ不透明部付着表面を１幌察方向と反
対に向けてローディングする。
マスク載置台４上のフォトマスク２０に対しては、その
側面から内部に向ってレーザ光線が投射される。そして
レーザ光線がガラス板表面の欠陥部分において乱反射す
る光の有無を光検知機構において検知する。マスク載置
台は第３図に示すようにＸ−Ｘ方向に移動する。また、
マスク載置台をＹ方向に１ピツチずつ間欠的に移動する
ことにより移動さぜ、フォトマスク全面を一定時間（例
えば１５分間）内にくまなく検査する。全面検査を終え
たらフォトマスクをマスク収納治具１に戻し、次のフォ
トマスクを取り出して検査する。
側面から内部に向ってレーザ光線が投射される。そして
レーザ光線がガラス板表面の欠陥部分において乱反射す
る光の有無を光検知機構において検知する。マスク載置
台は第３図に示すようにＸ−Ｘ方向に移動する。また、
マスク載置台をＹ方向に１ピツチずつ間欠的に移動する
ことにより移動さぜ、フォトマスク全面を一定時間（例
えば１５分間）内にくまなく検査する。全面検査を終え
たらフォトマスクをマスク収納治具１に戻し、次のフォ
トマスクを取り出して検査する。
第２図（ａ） 、 （ｂ）は本発明による検査装置の原
理を説明する説明図である。
理を説明する説明図である。
＜ａ＞しま欠陥がない場合を示す。この場合は、マスク
２０の一方の側面から内部に向って照射された平行光線
がガラス板２１内を何の障害もなく通過し、他方の側面
から出て行くの４である。したがって、この状態を上方
から観察しても光は検知されず、視野全体が黒く見える
だけである。
２０の一方の側面から内部に向って照射された平行光線
がガラス板２１内を何の障害もなく通過し、他方の側面
から出て行くの４である。したがって、この状態を上方
から観察しても光は検知されず、視野全体が黒く見える
だけである。
（ｂ）は欠陥２３がある場合を示す。この場合はガラス
板２１に向って照射された平行光線が欠陥２３のある部
分で乱反射し、一部の乱反射光が上方に 。
板２１に向って照射された平行光線が欠陥２３のある部
分で乱反射し、一部の乱反射光が上方に 。
向うので、上方から観察すると欠陥部分が光って見える
。すなわち黒い背景に欠陥部分のみが光を放つのである
。
。すなわち黒い背景に欠陥部分のみが光を放つのである
。
したがって、光の有無によって欠陥の有無が判定でき、
自動的に検査することが極めて容易になる。すなわち、
従来のようなフォトマスク表面に対して上方から光を照
射することにより検査する方法ではマスクパターンと欠
陥との双方が検出され、検出結果に対してマスクパター
ンの一部を成すか欠陥をなすかの評価をすることが必要
であり、自動的検査が極めて困難であったが、本発明に
よれば欠陥部分のみが光を放ち、マスクパターンからは
光が放たれないので、光を検知すれば即ち欠陥かあると
判’ｕｉ−ｊることかできるので自動的検査をすること
ができるのである。
自動的に検査することが極めて容易になる。すなわち、
従来のようなフォトマスク表面に対して上方から光を照
射することにより検査する方法ではマスクパターンと欠
陥との双方が検出され、検出結果に対してマスクパター
ンの一部を成すか欠陥をなすかの評価をすることが必要
であり、自動的検査が極めて困難であったが、本発明に
よれば欠陥部分のみが光を放ち、マスクパターンからは
光が放たれないので、光を検知すれば即ち欠陥かあると
判’ｕｉ−ｊることかできるので自動的検査をすること
ができるのである。
また、欠陥を目視観察をしたい場合は接眼レンズ１７及
び投下照明用光源１９によってフ、１ ）マスク２０の
表面に上方から光を照射した状態で目視する。
び投下照明用光源１９によってフ、１ ）マスク２０の
表面に上方から光を照射した状態で目視する。
以上説明し、たように本発明によれば欠陥部分のみを光
らせることができるので自動的に検査することが可能と
なり、省力化、検丘能率の向上を図ることができるので
ある。
らせることができるので自動的に検査することが可能と
なり、省力化、検丘能率の向上を図ることができるので
ある。
第１図は本発明の一実施例に係る検査装置の説明図であ
る。 第２図（ａ）、 （ｂ）は本発明の原理を示すフォトマ
スクの側面断面図であり、（ａ）が欠陥のないフォトマ
スク、（ｂ）が欠陥のあるフォトマスクを示す。 第３図はフォトマスクに対する光の照射方向（Ａｌ〜Ａ
ｎ ）と検知位置の移動（破線Ｂ）を示すためのマスク
の平面図である。 １・・・マスク収納治具、２・・・収納治具送り駆動部
、：３・・・マスク送り部、４・・・マスク載置台、５
・・・Ｙ−Ｙ方向駆動部、６・・・Ｘ−Ｘ載置台送り駆
動部、７・・・レーザ光線発生器、８−＝−偏光板、９
・・・対物レンズ、１０・・・リレーレンズ、ｌ］、］
２・・傳イ、１３・・・レンズ、１４・・・アノく−チ
ャー、１５・・・反射光検知用光電変換器、ｊ６・・・
検出回路装置、１７．１８・・・レンズ、］９・・・投
下照明用光源、２０・・・被検査フォトマスク、２１・
・・ガラス板、２２・・・ノくターン膜。
る。 第２図（ａ）、 （ｂ）は本発明の原理を示すフォトマ
スクの側面断面図であり、（ａ）が欠陥のないフォトマ
スク、（ｂ）が欠陥のあるフォトマスクを示す。 第３図はフォトマスクに対する光の照射方向（Ａｌ〜Ａ
ｎ ）と検知位置の移動（破線Ｂ）を示すためのマスク
の平面図である。 １・・・マスク収納治具、２・・・収納治具送り駆動部
、：３・・・マスク送り部、４・・・マスク載置台、５
・・・Ｙ−Ｙ方向駆動部、６・・・Ｘ−Ｘ載置台送り駆
動部、７・・・レーザ光線発生器、８−＝−偏光板、９
・・・対物レンズ、１０・・・リレーレンズ、ｌ］、］
２・・傳イ、１３・・・レンズ、１４・・・アノく−チ
ャー、１５・・・反射光検知用光電変換器、ｊ６・・・
検出回路装置、１７．１８・・・レンズ、］９・・・投
下照明用光源、２０・・・被検査フォトマスク、２１・
・・ガラス板、２２・・・ノくターン膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、（ａ）被検査板状物の載置台と （ｂ）上記板状物の内部に光を照射するための発光装置
と （ｃ）上記板状物の表面または内部の欠陥により外部に
反射される光を検出する光検出装置よりなることを特徴
とする板状物の検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP715384A JPS59170751A (ja) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | 板状物の検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP715384A JPS59170751A (ja) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | 板状物の検査装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15291877A Division JPS5485793A (en) | 1977-12-21 | 1977-12-21 | Inspecting method of photo masks |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59170751A true JPS59170751A (ja) | 1984-09-27 |
Family
ID=11658120
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP715384A Pending JPS59170751A (ja) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | 板状物の検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59170751A (ja) |
-
1984
- 1984-01-20 JP JP715384A patent/JPS59170751A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2796316B2 (ja) | 欠陥または異物の検査方法およびその装置 | |
| JPS61501062A (ja) | 暗視野照明を用いた検査システム | |
| JPS58120155A (ja) | レチクル異物検出装置 | |
| JPH075115A (ja) | 表面状態検査装置 | |
| JP3803109B2 (ja) | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 | |
| JP4626764B2 (ja) | 異物検査装置及び異物検査方法 | |
| JPS6345541A (ja) | 検査方法および装置 | |
| JPS59170751A (ja) | 板状物の検査装置 | |
| JPS61207953A (ja) | 自動外観検査装置 | |
| JP2705764B2 (ja) | 透明ガラス基板の欠陥検出装置 | |
| JPS6342222B2 (ja) | ||
| JP2603078B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JP4521548B2 (ja) | 検査装置、検査方法及びパターン基板の製造方法 | |
| JPH0312542A (ja) | マスク表面検査装置 | |
| JPH09218162A (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JPS6130731B2 (ja) | ||
| JPS6130730B2 (ja) | ||
| JPS60124833A (ja) | 多層回路パターン検査装置 | |
| JPH0336550A (ja) | フォトマスク検査方法及び検査装置 | |
| JP3243822B2 (ja) | マスクの検査方法及びレチクル・マスク | |
| JPH03160450A (ja) | マスクの欠陥検査方法 | |
| JPS62134647A (ja) | 異物検査装置 | |
| JPS6211145A (ja) | 異物検査装置 | |
| JP2001264262A (ja) | 表面異物検査方法および表面異物検査装置 | |
| JPH0582933B2 (ja) |