JPS59154305A - 検出ヘツドの清浄装置 - Google Patents
検出ヘツドの清浄装置Info
- Publication number
- JPS59154305A JPS59154305A JP2871683A JP2871683A JPS59154305A JP S59154305 A JPS59154305 A JP S59154305A JP 2871683 A JP2871683 A JP 2871683A JP 2871683 A JP2871683 A JP 2871683A JP S59154305 A JPS59154305 A JP S59154305A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- detector
- cover
- measured
- airflow
- pressurized gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は硬脆材料・半導体・金属等をホイールを使用し
研削加工する際発生ずる研削ミスト等の悪環境内で測定
・検出する場合の検出器表面・被測定物表面を自動的に
清浄する光学式検出ヘッドの清浄装置に関するものであ
る。
研削加工する際発生ずる研削ミスト等の悪環境内で測定
・検出する場合の検出器表面・被測定物表面を自動的に
清浄する光学式検出ヘッドの清浄装置に関するものであ
る。
従来例の構成とその問題点
従来ＩＣやＬＳＩ等の製造に於ては、集積回路がプリン
トされた半導体ウェノ・−を切断或は溝入れするに当っ
てこの半導体ウェノ・−が載置されたテーブルと薄形ダ
イヤモンドホイールの相対位置を精密に位置決めしない
と集積回路相互の間を切断することが出来ず、回路自体
を切断してシアー１つという重大な加工不良を招くこと
になる。又、磁気ヘッド等の製造に於ても同様で、加工
物とダイヤモンドホイールとの位置を精密に位置決めす
る必要があり、不十分であると、トラック幅精度・トラ
ック位置精度が維持出来ないのである。
トされた半導体ウェノ・−を切断或は溝入れするに当っ
てこの半導体ウェノ・−が載置されたテーブルと薄形ダ
イヤモンドホイールの相対位置を精密に位置決めしない
と集積回路相互の間を切断することが出来ず、回路自体
を切断してシアー１つという重大な加工不良を招くこと
になる。又、磁気ヘッド等の製造に於ても同様で、加工
物とダイヤモンドホイールとの位置を精密に位置決めす
る必要があり、不十分であると、トラック幅精度・トラ
ック位置精度が維持出来ないのである。
半導体ウェハー・磁気ヘッド等とダイヤモンドホイール
との位置決めは金属顕微鏡或は双対物顕微鏡・カメラユ
ニノ、トを使用し、半導体ウェハー上の切断ストリート
又は磁気ヘッド上のトランクパターンを検出し、自動・
手動で位置決めをしている。しかしながら前記検出は半
導体ウェハー・磁気ヘッドの切断或は溝入れ時に発生す
る被加工物の微粉を含んだ研削ミスト内で行なう為、顕
微鏡表面・被測定物表面の汚ハ・ミストが顕微鏡レンズ
内へ侵入し、メンテナンスに時間を費やし、更には上記
顕微鏡表面・被測定物表面の汚れにより検出不良が発生
するという問題があった。
との位置決めは金属顕微鏡或は双対物顕微鏡・カメラユ
ニノ、トを使用し、半導体ウェハー上の切断ストリート
又は磁気ヘッド上のトランクパターンを検出し、自動・
手動で位置決めをしている。しかしながら前記検出は半
導体ウェハー・磁気ヘッドの切断或は溝入れ時に発生す
る被加工物の微粉を含んだ研削ミスト内で行なう為、顕
微鏡表面・被測定物表面の汚ハ・ミストが顕微鏡レンズ
内へ侵入し、メンテナンスに時間を費やし、更には上記
顕微鏡表面・被測定物表面の汚れにより検出不良が発生
するという問題があった。
第１図は加工物とダイヤモンドホイールを位置決めする
検出器の構成を示す。
検出器の構成を示す。
１は対物レンズ、２は落射照明用ライトガイド、３は対
物レンズ・加工物間の距離を微動調整する摘み、４は対
物レンズ・加工物間の距離を粗動調整する摘み、６は接
眼レンズ、６は９０°プリズム、７は対物レンズ１かち
とりこんだ像を撮像するカメラ、８は加工物、９は加工
物８を保持する治具、１０は冶具を吸着する回転可能な
チャックテーブルを示す。
物レンズ・加工物間の距離を微動調整する摘み、４は対
物レンズ・加工物間の距離を粗動調整する摘み、６は接
眼レンズ、６は９０°プリズム、７は対物レンズ１かち
とりこんだ像を撮像するカメラ、８は加工物、９は加工
物８を保持する治具、１０は冶具を吸着する回転可能な
チャックテーブルを示す。
Ｆ記構酸に於いて、検出部である対物レンズ１の表面と
加工物の表面は、前述した研削ミスト或は研削時にダイ
ヤモンドホイールの加工位置に供給する研削液で汚れ、
更に研削ミスト或は研削液が対物レンズ１内へ侵入し、
検出不良を生じ、また検出時には対物レンズ１表面及び
加工物８表面をエアーブローし各表面を清浄する作業を
伴ない検出の準備作業に時間を費やすという欠点も有し
ていた。
加工物の表面は、前述した研削ミスト或は研削時にダイ
ヤモンドホイールの加工位置に供給する研削液で汚れ、
更に研削ミスト或は研削液が対物レンズ１内へ侵入し、
検出不良を生じ、また検出時には対物レンズ１表面及び
加工物８表面をエアーブローし各表面を清浄する作業を
伴ない検出の準備作業に時間を費やすという欠点も有し
ていた。
発明の目的
本発明は、−上記従来の欠点を解消するものであり、検
出準備作業時間の削減・検出不良防止するものである。
出準備作業時間の削減・検出不良防止するものである。
発明の構成
本発明は、光学を手段とする検出器により被測定物を測
定するにあたって、検出器□と検出器外周を被い、かつ
検出器表面及び測定物表面を圧力気体でブローできる穴
・溝及び圧力気体取入口を有するカバーとから構成され
ており、圧力気体を供給することにより検出器・被測定
物表面を同時に清浄せｌ〜め更に検出器内に異物が混入
することを防ぐと−う特有の効果を有する。
定するにあたって、検出器□と検出器外周を被い、かつ
検出器表面及び測定物表面を圧力気体でブローできる穴
・溝及び圧力気体取入口を有するカバーとから構成され
ており、圧力気体を供給することにより検出器・被測定
物表面を同時に清浄せｌ〜め更に検出器内に異物が混入
することを防ぐと−う特有の効果を有する。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について、第２，３図を参照１〜
ながら説明する。１１は対物レンズを内蔵した検出器、
１２はこの検出器１１を被うカバー、１３は圧力気体を
取入れるニップル、１４は上記検出器１１にカバー１２
を固定する止メネジ、１６は測定点（検出点）を清浄に
する為の圧力気体を供給する穴、１６は外部エアー供給
源とニップル１３間を結ぶホース、１了は被測定物、１
８は清浄用圧力気体、１９は検出器１１の表面を清浄に
する為の隙である。以−Ｈのように構成されたエアーブ
ロー清浄装置付光学式検出ヘッドについて、以下その動
作を説明する。捷ず、外部圧力気体供給源より圧力気体
を供給することにより圧力気体はホース１６内を通り、
カバー１２と検出器１１の隙を通り、一部は３ケ所の穴
１６より被測定物表面にブローされ被測定物表面を清浄
にする。更にもう一部は隙１９は通り検出器１１の表面
にブローされ検出器表面を清浄にし、更に異物が検出器
１１内に侵入することを防ぐことができる。
ながら説明する。１１は対物レンズを内蔵した検出器、
１２はこの検出器１１を被うカバー、１３は圧力気体を
取入れるニップル、１４は上記検出器１１にカバー１２
を固定する止メネジ、１６は測定点（検出点）を清浄に
する為の圧力気体を供給する穴、１６は外部エアー供給
源とニップル１３間を結ぶホース、１了は被測定物、１
８は清浄用圧力気体、１９は検出器１１の表面を清浄に
する為の隙である。以−Ｈのように構成されたエアーブ
ロー清浄装置付光学式検出ヘッドについて、以下その動
作を説明する。捷ず、外部圧力気体供給源より圧力気体
を供給することにより圧力気体はホース１６内を通り、
カバー１２と検出器１１の隙を通り、一部は３ケ所の穴
１６より被測定物表面にブローされ被測定物表面を清浄
にする。更にもう一部は隙１９は通り検出器１１の表面
にブローされ検出器表面を清浄にし、更に異物が検出器
１１内に侵入することを防ぐことができる。
次に本発明の第２の実施例について第４図を参照しなが
ら説明する。１１１は対物レンズを内蔵した検出器、１
１２は検出器１１１を被うカバー、１１６は測定点を清
浄にする為の圧力気体供給［二Ｊ 。
ら説明する。１１１は対物レンズを内蔵した検出器、１
１２は検出器１１１を被うカバー、１１６は測定点を清
浄にする為の圧力気体供給［二Ｊ 。
１１７は被測定物、１２０は圧力気体の圧力・粘性等に
より、圧力気体供給口１１６からの圧力気体との衝突を
さけ、かつ検出器１１１０表面に清浄にする為の圧力気
体を供給する圧力気体供給溝を示す。
より、圧力気体供給口１１６からの圧力気体との衝突を
さけ、かつ検出器１１１０表面に清浄にする為の圧力気
体を供給する圧力気体供給溝を示す。
前記実施例と異なる点は、検出器のレンズ部に対し、全
周より気流を供給せず、）ｙバー１１２に部分的に圧力
気体供給溝１２０を設けて部分吹き出しにより、清浄作
業を行わせている点である。
周より気流を供給せず、）ｙバー１１２に部分的に圧力
気体供給溝１２０を設けて部分吹き出しにより、清浄作
業を行わせている点である。
発明の効果
このように本発明は検出器外周を検出器表面及び被測定
物表面をブローできるような穴・隙・溝を有するカバー
で被い、外部から気体を供給することにより、検出器表
面・被測定物表面をブロー清浄し、かつ異物が検出器内
へ侵入することを防ぐことができるもので、メンテナン
ス上・作業能率Ｉ−きわめて大きい効果を奏するもので
ある。
物表面をブローできるような穴・隙・溝を有するカバー
で被い、外部から気体を供給することにより、検出器表
面・被測定物表面をブロー清浄し、かつ異物が検出器内
へ侵入することを防ぐことができるもので、メンテナン
ス上・作業能率Ｉ−きわめて大きい効果を奏するもので
ある。
第１図は一般の検出器の構成図、第２図は本発明の一実
施例による清浄装置を示し７、ａは断面図、ｂは下面図
である。第３図は同拡大断面図、第４図は本発明清浄装
置の第２の実施例を示し、ａは拡大断面図、ｂは同要部
拡大下面図である６、１１．１１１−・・・・検出ヘッ
ド、１２・・・・・・カバー、１２ ａ、 １１２
ａ−気流案内部、１５，１１６・・・・気流供給口。 代即人の氏名 フ１゛理士 中 Ｊｉ Ｊｉ攻 男
ほか１名第１図 第２図 ／ｃ／ 第４図
施例による清浄装置を示し７、ａは断面図、ｂは下面図
である。第３図は同拡大断面図、第４図は本発明清浄装
置の第２の実施例を示し、ａは拡大断面図、ｂは同要部
拡大下面図である６、１１．１１１−・・・・検出ヘッ
ド、１２・・・・・・カバー、１２ ａ、 １１２
ａ−気流案内部、１５，１１６・・・・気流供給口。 代即人の氏名 フ１゛理士 中 Ｊｉ Ｊｉ攻 男
ほか１名第１図 第２図 ／ｃ／ 第４図
Claims (2)
- （１）対物レンズまたはガラス等が露出した下端部を有
し、光学を手段とする検出器の検出ヘッドに対し、この
検出ヘッドの外周を所定の空間を介して包固するカバー
と、このカバー内に気流を送る手段とを有し、上記カバ
ーは、同カバー内に導ひかれた気流を上記検出ヘッドの
下端部に案内し、同下端部に気流を接触させたあと、外
部に排出するよう案内する気流ガイド部を形成した検出
ヘッドの清浄装置。 - （２）上記気流ガイド部には、上記カバー内の気流の一
部を被測定物表面に案内する気流供給口を設けた特許請
求の範囲第１項記載の検出ヘッドの清浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2871683A JPS59154305A (ja) | 1983-02-23 | 1983-02-23 | 検出ヘツドの清浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2871683A JPS59154305A (ja) | 1983-02-23 | 1983-02-23 | 検出ヘツドの清浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59154305A true JPS59154305A (ja) | 1984-09-03 |
Family
ID=12256164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2871683A Pending JPS59154305A (ja) | 1983-02-23 | 1983-02-23 | 検出ヘツドの清浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59154305A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62106101U (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-07 | ||
| JPS62162667U (ja) * | 1986-04-02 | 1987-10-16 | ||
| JPH04332804A (ja) * | 1991-05-08 | 1992-11-19 | Hitachi Zosen Corp | 自動化のための位置検出方法 |
| JPH0533006U (ja) * | 1991-10-07 | 1993-04-30 | 三洋電機株式会社 | 電子部品の位置検出装置 |
| JP2006105737A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | 車両の速度測定装置 |
| JP2006153827A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Metrol Ltd | 密着確認センサ |
| JP2013205055A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Sinto S-Precision Ltd | 測定機 |
| JP2017047397A (ja) * | 2015-09-04 | 2017-03-09 | 株式会社パウレック | 流動層装置 |
| CN109540063A (zh) * | 2018-12-31 | 2019-03-29 | 为度科创检测技术（苏州）有限公司 | 一种运用气体进行测量的设备及其测量方法 |
-
1983
- 1983-02-23 JP JP2871683A patent/JPS59154305A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62106101U (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-07 | ||
| JPS62162667U (ja) * | 1986-04-02 | 1987-10-16 | ||
| JPH04332804A (ja) * | 1991-05-08 | 1992-11-19 | Hitachi Zosen Corp | 自動化のための位置検出方法 |
| JPH0533006U (ja) * | 1991-10-07 | 1993-04-30 | 三洋電機株式会社 | 電子部品の位置検出装置 |
| JP2006105737A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | 車両の速度測定装置 |
| JP4639739B2 (ja) * | 2004-10-04 | 2011-02-23 | 横浜ゴム株式会社 | 車両の速度測定装置 |
| JP2006153827A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Metrol Ltd | 密着確認センサ |
| JP2013205055A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Sinto S-Precision Ltd | 測定機 |
| JP2017047397A (ja) * | 2015-09-04 | 2017-03-09 | 株式会社パウレック | 流動層装置 |
| CN109540063A (zh) * | 2018-12-31 | 2019-03-29 | 为度科创检测技术（苏州）有限公司 | 一种运用气体进行测量的设备及其测量方法 |
| CN109540063B (zh) * | 2018-12-31 | 2020-12-08 | 为度科创检测技术（苏州）有限公司 | 一种运用气体进行测量的设备及其测量方法 |
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