JPS59154641A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

Info

Publication number
JPS59154641A
JPS59154641A JP58027808A JP2780883A JPS59154641A JP S59154641 A JPS59154641 A JP S59154641A JP 58027808 A JP58027808 A JP 58027808A JP 2780883 A JP2780883 A JP 2780883A JP S59154641 A JPS59154641 A JP S59154641A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
plasma
thin film
density
magnetic recording
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58027808A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0479066B2 (ja
Inventor
Tsutomu Okita
務 沖田
Wataru Ueno
上野 彌
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP58027808A priority Critical patent/JPS59154641A/ja
Publication of JPS59154641A publication Critical patent/JPS59154641A/ja
Publication of JPH0479066B2 publication Critical patent/JPH0479066B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/72Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
    • G11B5/722Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing an anticorrosive material

Landscapes

  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は砂性薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体に関
L、特に防蝕性、電磁変換判性、走行性、耐摩耗性にす
ぐれた金属薄膜型磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体とL5ては、非磁性支持体」−に磁性粉末
を結合剤中に分散せし、とつ、塗布乾燥させる塗布型の
ものか広く使用きン7てきている。しかし、近年高密度
記録−2の要求が冒まるにつれ、真空蒸着、スパッタリ
ンク゛、・1]ンブレーデイング等のべ一バーデボジシ
ミ1ン法あるいは電気メツA−1無電W(メツ痺等のメ
ッキ法により形成される強磁性金属薄膜を磁気記録層と
する金属薄膜型磁気記録媒体が注目を浴びており実用化
に至っている。
金属薄膜型磁気記録媒体は、飽和磁化の大きな強磁怜金
属をバインダーの如き非磁性物質を介在させない状態で
、極めて薄い層として形成できるので、電磁V換特性−
1−非常にイ]刊で、高密度記録にも適している。
しかし2ながら、金属洪膜型磁気記録ν′と体に二つ℃
・ての大きな問題点は、製造後経萌しておくと金属表面
か腐蝕1〜電磁変換特性か低下LiLまうことで、(・
、る。どの欠点を防lI:、−=3る方法として、熱可
塑1′1.ポリマー、熱硬化性ポリマーを金属表面に塗
設し、保護層な(=1与することによつ−C解決″4る
ことが提案され1い4)。この方法′eは、ヘッドと磁
性1鰻間のスペーシング損失のために保護層のノψみな
大きくできないという制約があ4)ため、充分な防蝕性
をイ」与ずろことはできながく)だ。(第2図参照)ま
た、磁性層表面を窒化させる方法(特開昭50−338
06号公報)ある(・は酸化させる方法(特公昭4l−
2tJO25−け公報)などによつて防蝕性向上するこ
とが知られているが、これらの方法では10分〜2時間
もの長時開始J7Jjが必四であったり、処理時間なt
()がく′□4ろと充分な防蝕効果がイ;Iられなかっ
た。
本発明者らは先に、強磁性金属薄膜上に厚さ2()〜2
70大のプラズマ重合層を設けることによって上記欠点
を克服することに成功[また( Q’!r 1’At昭
57184299号)。
本発明者らは、−1−記発明に基ついてさらに研冗をA
Iねた結束、プラズマ重合層の密1wを1.4す、上に
することによって、さらに耐久1イ1−の−′P11〜
く数校された保iK!j層を召jること(心成功lフイ
・、発明をi、’(5成し六−0 従って、本発明の1つの目的はヘットと磁性層間のスペ
ーシング損失を極力小さくするため超薄層で17かも商
品り性の良Ifな保護層を有する金属薄膜磁気配録媒体
を提供′することにキ、4・。
本発明のもう1つの目的1;J1久1〈トの良好な金属
磁気記録媒体を提供す4)ことにある。、本発明の一1
ユ記の目的は、強(dJ性金属湧膜を有す石高分子支持
体の金属薄膜上に、密I阜1.4以上で厚さ20〜27
0Xのプラズマ重合層を設けた。\とを特徴とする磁気
記録媒体によって達成さJする。
本発明でいうプラズマ重合層の密度とは、形成さえlた
プラズマM(金層を削りとり得られたプラズマ沖合層の
粉を+1−ヘキーνンーテトラクロルエタンからなる密
度勾配管法によって得られた値を意味する。
尚超薄層でプラズマ重合層だけを削りとれないものは1
9み、1000 A以上のプラズブ11合層を、ウユブ
スピードを遅くすることによって得、このプラズマ重合
層の密度で代用1−た1、本発明によるプラズマ重合層
は通常のポリマ一層と比較すると、緻背な架橋構造を有
シ1.ている。
即ち、非常に緻密で、しかも金属薄膜−にに均一な厚み
の層として形成されて℃・ると考えられる。このために
、爬蝕の原因となる酸素、水分等を金属薄膜から遮断し
かつ酸素、水分等を透過しないことによって防蝕性に優
れ、しかも極めて薄い層として形成できるのでヘッド・
磁性層間のスペーシング損失が小さくなることによって
電磁変換特性の良好な磁気記録媒体を得ることができる
。さらに本発明の有利なことは溶剤を全く使わないので
、作業が簡即で乾燥ゾーン々jの付’ifi’設(ii
4も不要とt(ることである。しかも、金属薄膜の形成
をL′1空条件下での4(着等によるベー・ξ−デ]j
ε、クンコン法と組合せると、真望を破ることなく共通
のラインで金属薄膜の形成と保dφj←iとを運次に形
成できるので設備的にも経済的にも有利である。
本発明によるプラズマ重合層の形成に用い4)化合物(
以下低分子化合物と称する)としては、2゜C110’
−’ torrで莢気圧な有するものなら使用11丁能
であるが、沸点が200iC以下のものが好ましい。特
に好ましい例としては、下i己のものia444げるこ
とかできるが、本発明はこれらの化合物に限定されるも
のではない。即ち、メタン、J−タン、ゾロノξン、ブ
タン、ペタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族飽和炭化
水垢、エチレン、ゾロビし・ン、ブテン、ヘキサン等の
脂肪族飽和炭化水垢、ベンゼン、トルエン、キシレン、
スブレン、エチル4ンゼン等の芳査族炭化水素、フロロ
メタン、ジクロロメタン、トリフロロメタン、ケトンフ
ロロメタン、ジクロロエタン、テトラフロロエチレン、
ヘキサフロロプロピレン、テトラフロロシラン、ジクロ
ロエチレン、テトラクロロエタン等の飽和又は、不飽和
のハロゲン化合物、アルコール類、ケトン類、エーテル
類、脂肪酸類などを単独又は混合して用いることができ
る。
プラズマ庫合処理の装置とし【は無電極放電型、′1.
枠放電型のいずれな用いてもよ℃・がより好まし7くは
電磁が重合槽の中にある内部電極を有する放電1.(I
Jであイ)。内部電極を有1−る放Iplj:、型を用
いると形成されたプラズマ1(金層は1,4以」−の密
度のものが得られやすい。
第1シIは本発明のプラズマ重合層を形成する(C適し
た内部電極型プラズマ重合装置柊の1例を示す略図であ
る。真空装置(重合槽)内に、ザンゾル送出部1とサン
プル巻取部2を設置1〜、平行板箱。
極部3,60間を、高分子支持体−1−に強磁性金属薄
膜の形成されたサンプル4を連続的に走行させてプラズ
マ重合層を形成させるようになつ【いる。
排気[−コかも真空ポンプc +>+示せず)によって
適当な7J空度に排気しまた後に、ガス導入部から、低
分子化合物のガスAを流−318及び、?ルプ7を通っ
て適当圧で導入゛−す−で)。な」・S、・必要に応じ
て不活性ガスBを同様に流45−fi18及びノ々ルブ
をBl’!jつ−(ψ人することが1′きる。
、@合槽中の低分子化合物の圧力は、1〜io−”to
rrが好まし、く、更に好ましくは、5X10−”〜5
X10  torrである1、こね上り圧力が高いとき
け、プラズマ重合層が粉状で形成されたり形成されたプ
ラズマ1F合層の實丁1狂が1.4以下となって4j′
まし、くない33マた、プラズマ11)ハ内部の汚れが
大きく、低(・ときは’i君層のノヒ成に時間ケ赦した
り−(るので好* L−< 〕(cい。必要に応じて屋
素ガス、アルゴンガス等の不活性気体を711合槽内に
導入1−イ)こと力ζできる。
プラズマのう′6振周波数は7行に限定されるものでは
ないが、15.56Ml1zが便利である。
プラズマ重合層の好ましい厚みは20〜270人であり
、更に好ましくは50〜2ooXである。
この範囲を越灸て厚くなるとヘツlコ磁性層のスペーシ
ング損失が大きくなるし、薄くなると防蝕性が低下した
り、プラズマ重合粂件の許容範囲が狭くなって好ましく
ない。
また形成されたプラズマ重合層の密度は1.4以上が好
ましく更に好ましくは1.5以上であり、この場合、耐
久性の著しく改良されたプラズマ重合層が得られる。こ
れより密度が小さくなると耐久性が十分ではない。
プラズマ1(金層の上に更に潤滑剤層を設けることもi
iJ能である。潤滑剤とl−では、脂肪酸、金属石けん
、脂肪(俊アミr、脂肪酸エステル、鉱油、鯨油等の動
柚物油、高級アルコール、シリコンオイル、フロロカー
ゼン類などを単独又は混合して用いることができる。
本発明に使用される高分子支持体としては、t(′□「
酸セルローズ;硝酸セルローズ;エチルセルローズ;メ
チルセルローズ;ポリアミ12;ポリメチルメタクリレ
ート;ポリテトラフルメルエチレン;ポリトリフル埼ル
エチレン;エチレン、プロピ1/ンのようなα−オレフ
ィンの重合体あるいは共重合体;塩化ビニルの重合体あ
るいは共重合体;ポリ塩化ビニリデン;ポリカーs”ネ
ート;ポリイミド;ポリエチレンプレフタレートのよう
なポリエステル類等である。
本発明における強磁性金属薄膜は、ペーパーデポジショ
ンあるいはメッキ法により形成される。
ベーノξ−lポジション法とは、不活性ガスあるいは酊
素等の気体あるいは真空空間中において、膜として形成
せl−めようという物質文はその化合物を蒸気あるいは
イオン化した蒸気として発生もしくは導入させて所望の
支持体上に膜として析出させる方法で、真空蒸frζ法
、ス・ξツタリング法、イオンプレーテング法、イオン
ビームガボ′ジション法、化学気相メッキ法等がこれに
相当する。またメッキ法とは電気メッキあるいは無電解
メッキ法等の液相より支持体」二に物質を膜として形成
させ不する方法を言う。強磁性金属薄膜の林料としては
、Fe、Co、Niその他の強磁性金属あるいはこれら
の合金、さらにFe−81、F e −Rh 。
F e −V、 F e−T i、 Co−P、 Co
−B。
Co−8i、 Co7V、Co−YSC: o−8m。
Co−Mn、 Co−N i−P、 Co −N l 
−B。
Co−Cr、Co −N l −Cr、  Co −N
 i−Ag。
Co −N i −P dlCo −N l −Z n
SCo−Cu。
Co −N i−Cu、 Co −W、 Co −N 
l −W。
Co−Mn−PlCo−8m−Cu、 Co−Nj−Z
n−P。
Co−V−pr、等が用いられる。茹に好・止しくは、
強磁性薄膜はCOを50’、it%以上含有する。
本発明による磁気記録媒体の強磁性薄膜の膜片は一般に
は0.02μm〜5μm、好ましくは0.05μrn〜
11tmである。高分子支持体の1−早さは4μm〜5
0μmが好ましい。強イム性薄膜の密着同上、磁気特性
の改良のために高分子支持体上に下地層を設けてもいい
。高分子支持体の磁性層と反対側(に・々ツクコート層
を設けてもよい。
磁気記録媒体の形状はテープ、シート、カーr、デスク
等いずれでも良いが、特に好ましいのはデージ形状であ
る。
次に本発明の実施例につい−(説明するが、本発明は下
記の実h(へ例に制限されろものでは力(い。実施例中
1一部」Lよ「重社部」を示−1゜12μmJG’の7
社すエチレンテレフタレートフイルノ・の表面に、チ[
め蒸着によってCoCo−N1(N120%)磁性Mi
 (膜)yloooX) を設げたものを実施例にfj
4用した。
実施例1 第1図の装りを川L−て、<=h□=cxs2ノlスと
Arガスσ、)混合比が1 、、/ I O、重合(′
ハ内の圧力10−2torr。
50 wattで1に極間の1)11在時間が10秒間
になるようにしてプラズマ#〔合処」■+1を行ないサ
ンプル、糸1を得た。
実施例2 第1図の装置る・用いて、CJIF” 2CIIF 2
ガスとAr)ガスの混合比が1/1G、正合槽内の圧力
8×10□3torr、50wattf電極間の滞在時
間が10秒間にブZるよ5にしてプラズマ重合処理を行
ないサンプA/A2を得た。
実施例6 第i図の重合槽1月の1しカフ外5 X ’+ O”t
orr Kな4)ようにスチし′ンをχ「て発きせ、ス
チト′ンガス^アル11ンガスの混合比が1/8になる
J−うにニした他は丈施1く・111と171jじ条F
i’てサンプルμ6を得l、〜1、実施例4 第1し]の正合槽内の圧力が7 X 10−3t、or
r に7fるよう17t−C2H、、t!ス及びアルゴ
ンNスの混合比1/10の混合ガスを導入する他は実施
例1と1i11様に処理してダンゾルA4本で得た3、 実施例5 ″1−Ii溌間内の711)什1相間なり、下のように
変える以外は実施例1と同−条f1で行1.fつだ。
508間・・・・・・・・・サンプルA525秒間  
   〃 j五6 す 5(・1間     !/&7 2秒間     H扁8 1秒間     I/A? 比較例1 実施例1に於てit合層内の圧力が10−’ torr
で滞在時間が6秒間になるようにしてプラズマ重合処理
を行いサンプルA 10を得た。
比較例2 実施例1にに於て1)−合1す1内の圧力が5 X 1
0  torrで滞在時間が5秒間に/fるよ5Kして
プラズマ重合処理をイ″」ないサンゾル筋11を得た1
、比較例6 塩ビ酊マ共″R1合体(I−1C社製、商品名VYTH
i)0.05%MF、に台I液をCo−Ni値性1・〆
1−ヒに捻布乾燥しサンゾル筋12を紹だ。
比較例4 スヂレンブタジエン共距合体の0.5%M E K 溶
液をCo−N1(長fL層十に塗布し東、燥して41−
ンゾル扁16を間だ。
」−記サンプルを用いて以下の試験な行ない防蝕性及び
耐久性の効果を調べた1、 結果を第1人に示す。
防蝕性試験は、60U、80%RHのズY囲気で7日間
さら1〜た8のち、目JINで判定した3、耐久性試験
は1/2インチにスリットしたのち、家庭用ビーrオデ
ーゾレコーダー(ビクター製3600 )でスプール耐
久時間(分)を測定温度は、23tT65ツfo RI
−1,。
)♀みの測足は水晶発振子で行ない、畢合II、j間で
111一定1〜ブこ。
これらの結果を見ると不発明によっていがしこ防蝕(’
l及び耐久性良好でかつスペーシング損失の少l(い超
薄層の保箇i曽であ7.)が明らかである。
【図面の簡単な説明】
第1し1は内部市杉壓プラズマAI合装名′でキ、る。 1: −t+−7−f 、/1.送出部 2ニ一リンゾ
ル巻取部3:平行板fR’、 1tすkPil)4 :
ダンゾル5:ガス導入部   6:刊気口 7:パルプ     8:流墓i−1

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 強磁性金属薄膜を有する高分子支持体の金属薄膜−にに
    、密度1.4以」二で厚さ20へ一27DXのプラズマ
    重合層を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。
JP58027808A 1983-02-23 1983-02-23 磁気記録媒体 Granted JPS59154641A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58027808A JPS59154641A (ja) 1983-02-23 1983-02-23 磁気記録媒体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58027808A JPS59154641A (ja) 1983-02-23 1983-02-23 磁気記録媒体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59154641A true JPS59154641A (ja) 1984-09-03
JPH0479066B2 JPH0479066B2 (ja) 1992-12-14

Family

ID=12231273

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58027808A Granted JPS59154641A (ja) 1983-02-23 1983-02-23 磁気記録媒体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59154641A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60157725A (ja) * 1984-01-26 1985-08-19 Denki Kagaku Kogyo Kk 磁気記憶媒体
JPS61117733A (ja) * 1984-11-12 1986-06-05 Tdk Corp 磁気記録媒体の製造方法
JPS61126627A (ja) * 1984-11-26 1986-06-14 Hitachi Ltd 磁気記録媒体
DE3545794A1 (de) * 1984-12-25 1986-07-03 TDK Corporation, Tokio/Tokyo Magnetaufzeichnungsmedium
JPS61160824A (ja) * 1984-11-09 1986-07-21 Tdk Corp 磁気記録媒体
EP0243798A2 (en) * 1986-04-15 1987-11-04 The Furukawa Electric Co., Ltd. Magnetic recording medium and method of manufacturing the same
US4770924A (en) * 1986-07-02 1988-09-13 Tdk Corporation Magnetic recording medium
US5472778A (en) * 1991-05-17 1995-12-05 Tdk Corporation Magnetic recording medium
US6605335B2 (en) 2000-05-22 2003-08-12 Hitachi, Ltd. Magnetic recording medium
US7167803B2 (en) 2002-10-22 2007-01-23 Tetra Labal Holdings & Finance S.A. Vessel inspection method and vessel inspection device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51127702A (en) * 1975-04-30 1976-11-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Surface treatment method of magnetic recording materials
JPS57135443A (en) * 1981-02-16 1982-08-21 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture of magnetic recording medium
JPS57198542A (en) * 1981-05-29 1982-12-06 Sekisui Chem Co Ltd Magnetic recording medium
JPS5888828A (ja) * 1981-11-19 1983-05-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気記録媒体およびその製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51127702A (en) * 1975-04-30 1976-11-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Surface treatment method of magnetic recording materials
JPS57135443A (en) * 1981-02-16 1982-08-21 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture of magnetic recording medium
JPS57198542A (en) * 1981-05-29 1982-12-06 Sekisui Chem Co Ltd Magnetic recording medium
JPS5888828A (ja) * 1981-11-19 1983-05-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気記録媒体およびその製造方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60157725A (ja) * 1984-01-26 1985-08-19 Denki Kagaku Kogyo Kk 磁気記憶媒体
JPS61160824A (ja) * 1984-11-09 1986-07-21 Tdk Corp 磁気記録媒体
JPS61117733A (ja) * 1984-11-12 1986-06-05 Tdk Corp 磁気記録媒体の製造方法
JPS61126627A (ja) * 1984-11-26 1986-06-14 Hitachi Ltd 磁気記録媒体
JPH0533456B2 (ja) * 1984-11-26 1993-05-19 Hitachi Ltd
DE3545794C2 (de) * 1984-12-25 1996-11-14 Tdk Corp Verfahren zur Herstellung eines Magnetaufzeichnungsmediums
DE3545794A1 (de) * 1984-12-25 1986-07-03 TDK Corporation, Tokio/Tokyo Magnetaufzeichnungsmedium
US4892789A (en) * 1984-12-25 1990-01-09 Tdk Corporation Magnetic recording medium
EP0243798A2 (en) * 1986-04-15 1987-11-04 The Furukawa Electric Co., Ltd. Magnetic recording medium and method of manufacturing the same
US4770924A (en) * 1986-07-02 1988-09-13 Tdk Corporation Magnetic recording medium
US5472778A (en) * 1991-05-17 1995-12-05 Tdk Corporation Magnetic recording medium
US6605335B2 (en) 2000-05-22 2003-08-12 Hitachi, Ltd. Magnetic recording medium
US7167803B2 (en) 2002-10-22 2007-01-23 Tetra Labal Holdings & Finance S.A. Vessel inspection method and vessel inspection device
KR101013241B1 (ko) 2002-10-22 2011-02-08 테트라 라발 홀딩스 앤드 피낭스 소시에떼아노님 용기 검사 방법 및 용기 검사 장치

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0479066B2 (ja) 1992-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0766528B2 (ja) 磁気記録媒体
JPS59154641A (ja) 磁気記録媒体
JPH0435809B2 (ja)
JPH0479067B2 (ja)
US4601912A (en) Method of preparing a magnetic recording medium
US5370928A (en) Magnetic recording medium
US4711809A (en) Magnetic recording medium
JPS59178617A (ja) 磁気記録媒体の製造方法
JPS5972653A (ja) 磁気記録媒体
JPS6116028A (ja) 磁気記録媒体およびその製造方法
JPS6069826A (ja) 磁気記録媒体
JPS62128019A (ja) 磁気記録媒体
JPS6122426A (ja) 磁気記録媒体
JP2844505B2 (ja) 磁気記録媒体
JPS6333286B2 (ja)
JPS60237640A (ja) 磁気記録媒体の製造方法
JPS60111322A (ja) 金属薄膜型磁気記録媒体
JPS6299915A (ja) 磁気記録媒体およびその製造方法
JPS6116027A (ja) 磁気記録媒体およびその製造方法
JPS5840247B2 (ja) 磁気記録媒体
JPS6122430A (ja) 磁気記録媒体の製造方法
JPS58133631A (ja) 磁気記録媒体
JPS592232A (ja) 磁気記録媒体の製造法
JPS60263311A (ja) 磁気記録媒体
JPS6037528B2 (ja) 磁気記録媒体の製造法