JPS59164907A - 位置読取り装置 - Google Patents

位置読取り装置

Info

Publication number
JPS59164907A
JPS59164907A JP4022683A JP4022683A JPS59164907A JP S59164907 A JPS59164907 A JP S59164907A JP 4022683 A JP4022683 A JP 4022683A JP 4022683 A JP4022683 A JP 4022683A JP S59164907 A JPS59164907 A JP S59164907A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
shutter
coincidence
degree
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4022683A
Other languages
English (en)
Inventor
Daisuke Ogawara
大河原 大輔
Kazumasa Okumura
一正 奥村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP4022683A priority Critical patent/JPS59164907A/ja
Publication of JPS59164907A publication Critical patent/JPS59164907A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体組立て等に利用される半導体チップ及び
基板の位置読取り装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点 近年、位置読取り装置はIC等半導体をワイヤーボンデ
ィングするため半導体チップの位置を読取るのに利用さ
れ始めている。
以下、図面を参照しながら上述したような従来の位置読
取9装置について説明を行なう。
第1図は従来の位置読取り装置の構成を示すものである
。第1図において1は撮像装置、2は撮像装置1を駆動
するだめの同期信号発生回路、3は走査ビームの位置を
得るための座標発生回路、4は撮像装置1から映像信号
を2値化する2値化回路、5は2値化された信号を一致
度検出を行なうために2次元的なパターンとして並列的
に切出す切出し回路、6はあらかじめ登録されているパ
ターンが一致度検出ができる形で記憶されている標準パ
ターン記憶回路、7は切出し回路5で切出されるパター
ンと標準パターン記憶回路6に記憶されているパターン
とを比較し、一致の度合いを検出する一致度検出回路、
8は一致度を記憶する一致度記憶回路、9は一致度の比
較を行なう比較回路、10は一致度検出回路7よシ出力
された一致度を一致度記憶回路8へ伝えるゲート回路、
11は座標発生回路3より出力された座標を座標記憶回
路へ伝えるゲート回路、12は走査ビームの座標を記憶
する座標記憶回路、13は位置を読取るべき対象物、1
4は対象物13を照明するための光源、15は光源14
の光を対象物13へ集光させるだめのレンズ、16は光
源14の光を対象物13へ導くためのハーフミラ−11
7は対象物13の像を撮像装置1に結ぶだめの光学系で
ある。
以上のように構成された位置読取り装置について、以下
その動作について説明する。
光源14で発光した光はレンズ15を通過し、ハーフミ
ラ−16で光路を変えて対象物13を照明している。対
象物13の像は光学系17を通って撮像装置1に結像し
映像信号に変換されて2値化回路4へ出力される。この
時の走査ビームは同期信号発生回路2が発生した同期信
号に同期しておりその座標は座標発生回路3により常時
得られる。
次に映像信号は2値化回路4で2値化信号に変換され、
切出し回路5で一致度の検出ができるように映像情報が
縦横ある大きさく例えば16X16画素)をもった2次
元的なパターンとして読み出される。一致度検出回路7
では、切出し回路5で切出されたパターンと標準パター
ン記憶回路6に記憶されている標準パターンとを比較し
一致の度合いを検出する。検出された一致度は一致度記
憶回路8に過去において記憶されている一致度と比較回
路9で比較し、検出した一致度の方が大きい時にゲート
回路1oを開いて一致度記憶回路8の内容を更新する。
この比較回路9の出力はさらにゲート回路11にも送ら
れ、その時の走査ビームの座標値を座標記憶回路12へ
導き、過去に記憶された座標を更新する。
この動作を繰り返し走査の終了するフレームの最後の時
点では、あらかじめ記憶されている標準パターンに最も
合致したパターンが存在した画像中の座標位置X、Yが
その時の一致度と共に記憶され保持される。
しかしながら、上記のような構成では撮像条件の異なる
2種類のパターンの位置を読取ることができなかった。
例えば全自動でノ・イブリッドICのワイヤーボンディ
ングを行なう場合は、半導体チップの位置を読取ると同
時に半導体チップが装着されている基板の位置も読みと
る必要があるが、半導体チップのパターンを撮像するた
めの光学系と同じ光学系では、基板に印刷されている金
などのパターンを撮像した場合、コントラストが悪いな
どの理由で位置読取りは不可能であシ、ノ・イブリッド
ICのワイヤーボンディングの全自動化ができなかった
発明の目的 本発明は上記欠点に鑑みノ1イブリッドICなど基板と
半導体チップの両方の位置を読取り全自動でワイヤーボ
ンディングを行なうために必要な位置読取り装置を提供
するものである。
発明の構成 本発明は、2台の撮像装置と上記2台の撮像装置σに倍
率の違う像を各々結像させるための1本の光学系と落射
照明及び透過照明の2種類の照明装置と上記2台の撮像
装置からの映像を切換える映像信号切換装置と上記2種
類の照明装置からの照明光を切換える照明切換装置と1
台の位置認識装置から構成されておシ、1台の認識装置
にて2種類の位置を読取ることができるものである。
実施例の説明 以下水゛発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。  ゛ 第2図は本発明の一実施例における位置読取り装置の構
成を示すものである。第2図において、20は第1図で
説明した位置認識装置、21a〜bは撮像装置、22は
撮像装置21a−bからの映像信号を選択し切換える映
像切換装置、23は対象物への照明光を選択し切換える
照明切換装置、24a−bはレンズからなる光学系で撮
像装置21aには高倍率の像が、撮像装置21bには低
倍率の像が結像される。25 a −bはノ・−7ミラ
ー、26は照明光を集光させるレンズ、27a〜bはシ
ャッター、28は対象物、29は対象物28をのせてい
るスリガラス、30 a −bは光のである。
以上のように構成された位置読取り装置について、以下
その動作について説明する。
1ず対象物28の基板に印刷されたパターンの位置を読
取るために照明切換装置23はシャッター 27 aを
閉じシャッター27bを開ける。光源30bから出だ光
はスリカラス29を通って対象物28を下から照明する
。ここで説明のために第3図にハイブリッドICの一例
を示す。A及びBのところに半導体チップが装置されて
おりその他の斜線の部分に金の印刷パターンが存在しそ
の周囲は基板の素地である白いセラミックとなっている
。従ってハイブリッドICを下から照明すれば白のセラ
ミゾク部分は白く、半導体チップ及び金の印刷パターン
部分は白く見え、その像は、ハーフミラ−25a−b、
光学系24 a −bを通って撮像装置21a−bに結
像される。映像切換装置22は低倍率の映像を出力して
いる撮像装置21′bの映像信号を選択し、位置認識装
置20へ出力チる。これは基板の印刷パターンは半導体
チップのパターンに比べて極部的には形状が安定してい
ないために半導体チップよりも低倍率に拡大された像を
見た方が有利であり、半導体チップに比べて高い読取シ
精度も要求されないためである。位置認識装置2oでは
第1図で説明した経路を通シ、基板の読取り位置とその
一致度を出力する。
次に半導体チップの位置を読取るだめ、照明切換装置2
3はシャッター27bを閉じシャッター27aを開ける
0光源30 aから出た光がレンズ26及びハーフミラ
−25bを通って照明している対象物28の像は光学系
24a −bを通って撮像装置21a、−bの両方に・
結像するが、映像切換装置22は撮像装置21aの映像
を選択することによシ、高倍率に撮像された映像が位置
認識装置20へ出力される。位置認識装置20では基板
の場合と同様にして読取位置と一致度が出力される。
以上のように本実施例によれば、シャッターと撮像装置
からの映像を切換ることにより、1台の位置認識装置で
ハイブリッドICなどの基板と半導体チップの両方の位
置を読取ることができる。
発明の効果 以上のように本発明は、倍率の違う像を各、々結像でき
る光学系とそれらの像をそれぞれ映像信号に変換する撮
像装置を有し、落射照明と透過照明を切換え、また2種
類の映像信号を切換えて位置認識をすることにより、ノ
・イブリッドICなどの基板と半導体チップの両方の位
置を読取ることができるため、上記ハイブリッドICな
どのワイヤーボンディングを全自動で行なうことが可能
となり、その実用的効果は大なるものがある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の位置読取り装置の構成を示す図、第2図
は本発明の一実施例における位置読取り装置の構成を示
す図、第3図はノ・イブリッドICの一例を示す図であ
る。 20・・・・・・位置認識装置、21a−b・・・・・
・撮像装置、22・・・・・・映像切換装置、ス3・・
・・・・照明切換装置、24a〜b・・・・・・光学系
、30a・・・・・・・落射照明用光源、3ob・・・
・・・透過照明用光源。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 対象物を高倍率と低倍率の両方に結像できる光学系と、
    上記高倍率の像を第1の映像信号に変換する第1の撮像
    装置と、前記低倍率の像を第2の映像信号に変換する第
    2の撮像装置と、前゛記憶1および第2の映像信号を各
    々切換える手段と、落射照明をする手段と、透過照明を
    する手段と、上記落射照明と透過照明を交互に切換える
    手段と、上記映像信号から位置認識する手段とを有する
    位置読取り装置。
JP4022683A 1983-03-10 1983-03-10 位置読取り装置 Pending JPS59164907A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4022683A JPS59164907A (ja) 1983-03-10 1983-03-10 位置読取り装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4022683A JPS59164907A (ja) 1983-03-10 1983-03-10 位置読取り装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59164907A true JPS59164907A (ja) 1984-09-18

Family

ID=12574831

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4022683A Pending JPS59164907A (ja) 1983-03-10 1983-03-10 位置読取り装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59164907A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02147813A (ja) * 1988-11-29 1990-06-06 Toshiba Corp 2軸スターセンサ
JPH0533006U (ja) * 1991-10-07 1993-04-30 三洋電機株式会社 電子部品の位置検出装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02147813A (ja) * 1988-11-29 1990-06-06 Toshiba Corp 2軸スターセンサ
JPH0533006U (ja) * 1991-10-07 1993-04-30 三洋電機株式会社 電子部品の位置検出装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4608494A (en) Component alignment apparatus
US4893346A (en) Apparatus for automatically inspecting objects and identifying or recognizing known and unknown portions thereof, including defects and the like, and method
US4942618A (en) Method and apparatus for determining the shape of wire or like article
KR930008773B1 (ko) 검사대상 패턴용 결함 검출방법 및 그 장치
US5894530A (en) Optical viewing system for simultaneously viewing indicia located on top and bottom surfaces of a substrate
US5459794A (en) Method and apparatus for measuring the size of a circuit or wiring pattern formed on a hybrid integrated circuit chip and a wiring board respectively
US4212031A (en) Method of aligning a body
US5621218A (en) Method and apparatus inspecting bonding-wire status using a plurality of light sources
JPH11183389A (ja) 観測装置
KR930014867A (ko) 본딩와이어 검사장치
JP3170598B2 (ja) 外観検査装置
JPS59164907A (ja) 位置読取り装置
JPH1068614A (ja) 撮像装置
JP2001155160A (ja) 電子部品の外観検査装置
US7760928B2 (en) Focus error correction system and method
JP2976550B2 (ja) パターン欠陥検出方法
JPH0429041A (ja) 配線パターン検査装置
KR930014869A (ko) 본딩와이어 검사장치
JPH03108735A (ja) 比較検査方法および装置
KR100971173B1 (ko) 웨이퍼 결함을 신속하게 검출하는 온-라인 전기-광학 검출방법과 시스템
JPS6048683B2 (ja) 物体表面状態検査方法とその検査装置
JP3201396B2 (ja) 半導体デバイスの製造方法
JPS6227933Y2 (ja)
JP2002162366A (ja) 欠陥検査方法とその装置、及び欠陥の自動分類のための欠陥位置検出方法
JPH02247510A (ja) 外観検査装置