JPS59155335A - 8−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(4−イソプロピルフエニル)−ノナンの製造方法 - Google Patents

8−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(4−イソプロピルフエニル)−ノナンの製造方法

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JPS59155335A
JPS59155335A JP59023024A JP2302484A JPS59155335A JP S59155335 A JPS59155335 A JP S59155335A JP 59023024 A JP59023024 A JP 59023024A JP 2302484 A JP2302484 A JP 2302484A JP S59155335 A JPS59155335 A JP S59155335A
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07F9/02Phosphorus compounds
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、8−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(
4−イソプロピルフェニル)−ノナンの製造方法に関す
るものである。この化合物は、大儀(f Ire −a
nt )を抑制する目的で殺虫剤とし、て使用される。
大儀は農夫にとって迷惑な虫であるが、特に南部の国で
は被害が多い。すなわち、この蟻は、畑地に盛土をつく
る故作物の生育は困難となる。それのみならず、盛土の
上を通過した農機具炒も損傷を5ける。さらに、この蟻
は畑でこれに接触17た尿もや人を襲撃1−る。
この蟻にかみつかれると、そのときその部分に、やけど
様の補みを感する故人蟻と名づけられた。
化合物8−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(4−イ
ソプロピルフェニル)−ノナンは、米国特許第4.旧1
2,769月として米国政府によりtrt許されている
が、その中で・これはノ・工及び蚊の抑制に使用される
ことが述べられている。この特許に開示されているよう
に、この化合物の製法は、以下の通りである。
アセトニトリル溶媒の存在下で、塩化イン−プロピルベ
ンジルに、トリフェニルホスフィンを反応させて塩化バ
ラ−イソプロピルベンジル トリフェニルホスホニウム
を生成させ、後者の化合物に、ナトリウム メトキシド
を次にメトキシシトロネラールを作用させて、中間物の
シス−及びトランス−8−メトキシ−4,8−X)メチ
ル−1−(4−イソプロピルフェニル)1−ノネンに変
じ、次にこの化合物を水素化して最終生成物とする。
上記中間物は次の式を有し、ときとしてデヒドロMV−
678と呼ばれることもある。
最級生成物は次の式を有し、ときとしてMV−678と
呼ばれることもある。
上記中間物の製造にはトルエンも溶剤に使用される。
8−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(4−イソプロ
ピルフェニル)−ノナンの製造中におこる特別な問題は
次の点にある。塩化ノ4ラーインプロビルベンジルトト
リフェニルホスフインとの反応を含む工程の終りに、溶
液中に固体が形成するが、この固体は、塩化ノ(ラーイ
ソプロビルベンジル トリフエニA/ 7j:スホニウ
ムであり、この固体の処理は困難かつ高価につく、何故
ならば、次の工程の前にこれを反応剤から分離してaS
せねばならないからである・ そこで、この発明は、溶液あるいはスラリー中に残留し
た固体中間物を分離、精製することなしに、姫路生成物
がえられるまで、全反応が液体媒体中で行える、8−メ
トキシ−4,8ニジメチル−1−(4−インプロピルフ
ェニル)−ノナンの経済的な新規製造法に関する。
このたひ、8−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(4
−イソプロピルフェニル)−ノナンは次の方法で製造で
きることを見出した。
(a)1〜10個の炭素原子を有する飽和若しくは不飽
和アルコールから選はれた有機溶媒の存在下で、塩化バ
ラ−イソプロピルベンジルをトリフェニルホスフィンと
反応すせて、その溶媒中で塩化パラ−イソプロピルベン
ジル トリフェニルホスホニウムを形成させる。
(b)溶媒中の塩化パラ−イソプロピルベンジル トリ
フェニルホスホニウムに、まずナトリウム メトキシド
を、次にメトキシシトロネラールを反応させて、溶媒中
で、シス−及びトランス−8−メトキシ−4,8−ジメ
チル−1−(4−インプロヒルフェニル)−1−ノネン
を生成させる。
(C)溶媒中からこの8−メトキシ−4,8−ジメチル
−1−(4−イソプロピルフェニル)−1−ノネンを抽
出する。
(d)適肖な溶媒と触媒の存在下で、シス−及びトラン
ス−8−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(4−イソ
プロピルフェニル)−1−ノネンを水素化して8−メト
キシ−4,8−ジメチル−1−(4−イソプロピルフェ
ニル)−ノナンを形成させる。
上記(PL)工程で用いられる好ましい溶媒はメタノー
ルである。メタノール溶媒を用いると、生成物は溶液状
であるばかりでなく、トルエン溶媒を使用する従来の方
法に比し約10倍の速さで反応自体が進行することを見
出した・その他の適切な溶媒には、エタノール、プロパ
ツール、イソプロパツールその他類似のアルコール及び
極性溶媒がある。
使用活性成分の0.25fモル当り、溶媒として200
献のメタノールを添加するのが好ましい。メタノールの
添加畢は変化させ5るが1.シカ・し、その最少限は、
生成塩化バラ−イソプロピルベンジル トリフェニルホ
スホニウムが、メタノール中に飽和して晶出しはじめる
焔である。
n−オクタン溶媒中で、塩化パラーイソブロビルベンジ
ルヲトリフェニルホスフインに反応させる場合、この反
応は通常25〜30時間で完了して生成物は、固体で沈
殿しスラリー液かえられる。次にこのスラリーをメタノ
ールで洗浄して塩化ホスホニウム塩を溶解する。相を分
離することにより、塩化ホスホニウム塩はn−オクタン
溶媒中から除去されてメタノール溶媒中に移行する。こ
のように、本発明の第1工程の重要な特徴は、最初にメ
タノール以外の溶媒を使用した場合には、次にこの最初
の溶媒には混合することなく、オd分#するが、しかし
同時に生成物は溶〃トするメタノールのような2番目の
溶媒を使用する点にある。
上記の(It) T′4gは、通常溶媒にメタノールを
用いると4〜5時間で、n−オクタンを用いると25〜
30時間内で完了1−るが、他の製造条件及び希望する
収純によって反応実施時間は変化さ防うる。
金工4呈は、大気圧子で行うのが好ましく、この場合(
a)エフF甲では溶媒の沸点まで加熱するのが好ましく
、メタノール使用の場合は、約65〜67℃である。
この反応は加圧下でも行えるが、この場合は若干高い湯
度が使える。しかしながら、反辷 応は人名圧下で行うのが好ましい。
(b)工程で生成した中間物は、過酸化水素を添加して
、残留トリフェニルホスフィンを酸化トリフェニルホス
フィンに変化させることによって残留反応剤から分離さ
れる。次にヘキサン又は適当な他の溶媒を添加して、デ
ヒドロ中間物を抽出する。メタノール及び水で抽出液を
洗浄して酸化トリフェニルホスフィンを除いてから、ヘ
キサンを蒸留除去する。
ヘキサンを除去後、シス−及びトランス−8−メ)キシ
−4,8−ジメチル−1−(4−イソプロピルフェニル
)−1−ノネンを、エタノール、メタノール、イソプロ
トメノール、又はヘキサンのような適当な溶媒及び適当
な触媒−通常5%パラジウム担持炭素−の存在下で水素
化して大儀用の%種殺虫剤に変化させる。この反応が完
了後、触媒を除去し、溶液から溶媒を留去して最終生成
物を堆得する。
次の実施例によって、この発明は一層明瞭に理解される
であろうが、これは、単に発明を説、明するためのもの
であって、発明を制限するものではない。
実施例1 適当な丸底フラスコに65.5r(0,25モル)のト
リノエニルホスフィン、42.3tC0,25モル)の
塩化ハラ−イソプロピルベンジル及び210m7!のメ
チルアルコールヲ装入した。この反応混合物を加熱還流
させ約5時間加熱した。その後、加熱をやめて生成物を
析出させた。メタノール中に、塩化パラ−イソプロピル
ベンジル トリホスホニウムを含んだメタノール溶液2
52.1Fをえた。
この反応g 249.1 y (塩化パラ−イソプロピ
ルベンジル トリフェニルホスホニウム0.231モル
)を10℃において、ナトリウムメトキシドの25%メ
タノール溶液49.68F(ナトリウム メトキシド0
.23モル)とメトキシシトロネラール34.229 
 (0,184モル)と−緒に別の反応器に装入した。
最初反応器を水浴中に漬け、その後水浴を取り除いて放
置し室温まで昇温させた。3時間後環流するまで加熱し
、約1時間還流を続けた。
その後、加熱をやめて反応液温が30℃に冷えるまで放
置した。次に82の30%過酸化水素溶液を添加し、4
5分間攪拌した。次に、100+++/の水と250 
mlのヘキサンを加えて、さらに15分間攪拌をつづけ
た。静置して内容物を相分離させた。分離相は水相と有
機相である。有機相を3OS’の水、752のメチルア
ルコールで洗浄して、この相を再び相分°離させた。次
に、有機相を高真空下約100℃で溶媒を留去し、1時
間窒素でパージを行った。約5Orの所望中間物、8−
メトキシ−4,8−ジメチル−1−(4−イソプロピル
フェニル)−1−ノネンがえられた。
次に、この生成物12.5Fを0.61のパラジウム−
炭素触媒の存在T’ ]、 9 Yのヘキサンと混合し
て、絶対圧507J?ンド/インチ(3,4気圧)で水
素化した。その後、この溶液をf過、250.Nのへキ
ッーンで洗浄、高度X9下90℃で溶媒を留去し、1時
間♀累パージを行った。回収された生成物は所望の最終
生成物、8−メトキシ−4,8−ツメチル−1−(4−
インプロビルフェニルラーノナンであった。
実施例2 1)反応器に78.6 f (0,3%ル)(7,))
 I7フエニルホスフイン、250m1のメチルアル”
−ル&[50,7yの塩化パラ−イソプロピル−ベンジ
ルを装入した。この溶液を還流温度まで加熱して5時間
還流下に保った。塩化パラ−イソプロビルペンジルトリ
フェニルホスホニウム40%メタノール1i327.3
Fをえた。これに、10℃で68.4yのナトリウム 
メトキシド25%メタノール溶液を、さらに又10℃で
46.5fのメトキシシトロネラールを添加した。反応
物を約3時間室温で攪拌した後加熱還流させ約工時間遠
流T・に保持した。次に、反応物を室温まで冷却し、3
0%過酸化水素溶液4,51な加えてl/2時間攪拌し
た。その後、この反応液に250 mBのへキサンと1
00m#の水を加えて1y2時間攪拌した。反応混合物
を放置して相分離させて、水性相を傾斜除去した。有壁
相に70meのメチルアルコールと30 rueの水を
加え再び1y2時間1m拌した。水相を(呼び傾斜除去
した。高度真空下で有機相から110℃で溶媒を留去し
、2時問屋素でパージを行った。中間生成物、8−メ)
・ギシー4.8−ジメチル−1−(4−イソプロピルフ
ェニル) −1−/ 、?、 ン6351をえた。
次に、含水度50qbの炭素相持5%バラジ”’ ムS
+媒1.2 v 及(Jエチルアルコール109を用い
、508Fの中間生成物を水素化した。
溶液をt戸消してエチルアルコールで洗浄シ、高度真空
下、100℃で溶媒を留去し、1時間窒素でパージを行
った。残留生成物を適切な方法で分析して、この物は、
所望の8−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(イソプ
ロピルフェニル)ノナンであることを確認した。
実施例3 5を反応器に、655?のトリフェニルホスフィン、1
050dのメチルアルコール及ヒ4225 Fの塩化パ
ラ−インプロピルベンジルを装入した。こわらを、還流
温度、約65〜67℃、まで加熱、5時間還流をつづけ
た。
塩化バラ−イソプロピルベンジル ) IJ フェニル
ホスホニウム50%メチルアルコール溶液1856.9
 fをえた。
次に、塩化バラ−インプロピルベンジルトリフェニルホ
スホニウム50%メチルフルコール溶液1852Fを4
64.4 fのナトリウム メトキシド25%メタノー
ル溶液と332.9 Fのメトキシシトロネラールとと
もに反応容器中に装入した。これら反応剤の装入は、水
浴を用い約10℃で行った。装入完了後水浴を取り去っ
た。
反応剤は室温で約3時間放置して反応を生起させ次に加
熱して還(At、 f%度約65℃とし、約3時間室温
を続行した。
その後、加熱をやめ、反応液に30%過酸化水素溶液4
5fを加え、30分間攪拌した。
次に、水10100O及びヘキサン1500+++/を
添加して再び30分間攪拌した。
約1/2時間放置して反応器内容物を相分離させた。水
性相は約3110m3有機相は約2110 rdであっ
た。次に、有機相を960−のメチルアルコール及び3
00m7!の丞で洗浄してから約1/2時間攪拌を行っ
た。
数機tて相分前さ一ピ、1532.(iF(1,480
ぜ)の有機相をえた。この有機相を高真空下100℃で
溶媒を留去し、1回間望累バージを行った。そして、5
55.4 fのデヒドロ−MV−678をえた。この物
質をさらに高真空下100℃で溶媒を留去し、さらに1
時間窒素パージを行った。その後に、25o−のヘキサ
ンと250 mlのデヒドロ−MV−678を添加して
、内容物から高真空下100℃で溶媒を留去し、2時間
窒素パージを行った。えられた生成物は、8−メトキシ
−4,8−ジメfルー1−(4−イソプロピルフェニル
)−1−ノネンであった。
実施例4 大型丸底フラスコに、150ゴ(1,02,4F)の9
9%純度n−オクタン、84.6’fの塩化パラ−イソ
プロピルベンシル) 及び111.5 Fのトリフェニ
ルホスフィンを装入した。この反応液を95〜100℃
まで加熱してこの温度で約29時間保持した。そして加
熱をやめ、反応液を冷却してからメチルアルコール19
7.52を加えて浮遊固体を溶解した。次にメタノール
溶液を、1回に50 meのオクタンを用いて2回洗浄
した。オクタンを傾斜して除去し、塩化パラ−インプロ
ピルベンジル トリフェニルホスホニウム45%メチル
アルコール溶液383.7 fをえた。
次に、上記メチルアルコール/塩化ホスホニウム溶液を
別のフラスコにとり、さらにこれにナトリウム メトキ
シド25%メタノール溶液4322を8〜10℃で添加
し、次に、31.62°2のメトキシシトロネラールを
10〜13℃で添加した。この溶液を約15分間放置し
て室温(すなわち、約22℃)まで昇温させ、その後で
加熱還流させた。約4時間還流をつづけた後加熱をやめ
反応物を室温まで冷却した。約2時間の後11の過酸化
水素を加えて溶液を攪拌した。さらに、2時間後、反応
液にヘキサン1″67.9 r及び水100meを加え
、再び攪拌を開始し、約1.5時間後攪拌をやめて、反
応物が2相に分離スるまで放置した。
得られた水舛相、有機相はそれぞれ277.62.23
3.6 yであった。有機相を75yのメチルアルコー
ル、30.1Fの水で2回洗浄した。水性イ1」をや1
目釘して221.42の有イ剋:物質を、収得した。こ
の物・實が[)^真q下90’c−’C溶媒を留去し、
15時間愉素バージを行った。
47、5 fのデヒドロ−MV−678、すなわち、8
−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(4−イソンロビ
ルノエニル) −i −/ ネ7がえられた。
本発19Jの範囲内((おいて、この発明の分野におけ
る通常の知識を治する省は、化合物の使用割合、反応湯
度、ル、応四間等随、(イに変更し5るものである、

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 次の各工程から成る8−メトキシーベ8−ジメチ
    ル−1−(4−イソプロピルフェニル)−ノナンの製造
    方法、 (、)  塩化パラ−イソプロピルベンジルとトリフェ
    ニルホスフィンとを、メタ ノール溶媒の存在下、中間生成物塩化 パラ−1ソプロビルベンジル トリフ ェニルホスホニウム、がメタノール溶 液として生成するに十分な時間及び十 分な温度で反応させる。そして (b)  該メタノール溶液に、まずナトリウム メト
    キシドを、次にメトキシシ トロネラールを反応させて8−メトキ シ−4,8−ジメチル−1−(4−イ ソプロピルフェニル)−1−ノネンヲ生成せる、そして (C)残留反応剤から該中間生成物を分離する。 2、  (a)  工程の反応を温度約67℃で行う特
    許請求の範囲第1項記載の方法。 3、各活性成分の0.25fモル当りメタノール約20
    0−を使用する特許請求の範囲第1項記載の方法。 4、反応混合物に過酸化水素を添加し、そしてヘキサン
    を加えて中間生成物を抽出することにより該残留反応剤
    から該中間生成物を特徴とする特許請求の範−第1項記
    載の方法0 5、 エタノール又はヘキサンとパラジウム−炭素触媒
    の存在下中間生成物を水素化してシ 8−メト艷−4,8−ジメチル−1−(4−イソプロピ
    ルフェニル)−ノナンを生成させる工程をさらに含む特
    許請求の範囲第1項記載の方法。 6 次の各工程から成る8−メトキシ−4,8−ジメチ
    ル−1−(4−イソプロピルフェニル)−ノナンの製造
    方法。 (a)  塩化バラ−イソプロピルベンジルとトリフェ
    ニルホスフィンとヲ、適当すfaHの存在下、その溶媒
    中に塩化バラ−イソプロピルベンジル トリフェニルホ
    スホニウム スラリーが形成するに十分な時間及び十分
    な温度で反応させる。 (b)  該スラリー中の固体をメタノールで抽出する
    。すなわち、該スラリーにメタノールを加え十分な時間
    内に塩化バラ−7・イソプロピルベンジル トリフェニ
    ルホスホニウムを溶解したメタノールと(a)工程で用
    いた溶媒とを相分前させる。   8・(c)  n 
    塩化バラ−イソプロピルベンジルトリフェニルホスホニ
    ウム溶液に、シス−及びトランス−8−メトキシ−4,
    89・−ジメチル−1−(4−イソプロピルフェニル)
    −1−ノネンが生成するのに十分な時間及び十分な温度
    においてナトリウム メトキシドを次にメトキシシトロ
    ネラールを反応させる、そして (d)  該シス−及びトランス−8−メトキシ−4,
    8−ジメチル−1−(4−インプロピルフェニル)−1
    −ノネンヲ適当な溶媒及びパラジウム−炭素触媒の存在
    下最終生成物8−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(
    4−イソプロピルフェニル)−ノナンを生成するに十分
    な時間及び十分な温度で水素化する。 (、)工程の反応をn−オクタン溶媒の存在下で行う特
    許請求の範囲第6項記載の方法。 (−)工程の反応なn−へブタン溶媒の存在下で行う特
    許請求の範囲第6項記載の方法。 (a)工程の反応を温度約100℃で約25時間行う特
    許請求の範囲第6項記載の方法。 10、 (a)工程の反応を湛度約135℃で約6時間
    行う特許請求の範囲第6項記載の方法。 11、 (a)工程の反応を反応剤の重邦比84.6対
    111.5〜102.8の下で行う特許請求の範囲第6
    項記載の方法。 12、特許請求の範囲第1項の反応混合物を過酸化水素
    で洗浄し、次にヘキサンで抽出し、次にメタノールと水
    で洗浄して酸化トリフェニルホスフィンを除去する特許
    請求の範囲第7項記載の方法。 13、 (d)工程の反応をヘキサン溶媒及びパラジウ
    ム−炭素触媒の存在下で行う特許請求の範囲第6項記載
    の方法。
JP59023024A 1983-02-14 1984-02-13 8−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(4−イソプロピルフエニル)−ノナンの製造方法 Granted JPS59155335A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/465,943 US4482751A (en) 1983-02-14 1983-02-14 Method for preparation of 8-methoxy-4,8-dimethyl-1-(4-isopropylphenyl)-nonane
US465943 1983-02-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59155335A true JPS59155335A (ja) 1984-09-04
JPH0237901B2 JPH0237901B2 (ja) 1990-08-28

Family

ID=23849805

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59023024A Granted JPS59155335A (ja) 1983-02-14 1984-02-13 8−メトキシ−4,8−ジメチル−1−(4−イソプロピルフエニル)−ノナンの製造方法

Country Status (18)

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US (1) US4482751A (ja)
EP (1) EP0116370B1 (ja)
JP (1) JPS59155335A (ja)
KR (1) KR840007553A (ja)
AU (1) AU565427B2 (ja)
BR (1) BR8400617A (ja)
CA (1) CA1220789A (ja)
CS (1) CS244686B2 (ja)
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