JPS59164653A - 金属被覆光フアイバ−の製造方法 - Google Patents

金属被覆光フアイバ−の製造方法

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JPS59164653A
JPS59164653A JP58038736A JP3873683A JPS59164653A JP S59164653 A JPS59164653 A JP S59164653A JP 58038736 A JP58038736 A JP 58038736A JP 3873683 A JP3873683 A JP 3873683A JP S59164653 A JPS59164653 A JP S59164653A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical fiber
metal
ultraviolet rays
organometallic
production
Prior art date
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Pending
Application number
JP58038736A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirokuni Nanba
宏邦 難波
Hajime Osaka
始 大坂
Kouichi Kamon
香門 浩一
Fumiaki Higuchi
文章 樋口
Motoharu Kikuchi
菊池 茂登治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication of JPS59164653A publication Critical patent/JPS59164653A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は金属被覆光ファイバーの製造方法に係わる。
〔背景技術〕
石英ガラス等よりなる光ファイバーでは、通常紡糸直後
に、樹脂捷たは金属によるプライマリ−コーテングを施
し、光フアイバ表面に微細の傷の発生するのを防雨し、
光ファイバーの強度向上をはかつている。
本発明は」−記被覆のうち、金属を被覆する方法に係わ
るものであるが、捷ず第1図により従来法を説明する。
図において、1は紡糸された光ファイバーであり、2U
[カーボンるつぼを示し、3は前記るつほに貯えられた
アルミ、鉛、錫等比較的融点の低い溶融金属を示してい
る。
光ファイバー” fニーh方より下方に送り、カーボン
るつぼ2の下方のノズル9より前記溶融金属が徐々に流
出する状態で、光ファイバー1を接し、被覆を行えば、
4で示す金属被覆層をそなえる金属被覆光ファイバー1
′が得られる。
ところがこのような製造方法では、光ファイバー1が溶
融金属に直接接触し、高温にさらされるため、冷却後熱
膨張係数の違いから光ファイバー1と被覆金属4に残留
応力を発生し、光ファイバー1′の伝送ロスが増大する
ことがある。
〔発明の開示〕
以」二説明したように、金属を溶融させて光ファイバー
に被覆すると最終的に光ファイバーの伝送ロスを増大さ
せるおそれがあるので、本発明は有機金属化合物の紫外
線による分解反応を用いることにより、光フアイバー上
に金属被覆層を形成させ、安定性の優れた金属被覆光フ
ァイバーを提供しようとするものである。
第2図に本発明を実施する装置の一例を概略的に示す。
図において5は反応容器であり、後述の紫外線を通過さ
せる窓を有するもの、あるいは全体紫外線を通過させ、
且つその材質は内部で生ずる反応に関与しないものが選
択される。
反応容器口はその上下面中心に光ファイバー1,1′を
通過させる挿通孔6,6′を備え、捷た上方には排気孔
7、下方には有機金属原料ガス等供給孔8おいて均一に
生じさせるように配置されることが望ましい。
有機金属化合物としては(CH3) 3Ga 、 (C
’2H’5 ) 3Ga 。
(CH8)aA/<、 (C2H8)3A/、(CH3
)2Zn、 (C2H5)2Zn等が用いられる。
図において11は恒温槽を示し、12は有機金属化合物
(液体)を示し、有機金属化物12はキャリヤガスH2
により、有機金属原料ガスとして前記有機金属原料ガス
等供給孔8より反応容器5の内部に供給される。」1方
より下方に送られる光ファイバー1は反応容器5に入る
前に、必要に応じ加熱炉等を通し、反応を生ずる適温に
保持される。
前記有機金属原料ガス等供給孔8より反応容器5内に供
給さね、た有機金属原料ガスは光ファイバー1および被
覆を生じた光ファイバー1′に接するが、特に光ファイ
バー1の外表面に紫外線が照射するようにしておけば、
この光ファイバー1の外表面に接したガスはここで、例
えば次の反応を起して光ファイバー1の外表面に金属を
被覆し、照射を受ける間に、その厚みを順次増加させる
例えば有機金属原料ガスに(CI!3)3Gaか用いら
れているときの反応に1−次のとおりである。
(CHg)3Ga −w Ga十3 (CH3)同様に
(CH3) 3Ag 、 (Ctlg ) 2Zn等を
用いれは、光ファイバー1の表面にAC+ Znの被覆
膜を得るこ占ができる。
前記紫外線源としては、紫外線ランプ、エキシマ−−レ
ーザー、Yへ〇レーザーの第2高調波、アルゴンイオン
化レーザー等が用いられる。
また光ファイバーの温度は金属被覆膜の結晶成長を容易
にするだめ、できるだけ高温が望捷しいが、本発明の低
温での被覆により伝送ロスの増大現象を低下させるとい
う点からはできるだけ低温がよく、実用的な温度範囲と
して光ファイバーの表面温度が200〜400°Cが望
捷しい。更に前記反応例においては、一種の有機金属原
料ガスのみを供給するように説明したが、同時に複数種
の有機金属原料ガスを供給し、合金組成の金属被覆膜を
形成=5− することもできるし、区分した反応容器を使用すれば、
異種金属被覆膜を重複被覆することもできる。
〔実施例〕
(”” 8 ) B A(3YC用い、キャリヤガスと
してH2を用いて、次の試作、試験を行った。
石英光ファイバーの線径:12571m(屈折率差1%
のグレーデツトインデックスファイバー) 被 覆 金 属    ニアルミニウム被  覆  厚
     =5μm 装置温度  :350°C 試作品の特性 伝送特性(oス)    : 1 dB/km(at 
1.3 μm)  で変化なし 強  さ       :初期強度5 Kg/ 1本で
経時変化殆んどなし、樹脂被覆した光ファイ バーに比較し防水性安定 〔作用、効果〕 以上説明したように本発明は紫外線による光分解反応(
光誘起反応)を利用するため、光ファイバーの温度が低
くてよく、光ファイバー七金属=6一 被覆膜との間に残留歪みを生じることなく、密着性がよ
く、且つ防水性を有し、伝送損失の増大を招くことかな
い金属被覆光ファイバーを得ることかできる。
また原料が気体の形で供給されるため、拡散によって光
ファイバーの円周方向に均一に金属膜が形成され、捷だ
原料有機金属化合物の濃度、供給量の制御が容易であり
、これにより金属膜厚の制御か簡単に実施できるように
なった。
更に有機金属化合物を複数種類使用することにより、合
金の形成が可能となり、純金属の使用の場合に比較して
高強度被覆が可能となる。
まだ本発明は光フアイバー防止の直後に実施することが
好適である。
以上のように本発明によれば、極めて良質の金属被覆光
ファイバーを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来法を実施する装置の概略図である。 第2図は本発明を実施する装置の概略図である。 1・・光ファイバー、1′・・・金属被覆された光ファ
イバー、2・・・カーボンるつぼ、3・・溶融金属、4
・・・金属被覆層、5・・・反応容器、6.6′・・・
光フアイバー挿通孔、7・・・排気孔、8 有機金属原
料ガス等供給孔、9・・・ノズル、10・・・紫外線源
、11・・・恒温槽、12・・・有機金属化合物。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (+)  有機金属化合物の紫外線による分解反応を用
    いることにより、光フアイバー上に金属被覆層を形成す
    ることを特徴とする金属被覆光ファイバーの製造方法。 (2)  有機金属化合物として、(CH8)8Ga。 (C2H5)BGa、 (CH3)BA7(、(C2H
    s)aAj?、 (CHB)2Zn。 (C112H5) 2Znの一種または複数種を用いる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の金属被覆
    光ファイバーの製造方法。 (3)  光ファイバーの温度ヲ200〜400℃に保
    つことを特徴とする特許請求の範囲第1項もしくは第2
    項記載の金属被覆光ファイバーの製造方法。
JP58038736A 1983-03-08 1983-03-08 金属被覆光フアイバ−の製造方法 Pending JPS59164653A (ja)

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5641860A (en) * 1979-09-06 1981-04-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Optical fiber reinforcing method
JPS5696704A (en) * 1979-12-17 1981-08-05 Hughes Aircraft Co Oxide layer optical gas phase cladding method
JPS5767161A (en) * 1980-10-08 1982-04-23 Nec Corp Forming device for thin film by laser
JPS5826047A (ja) * 1981-08-10 1983-02-16 Furukawa Electric Co Ltd:The 被覆光ファイバの製造方法

Patent Citations (4)

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