JPS59156935A - シリカガラスの製造方法 - Google Patents
シリカガラスの製造方法Info
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- JPS59156935A JPS59156935A JP2910083A JP2910083A JPS59156935A JP S59156935 A JPS59156935 A JP S59156935A JP 2910083 A JP2910083 A JP 2910083A JP 2910083 A JP2910083 A JP 2910083A JP S59156935 A JPS59156935 A JP S59156935A
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- JP
- Japan
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- methanol
- silica glass
- gel
- water
- mixed
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- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はシリコンメトキシドのメタノール−水混合溶液
を加水分解してゲル化させ、次いで得られる多孔性シリ
カゲルを加熱焼結してシリカガラスを得る方法に関する
０ シリコンアルコキシドを出発原料とし、これをアルコー
ル−水混液と混合して加水分解、ゲル化させ、次いで加
熱焼結してシリカガラスを得る方法（以下「ゾル−ゲル
法」と呼ぶ）は、知られている〔窯業協会誌８６，１１
，１９７８．第５５２〜５５９頁、同８７．８．１９７
９．第４３４〜４３８頁等参照〕。この方法は従来より
よく知られている方法即ち水晶等を原料として、これを
溶融ガラス化させる方法や８ｉ（３／４．５ｉｎ４等を
原料とするＯ Ｖ Ｄ （ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒ
ＤｅｐＯ８，１ｔｉｏｎ ）法等に比し、（イ）よシ
高純度且つ均質なシリカガラスが製造できる、 （ロ）比較的低温で目的とするガラスを収得できる、等
の優れた特徴を有しており、殊に高純度を要求される光
学ガラス等の製造法として注目され且つ種々研究がなさ
れて−る。しかしながら上記ゾル−グル法は、 １）ゲル化工程におけるゲルの収縮の際、亀裂が入シや
すい、 （１）ゲルの加熱、焼結の際、発泡したり破損する場合
がある、 等の重大な欠点があシ、大型で透明な目的とするガラス
を再現性よく収得できるものではなく、その工業的実施
は尚困難とされている。
を加水分解してゲル化させ、次いで得られる多孔性シリ
カゲルを加熱焼結してシリカガラスを得る方法に関する
０ シリコンアルコキシドを出発原料とし、これをアルコー
ル−水混液と混合して加水分解、ゲル化させ、次いで加
熱焼結してシリカガラスを得る方法（以下「ゾル−ゲル
法」と呼ぶ）は、知られている〔窯業協会誌８６，１１
，１９７８．第５５２〜５５９頁、同８７．８．１９７
９．第４３４〜４３８頁等参照〕。この方法は従来より
よく知られている方法即ち水晶等を原料として、これを
溶融ガラス化させる方法や８ｉ（３／４．５ｉｎ４等を
原料とするＯ Ｖ Ｄ （ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒ
ＤｅｐＯ８，１ｔｉｏｎ ）法等に比し、（イ）よシ
高純度且つ均質なシリカガラスが製造できる、 （ロ）比較的低温で目的とするガラスを収得できる、等
の優れた特徴を有しており、殊に高純度を要求される光
学ガラス等の製造法として注目され且つ種々研究がなさ
れて−る。しかしながら上記ゾル−グル法は、 １）ゲル化工程におけるゲルの収縮の際、亀裂が入シや
すい、 （１）ゲルの加熱、焼結の際、発泡したり破損する場合
がある、 等の重大な欠点があシ、大型で透明な目的とするガラス
を再現性よく収得できるものではなく、その工業的実施
は尚困難とされている。
本発明者らは、上記ゾル−ゲル法に見られる欠点をすべ
て解消し、比較的容易な操作で所望の高純度、均質でし
かも大型で透明なシリカガラスを常に再現性よく且つ高
い歩留りで収得する方法を確立することを目的として鋭
意研究を重ねてきた○その過程においてシリコンメトキ
シドを出発原料とし、その加水分解、ゲル化時のｐＨが
生成物にどのような影響を与えるかを観察した所、上記
ｐＨが得られる多孔性シリカゲルの細孔分布や嵩密度に
大きく影響し、しかもこのゲルの細孔分布及び嵩密度が
該ゲルの引き続く加熱、焼結時の発泡、ひび割れに重大
な影響を与えることを見い出した。即ち上記シリカゲル
の細孔分布が２０〜３０Ａにピークを持っていたり、嵩
密度が０．８以上の場合は、１１００°Ｃ程度以上の高
温になると発泡、ひび割れを生じ目的とするガラスは得
られず、細孔分布が１００Ａ以上の大きなボアを多く含
み且つ嵩密度が０．８以下、好ましくは０．５〜０，７
であるゲルが望ましいことを発見した。しかしてこの様
なゲルは、原料溶液のｐＨをアルカリ域特に９．５〜ｌ
００５程度とすることにより得られる反面、かかるｐＨ
条件下でのゲル化反応によれば、ゲルの収縮時に得られ
るゲル自体が低密度であるためひびが入ったシ割れたシ
することが多く、ゲル化反応自体非常に厳格な条件下即
ち原料液からの水及びアルコールの蒸発を夫々特定の速
度で非常にゆつ〈シと行なう必要があり、殊に上記水と
メタノールとの夫々の蒸発速度を厳密に管理することは
不可能と考えられた。しかるに引き続く研究の結果上記
原料溶液のゲル化反応工程を水とメタノールとの特定比
率の混合蒸気中で行なう時には、所望の細孔分布及び嵩
密度を有するゲルが可ら亀裂や割れの発生を伴われるこ
となく容易に再現性よくしかも高い歩留りをもって製造
でき、該ゲルからはこれを加熱焼結することにより、そ
の際の温度条件に左右されることなく、目的とする大型
で透明なシリカガラスが容易に収得できることを見い出
した。
て解消し、比較的容易な操作で所望の高純度、均質でし
かも大型で透明なシリカガラスを常に再現性よく且つ高
い歩留りで収得する方法を確立することを目的として鋭
意研究を重ねてきた○その過程においてシリコンメトキ
シドを出発原料とし、その加水分解、ゲル化時のｐＨが
生成物にどのような影響を与えるかを観察した所、上記
ｐＨが得られる多孔性シリカゲルの細孔分布や嵩密度に
大きく影響し、しかもこのゲルの細孔分布及び嵩密度が
該ゲルの引き続く加熱、焼結時の発泡、ひび割れに重大
な影響を与えることを見い出した。即ち上記シリカゲル
の細孔分布が２０〜３０Ａにピークを持っていたり、嵩
密度が０．８以上の場合は、１１００°Ｃ程度以上の高
温になると発泡、ひび割れを生じ目的とするガラスは得
られず、細孔分布が１００Ａ以上の大きなボアを多く含
み且つ嵩密度が０．８以下、好ましくは０．５〜０，７
であるゲルが望ましいことを発見した。しかしてこの様
なゲルは、原料溶液のｐＨをアルカリ域特に９．５〜ｌ
００５程度とすることにより得られる反面、かかるｐＨ
条件下でのゲル化反応によれば、ゲルの収縮時に得られ
るゲル自体が低密度であるためひびが入ったシ割れたシ
することが多く、ゲル化反応自体非常に厳格な条件下即
ち原料液からの水及びアルコールの蒸発を夫々特定の速
度で非常にゆつ〈シと行なう必要があり、殊に上記水と
メタノールとの夫々の蒸発速度を厳密に管理することは
不可能と考えられた。しかるに引き続く研究の結果上記
原料溶液のゲル化反応工程を水とメタノールとの特定比
率の混合蒸気中で行なう時には、所望の細孔分布及び嵩
密度を有するゲルが可ら亀裂や割れの発生を伴われるこ
となく容易に再現性よくしかも高い歩留りをもって製造
でき、該ゲルからはこれを加熱焼結することにより、そ
の際の温度条件に左右されることなく、目的とする大型
で透明なシリカガラスが容易に収得できることを見い出
した。
本発明は、上記新しい知見に基づいて完成されたもので
あり、その要旨とする所は、シリコンメトキシドのメタ
ノール−水混合溶液を加水分解してゲル化させ、次いで
得られる多孔性シリカゲルを加熱焼結してシリカガラス
を得るに当り、上記原料溶液のｐＨを９．５〜１Ｏ１５
に調整すると共にゲル化反応を水とメタノールとのｌ：
０．５〜９モル比ｌｊｖ合蒸気雰囲気中で行なうことを
特徴とするシリカガラスの製造方法にある。
あり、その要旨とする所は、シリコンメトキシドのメタ
ノール−水混合溶液を加水分解してゲル化させ、次いで
得られる多孔性シリカゲルを加熱焼結してシリカガラス
を得るに当り、上記原料溶液のｐＨを９．５〜１Ｏ１５
に調整すると共にゲル化反応を水とメタノールとのｌ：
０．５〜９モル比ｌｊｖ合蒸気雰囲気中で行なうことを
特徴とするシリカガラスの製造方法にある。
本発明方法によれば、上記特定のｐＨ条件を採用し、且
つゲル化反応工程を特定比率の水−メタノール混合蒸気
雰囲気中で行なうことに基づいて、該ゲル化反応工程は
勿論のこと引き続く加熱焼結工程での高温加熱によって
も何らひび割れ乃至亀裂等の発生がなく、容易に再現性
よくしかも高い歩留ＤＴｈもって大型透明な目的とする
シリカガラスを収得できる。
つゲル化反応工程を特定比率の水−メタノール混合蒸気
雰囲気中で行なうことに基づいて、該ゲル化反応工程は
勿論のこと引き続く加熱焼結工程での高温加熱によって
も何らひび割れ乃至亀裂等の発生がなく、容易に再現性
よくしかも高い歩留ＤＴｈもって大型透明な目的とする
シリカガラスを収得できる。
本発明方法は、上記特定のｐｌ（条件の採用及び特定比
率の水−メタノール混合雰囲気中でのゲル化反応を行な
うことを必須とする以外は、公知のゾル−ゲル法と同様
にして実施できる。
率の水−メタノール混合雰囲気中でのゲル化反応を行な
うことを必須とする以外は、公知のゾル−ゲル法と同様
にして実施できる。
用イられるシリコンメトキシドのメタノール−水混合溶
液からの加水分解、ゲル化反応は、次式に示される反応
に従い進行する。
液からの加水分解、ゲル化反応は、次式に示される反応
に従い進行する。
ｎ８ｉ（ＯＣＨｇ）４＋４ｎＨ２０
→ｎ８１（０）ｆ）４＋ｎＣＨｇ０）（ｍ １ｉ）ｎ８
ｉ （Ｏｔｉ） ４−＋ ｎ８１０２ ＋２ｎ）（２
０−１２１上記反応は、より詳細には、まずシリコンメ
トキシドに水及びメタノールを加え原料ゾル液とする。
ｉ （Ｏｔｉ） ４−＋ ｎ８１０２ ＋２ｎ）（２
０−１２１上記反応は、より詳細には、まずシリコンメ
トキシドに水及びメタノールを加え原料ゾル液とする。
その際本発明では適当なアルカリ、例えばアンモニア水
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を用いて原料ゾ
ル液のｐＨを９．５〜１０．５．好ましくは１０．０〜
！０．２の範囲に調整する。次いで該ゾル液を適当な形
状の容器に入れ、該容器を密閉放置し、上記加水分解及
びゲル化反応を該密閉容器内で進行させ、ゾルが完全に
固化した後、得られるゲル体を容器と共に、適当な水−
メタノール混合蒸気雰囲気中に移し、容器を開口して乾
燥を行なわせる。上記タル化反応の温度は通常的３０〜
１００°Ｃとするのが好ましく、また混合蒸気雰囲気中
での乾燥は約５０〜９０°Ｃの温度条件下に行なうのが
好ましｂｏ特に本発明では、この乾燥工程を水対メタノ
ールがｌ：０．５〜９モル比、好ましくはｌ：約１〜３
モル比の混合蒸気雰囲気中で行なうことが」要であり、
これによって始めて乾燥時のゲルｄ収縮が非常に円滑に
進行し、適度の細孔径及び嵩密度を有し、亀裂等のない
多孔性シリカゲルが得られるのである。上記乾燥収縮操
作は、よシ具体的には、例えば添付の第１図に示さｒる
如き雰囲気調整恒温器内で実施される。該第１図は本発
明方法を実施するに適したひとつの装置の概略図であシ
、図中（１）は原料ゾル液の加水分解、ゲル化用容器、
・（２）はゲル化反応後のゲバ収縮している）、（３）
は恒温器、（４ａ）乃至（４ｄ）は弁、（５）は減圧ポ
ンプ、（６）は雰囲気調整用水−メタノール混液を夫々
示す。
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を用いて原料ゾ
ル液のｐＨを９．５〜１０．５．好ましくは１０．０〜
！０．２の範囲に調整する。次いで該ゾル液を適当な形
状の容器に入れ、該容器を密閉放置し、上記加水分解及
びゲル化反応を該密閉容器内で進行させ、ゾルが完全に
固化した後、得られるゲル体を容器と共に、適当な水−
メタノール混合蒸気雰囲気中に移し、容器を開口して乾
燥を行なわせる。上記タル化反応の温度は通常的３０〜
１００°Ｃとするのが好ましく、また混合蒸気雰囲気中
での乾燥は約５０〜９０°Ｃの温度条件下に行なうのが
好ましｂｏ特に本発明では、この乾燥工程を水対メタノ
ールがｌ：０．５〜９モル比、好ましくはｌ：約１〜３
モル比の混合蒸気雰囲気中で行なうことが」要であり、
これによって始めて乾燥時のゲルｄ収縮が非常に円滑に
進行し、適度の細孔径及び嵩密度を有し、亀裂等のない
多孔性シリカゲルが得られるのである。上記乾燥収縮操
作は、よシ具体的には、例えば添付の第１図に示さｒる
如き雰囲気調整恒温器内で実施される。該第１図は本発
明方法を実施するに適したひとつの装置の概略図であシ
、図中（１）は原料ゾル液の加水分解、ゲル化用容器、
・（２）はゲル化反応後のゲバ収縮している）、（３）
は恒温器、（４ａ）乃至（４ｄ）は弁、（５）は減圧ポ
ンプ、（６）は雰囲気調整用水−メタノール混液を夫々
示す。
第１図に示す装置を用いる本発明方法によれば、容器＋
１）内に収容され、蓋（図示せず）で覆われ密閉された
状態で加水分解、ゲル化されたゲル体（２）は、開口さ
れ、恒温器（３）内に移され、ここで水−メタノール混
液（６）の蒸気による所定の蒸気雰囲気下に所定温度（
通常好ましくは約５０〜７００Ｃりに保持され、脱アル
コール及び脱水によシ収縮する。かくして得られる所望
の多孔質ゲル体は、引き続き常法に従い乾燥器内で加熱
乾燥され、次いで通常の方法に従って加熱焼結される。
１）内に収容され、蓋（図示せず）で覆われ密閉された
状態で加水分解、ゲル化されたゲル体（２）は、開口さ
れ、恒温器（３）内に移され、ここで水−メタノール混
液（６）の蒸気による所定の蒸気雰囲気下に所定温度（
通常好ましくは約５０〜７００Ｃりに保持され、脱アル
コール及び脱水によシ収縮する。かくして得られる所望
の多孔質ゲル体は、引き続き常法に従い乾燥器内で加熱
乾燥され、次いで通常の方法に従って加熱焼結される。
該加熱焼結は常法に従い約１１００〜１２０００の範囲
で実施でき、特に本発明では上記ゲル体の特性に基づい
て、上記１２０００程度の高温条件の採用によっても、
実質的に発泡や破損のない透明均質な所期のシリカガラ
スを収得でき、これは高温焼結により、その耐熱性等が
一層改善される利点がある。
で実施でき、特に本発明では上記ゲル体の特性に基づい
て、上記１２０００程度の高温条件の採用によっても、
実質的に発泡や破損のない透明均質な所期のシリカガラ
スを収得でき、これは高温焼結により、その耐熱性等が
一層改善される利点がある。
次に、本発明を実施例によってさらに具体的に説明する
が、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に
よって限定されるものではない。
が、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に
よって限定されるものではない。
実施例１
この方法は、第１図に示す装置を用いて実施した。
８１（００Ｈｇ）４ １モルに対してＣＨＢＯＨ４，６
モルおよびアンモニア水にてｐ）（＝ Ｉ Ｏ，２に調
整したＨ２ＯＩ Ｑモルを５００にて１時間程攪拌混合
し、この混合溶液を内面に薄くグリースを塗った内径４
０ｍｍのガラス容器１１）に移した後、フタ（図示せず
）Ｋて容器開口部を密閉した。そしてこの容器を６５０
〜７０Ｃの恒温器内に入れた。容器内の混合溶液が３〜
４時間後に完全に同化した後、７゜０Ｃに温度調節され
、かつメタノールと水トノｉ液（６）（モル比でｌ：１
）で飽和された雰囲気調整恒温器（３）に容器を移し、
容器の７タをと９除いた。
モルおよびアンモニア水にてｐ）（＝ Ｉ Ｏ，２に調
整したＨ２ＯＩ Ｑモルを５００にて１時間程攪拌混合
し、この混合溶液を内面に薄くグリースを塗った内径４
０ｍｍのガラス容器１１）に移した後、フタ（図示せず
）Ｋて容器開口部を密閉した。そしてこの容器を６５０
〜７０Ｃの恒温器内に入れた。容器内の混合溶液が３〜
４時間後に完全に同化した後、７゜０Ｃに温度調節され
、かつメタノールと水トノｉ液（６）（モル比でｌ：１
）で飽和された雰囲気調整恒温器（３）に容器を移し、
容器の７タをと９除いた。
その後容器内のゲルは徐々に収縮して行き、２〜３日後
収縮が完全に終了した。次いで雰囲気ｉ１５整器内の飽
和蒸気用混合溶液を系外にとシ出し、新しい空気を入れ
る操作を、数時間間隔で交互にくり返してゲルの乾燥を
行なった（１週間程度）０ゲルからの脱アルコールおよ
び脱水の飛が少なくなったら温度を徐々に上昇させ９ｏ
０ｃにて２〜３日保持した。そして雰囲気調整恒温器（
３）よシゲルを取シ出し、乾燥器内で９５０にて１週間
程乾燥を行なった。
収縮が完全に終了した。次いで雰囲気ｉ１５整器内の飽
和蒸気用混合溶液を系外にとシ出し、新しい空気を入れ
る操作を、数時間間隔で交互にくり返してゲルの乾燥を
行なった（１週間程度）０ゲルからの脱アルコールおよ
び脱水の飛が少なくなったら温度を徐々に上昇させ９ｏ
０ｃにて２〜３日保持した。そして雰囲気調整恒温器（
３）よシゲルを取シ出し、乾燥器内で９５０にて１週間
程乾燥を行なった。
この乾燥ゲルのかさ密度は０．６５〜０．７６であった
。この乾燥ゲルを室温から２５００までを真空中で、２
５００〜４００ ｃｔでをｚ気中テ、４ｏｏｃ以上は再
び真空中で、１２００ｃまで約３日間でゆつくシ加熱し
て割れのない透明なシリカガラスが得られた。このガラ
スの密度は２２．であった。
。この乾燥ゲルを室温から２５００までを真空中で、２
５００〜４００ ｃｔでをｚ気中テ、４ｏｏｃ以上は再
び真空中で、１２００ｃまで約３日間でゆつくシ加熱し
て割れのない透明なシリカガラスが得られた。このガラ
スの密度は２２．であった。
実施例２
Ｓｉ（ＯＵＨｇ）４１モルに対してＣ１（３０）ｆ ４
．６モルおよびアンモニア水にてｐＨｌ ０．４に調整
したＨ２Ｏ４モルを５００にて１時間攪拌混合し、この
混合溶液を、内面に薄くグリースを塗った８９ｍｍのガ
ラス容器に移し１、実施例１と同様のゲル化操作を行な
った。
．６モルおよびアンモニア水にてｐＨｌ ０．４に調整
したＨ２Ｏ４モルを５００にて１時間攪拌混合し、この
混合溶液を、内面に薄くグリースを塗った８９ｍｍのガ
ラス容器に移し１、実施例１と同様のゲル化操作を行な
った。
得られた乾燥ゲルのかさ密度は約０．６であった。
また実施例１と同様の加熱操作を行ない、割れのない透
明な直径３９ｍｍ厚さ５ ｍｍのシリカガラスが得られ
た。
明な直径３９ｍｍ厚さ５ ｍｍのシリカガラスが得られ
た。
第１図は本発明によるシリカガラス製造に用いる装置の
一例の概略図である。 （１）・・・加水分解用容器、 １ （２）・・・多孔質ケイ酸ゲル、 （３）・・・雰囲気調整恒温器、 Ｃ４ａ）、Ｃ４ｂ＞、Ｃ４ｃ）、Ｃ４６＞ −・・弁、
（５）・・・減圧ポンプ、 （６）・・・アルコールと水の混合溶液（以上）〜 第１図 手続補正書（自発） １ 事件の表示 昭和５８年特許願第２９１００号 ２ 発明の名称 シリカガラスの製造方法 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪水素工業株式会社 ４代理人“ 自 発 ６ 補正の対象 明細書中「発明の詳細な説明」の項 補正の内容 １ 明細書第１０頁第７行に「とり出し、」とあるを次
の通り訂正する。 ［とり出し、系内蒸気を一部徐々にとり出して減圧とす
る操作及びその接体々に」 ２ 明細書第１１頁第２行に「２２．であった」とある
を「２．２であった」と訂正する。 （以 上）
一例の概略図である。 （１）・・・加水分解用容器、 １ （２）・・・多孔質ケイ酸ゲル、 （３）・・・雰囲気調整恒温器、 Ｃ４ａ）、Ｃ４ｂ＞、Ｃ４ｃ）、Ｃ４６＞ −・・弁、
（５）・・・減圧ポンプ、 （６）・・・アルコールと水の混合溶液（以上）〜 第１図 手続補正書（自発） １ 事件の表示 昭和５８年特許願第２９１００号 ２ 発明の名称 シリカガラスの製造方法 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪水素工業株式会社 ４代理人“ 自 発 ６ 補正の対象 明細書中「発明の詳細な説明」の項 補正の内容 １ 明細書第１０頁第７行に「とり出し、」とあるを次
の通り訂正する。 ［とり出し、系内蒸気を一部徐々にとり出して減圧とす
る操作及びその接体々に」 ２ 明細書第１１頁第２行に「２２．であった」とある
を「２．２であった」と訂正する。 （以 上）
Claims (1)
- ■ シリコンメトキシドのメタノール−水混合溶液を加
水分解してゲル化させ、次いで得られる多孔性シリカゲ
ルを加熱焼結してシリカガラスを得るに当シ、上記原料
溶液のｐＨＨＯ２５〜１Ｏ５５に調整すると共にゲル化
反応を水とメタノールとの１：０．５〜９モル比混合蒸
気界囲気中で行なうことを特徴とするシリカガラスの製
造方法０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2910083A JPS59156935A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | シリカガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2910083A JPS59156935A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | シリカガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59156935A true JPS59156935A (ja) | 1984-09-06 |
Family
ID=12266921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2910083A Pending JPS59156935A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | シリカガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59156935A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56155028A (en) * | 1980-04-28 | 1981-12-01 | Hitachi Ltd | Preparation of optical glass |
| JPS5722129A (en) * | 1980-07-15 | 1982-02-05 | Hitachi Ltd | Production of optical glass |
| JPS57209817A (en) * | 1981-06-04 | 1982-12-23 | Uoichieku Zarujitsuki Jierujii | Manufacture of monolithic silica aerosol |
-
1983
- 1983-02-22 JP JP2910083A patent/JPS59156935A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56155028A (en) * | 1980-04-28 | 1981-12-01 | Hitachi Ltd | Preparation of optical glass |
| JPS5722129A (en) * | 1980-07-15 | 1982-02-05 | Hitachi Ltd | Production of optical glass |
| JPS57209817A (en) * | 1981-06-04 | 1982-12-23 | Uoichieku Zarujitsuki Jierujii | Manufacture of monolithic silica aerosol |
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