JPS59152380A - ラブダン誘導体を含む医薬組成物 - Google Patents
ラブダン誘導体を含む医薬組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
米国特許第4118508号明細書は血圧降下作用およ
び正の変力効果(筋肉組織の収縮性に対する影響)をも
つと言われるコレホルシン化合物(Coleforsi
n )を開示している。
び正の変力効果(筋肉組織の収縮性に対する影響)をも
つと言われるコレホルシン化合物(Coleforsi
n )を開示している。
米国特許第4134986号明細書はやはり血圧降下作
用と正の変力効果をもつと言われるho IJオキシ化
ラうダン誘導体を開示している。
用と正の変力効果をもつと言われるho IJオキシ化
ラうダン誘導体を開示している。
ホルスコリン化合物(Forskolin : 7β−
アセトキシ−8,16−エボキシー1α、6β、9α−
トリヒドロキシラブビー14−エン−11−47)&’
1に記載されている。
アセトキシ−8,16−エボキシー1α、6β、9α−
トリヒドロキシラブビー14−エン−11−47)&’
1に記載されている。
J−C−S−Perkin I、767(1982)は
ホルスコリンのある種の合成変法を開示している。
ホルスコリンのある種の合成変法を開示している。
本発明は新規なラブダン誘導体、それらの製造方法およ
びラブダン誘導体を含む医薬組成物に関する。これらの
化合物および医薬組成物は抗アレルギーおよび/または
気管支拡張効果を誘発しかつ眼圧を低下させる。
びラブダン誘導体を含む医薬組成物に関する。これらの
化合物および医薬組成物は抗アレルギーおよび/または
気管支拡張効果を誘発しかつ眼圧を低下させる。
さらに詳細には、本発明は下記の式1の化合物(遊離形
またはその溶媒和物)を含む抗アレルギーおよび/また
は気管支拡張効果を引き起こす医薬組成物に関する。
またはその溶媒和物)を含む抗アレルギーおよび/また
は気管支拡張効果を引き起こす医薬組成物に関する。
式中、Uは一〇または(H,R1)であり;■は一〇ま
たは(H,R2)であり; R1はHまたはOR1□であり、ここでR1□はH1炭
素原子数1〜乙のアシル基または次式の基である; 〔式中mは0,1.2または6であり、Y +! H。
たは(H,R2)であり; R1はHまたはOR1□であり、ここでR1□はH1炭
素原子数1〜乙のアシル基または次式の基である; 〔式中mは0,1.2または6であり、Y +! H。
ハロゲン、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数
1〜6のアルコキシ基、炭素原子数1〜乙のアルキルチ
オ基、OH,GF3. No2゜ON、フェニル基、ベ
ンジル基、フェノキシ基またはNRaRb (ここでR
aおよびF(bは同一または異なってHまたは炭素原子
数1〜6のアルキル基である)である〕 R2+tH,0R11,0802R’ t?、JtOR
’ テアリ、ここでR1□は先に定義した通りであり、
R′は炭素原子数1〜6のアルキル基である;またR1
およびR2が一緒になった場合に、それらは次式の基を
形成し; 〔式中R13おJ−びR□4は同一または異なってH1
炭素原子数1〜乙のアルキル基、炭素原子数1〜6のア
ルコキシ基、炭素原子数2〜6のアルケニル基、炭素原
子数2〜乙のアルmおよびYは先に定義した通りである
)である〕 RはH1炭素原子数1〜10のアルキル基、0H20H
,[)10. Go2R15(tm コテR15ハHt
たは炭素原子数1〜6のアルキル基である)GH=OR
16R1□〔ここでR16はHl)・ロゲン、炭素原子
数1〜乙のアルキル基、ON。
1〜6のアルコキシ基、炭素原子数1〜乙のアルキルチ
オ基、OH,GF3. No2゜ON、フェニル基、ベ
ンジル基、フェノキシ基またはNRaRb (ここでR
aおよびF(bは同一または異なってHまたは炭素原子
数1〜6のアルキル基である)である〕 R2+tH,0R11,0802R’ t?、JtOR
’ テアリ、ここでR1□は先に定義した通りであり、
R′は炭素原子数1〜6のアルキル基である;またR1
およびR2が一緒になった場合に、それらは次式の基を
形成し; 〔式中R13おJ−びR□4は同一または異なってH1
炭素原子数1〜乙のアルキル基、炭素原子数1〜6のア
ルコキシ基、炭素原子数2〜6のアルケニル基、炭素原
子数2〜乙のアルmおよびYは先に定義した通りである
)である〕 RはH1炭素原子数1〜10のアルキル基、0H20H
,[)10. Go2R15(tm コテR15ハHt
たは炭素原子数1〜6のアルキル基である)GH=OR
16R1□〔ここでR16はHl)・ロゲン、炭素原子
数1〜乙のアルキル基、ON。
1
C(0)、Rc(nはOまたは1であり、RcはHまた
は炭素原子数1〜6のアルキル基である)フェニル基、
ベンジル基、CHOHRcまたは0(OR,)2F(、
(Rcは先に定義した通りでありRd、は炭素原子数1
〜6のアルキル基である)であり、R1□はH1炭素原
子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキ
シ基、ばンジル基、フェニル基またはノ・ロゲンである
〕、 −C=Q −R□8〔ここでR18はH1炭素原子数1
〜12のアルキル基、炭素原子数1〜6のした通り)で
ある〕、 −CHOH−C;==G −R□9(ここでR19はH
1炭素原子数1〜6のアルキル基、フェニル基またはば
ンジル基である)。
は炭素原子数1〜6のアルキル基である)フェニル基、
ベンジル基、CHOHRcまたは0(OR,)2F(、
(Rcは先に定義した通りでありRd、は炭素原子数1
〜6のアルキル基である)であり、R1□はH1炭素原
子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキ
シ基、ばンジル基、フェニル基またはノ・ロゲンである
〕、 −C=Q −R□8〔ここでR18はH1炭素原子数1
〜12のアルキル基、炭素原子数1〜6のした通り)で
ある〕、 −CHOH−C;==G −R□9(ここでR19はH
1炭素原子数1〜6のアルキル基、フェニル基またはば
ンジル基である)。
−C)(=C=GHR19または−GH=N−OR19
(ここでR1(1は先に定義した通りである)。
(ここでR1(1は先に定義した通りである)。
りである)。
−CI((ZR2o)2[ここでZは先に定義した通り
であり、R2oは炭素原子数1〜乙のアルキル基、フェ
ニル基またはベンジル基であり、また2個の基R2oが
一緒になって−(CH2)、−(pは2またはろ)を形
成する〕。
であり、R2oは炭素原子数1〜乙のアルキル基、フェ
ニル基またはベンジル基であり、また2個の基R2oが
一緒になって−(CH2)、−(pは2またはろ)を形
成する〕。
ψ
基またはC(0)rLRo(FLおよびR,は先に定義
した通り)である〕、または−CH=N −NDE [
ここでDおよびEはH1炭素原子数1〜乙のアルキル基
、ベンジル基、フェニル基、COG 、 5o2Gまた
はGO2G(Gは炭素原子数1〜乙のアルキル基、ベン
ジル基またはフェニル基)である〕であり; R4はHまたはOHであり; R5はOHであり;また Rおj:びR5が−緒になった場合に、それらは形成し
; Xは0またはHlo R“であり、ここでR“ばH1炭
素原子数1〜6のアシル基またはトリフルオロアセチル
基である; QはH1塩素または臭素であり;あるいはQはR3と−
緒になって12位の炭素原子と16位の炭素原子の間に
一つの結合を形成する;但し、式Iの5.6−デヒドロ
誘導体においてR□はHであり、また式Iの6,7−デ
ヒドロ誘導体においてR1およびR2は共にHである。
した通り)である〕、または−CH=N −NDE [
ここでDおよびEはH1炭素原子数1〜乙のアルキル基
、ベンジル基、フェニル基、COG 、 5o2Gまた
はGO2G(Gは炭素原子数1〜乙のアルキル基、ベン
ジル基またはフェニル基)である〕であり; R4はHまたはOHであり; R5はOHであり;また Rおj:びR5が−緒になった場合に、それらは形成し
; Xは0またはHlo R“であり、ここでR“ばH1炭
素原子数1〜6のアシル基またはトリフルオロアセチル
基である; QはH1塩素または臭素であり;あるいはQはR3と−
緒になって12位の炭素原子と16位の炭素原子の間に
一つの結合を形成する;但し、式Iの5.6−デヒドロ
誘導体においてR□はHであり、また式Iの6,7−デ
ヒドロ誘導体においてR1およびR2は共にHである。
定義した化合物の一部分は新規であり、さらに詳細に下
で論じられるだろう。
で論じられるだろう。
先に定義した組成物のうちで次に定義する式Iの化合物
を含むものが特に興味のあるものである:Uは(H,R
1)であり; ■は(H,R2)であり; R1およびR2は同一または異なってHまたは0R11
(R1□は特許請求の範囲第1項に定義した通りであり
、YはHである)であり; Rば−GH=GHR、7゜ 一〇=CR□8゜ −CH0H−C邦−R19゜ −CH=C−CHR19゜ −CH=N−OFI 、 、。
を含むものが特に興味のあるものである:Uは(H,R
1)であり; ■は(H,R2)であり; R1およびR2は同一または異なってHまたは0R11
(R1□は特許請求の範囲第1項に定義した通りであり
、YはHである)であり; Rば−GH=GHR、7゜ 一〇=CR□8゜ −CH0H−C邦−R19゜ −CH=C−CHR19゜ −CH=N−OFI 、 、。
(上式各式中、R□7.R18およびR19はH1炭素
原子数1〜乙のアルキル基、フェニル基またははンジル
基である) −(3H=N、−NHD [ここでDばH1炭素原子数
1〜乙のアルキル基、フェニル基、はンジル基、502
GまたはGO2G(Gは炭素原子数1〜乙のアルキル基
)である〕 であり; R4はHまたはOHであり; R5はOHであり; Xは0または(H,OH)であり: QはHまたは塩素であり; 5.6位および6.7位の炭素原子は単結合により結合
されるか、あるいは5位と6位の炭素原子は二重結合に
より結合され、 この場合にR□はHでありかっR2は好ましくはOR1
□(R工1は特許請求の範囲第1項に定義した通りであ
り、YはHである)である。
原子数1〜乙のアルキル基、フェニル基またははンジル
基である) −(3H=N、−NHD [ここでDばH1炭素原子数
1〜乙のアルキル基、フェニル基、はンジル基、502
GまたはGO2G(Gは炭素原子数1〜乙のアルキル基
)である〕 であり; R4はHまたはOHであり; R5はOHであり; Xは0または(H,OH)であり: QはHまたは塩素であり; 5.6位および6.7位の炭素原子は単結合により結合
されるか、あるいは5位と6位の炭素原子は二重結合に
より結合され、 この場合にR□はHでありかっR2は好ましくはOR1
□(R工1は特許請求の範囲第1項に定義した通りであ
り、YはHである)である。
さらに詳細には、その組成物は次に定義する式Iの化合
物を含有する: Uは(H,R1)であり; ■は(H,R2)であり; R1およびR2は同一または異なってHまたはOR1゜
(R1□は先に定義した通りであり、YはHである)で
あり; R3はH1炭素原子数1〜6のアルキル基、−C;H=
CHR16または−G−=−GR18(F116および
R18はH1炭素原子数1〜6のアルキル基、フェニル
基、ベンジル基またはC02RcでアリRoは特許請求
の範囲第1項に定義した通りである)であり; R4はHまたはOHであり; R5はOHであり; Xは0または(H,OH)であり; QはHまたは塩素であり; 5,6位および6,7位の炭素原子は単結合により結合
されるか、あるいは5位と6位の炭素原子は二重結合に
より結合され、この場合にR1はHでありかつR2は好
ましくは0F(1□(R1,に1先に定義した通りであ
り、YはHである)であり:特にR4はHであるものが
好ましく・。
物を含有する: Uは(H,R1)であり; ■は(H,R2)であり; R1およびR2は同一または異なってHまたはOR1゜
(R1□は先に定義した通りであり、YはHである)で
あり; R3はH1炭素原子数1〜6のアルキル基、−C;H=
CHR16または−G−=−GR18(F116および
R18はH1炭素原子数1〜6のアルキル基、フェニル
基、ベンジル基またはC02RcでアリRoは特許請求
の範囲第1項に定義した通りである)であり; R4はHまたはOHであり; R5はOHであり; Xは0または(H,OH)であり; QはHまたは塩素であり; 5,6位および6,7位の炭素原子は単結合により結合
されるか、あるいは5位と6位の炭素原子は二重結合に
より結合され、この場合にR1はHでありかつR2は好
ましくは0F(1□(R1,に1先に定義した通りであ
り、YはHである)であり:特にR4はHであるものが
好ましく・。
R1およびR2はOH1□(R51はHまたはアシル基
、好ましくは炭素原子を1〜6個含むものである)であ
り、そして/またR3にメチル基、エチル基またはビニ
ル基である式Iの化合物を含む組成物は好ましい範囲の
ものである。
、好ましくは炭素原子を1〜6個含むものである)であ
り、そして/またR3にメチル基、エチル基またはビニ
ル基である式Iの化合物を含む組成物は好ましい範囲の
ものである。
好ましい組成物は次の化合物を含有する:ホルスコリン
(ニアβ−アセトキシ−8,13−工lキシー1α、6
β、9α−トリヒドロキシラブト9−14−エン−11
〜オン); 7−ジスアセチルホルスコリン(=8.13−エポキシ
−1α、6β、7β、9α−テトラヒドロキシラブド−
14−エン−11−オン); 6−アセドキシー7−fスアセチルホルスコリン(=6
β−アセトキシー8.16−エボキシー1α。
(ニアβ−アセトキシ−8,13−工lキシー1α、6
β、9α−トリヒドロキシラブト9−14−エン−11
〜オン); 7−ジスアセチルホルスコリン(=8.13−エポキシ
−1α、6β、7β、9α−テトラヒドロキシラブド−
14−エン−11−オン); 6−アセドキシー7−fスアセチルホルスコリン(=6
β−アセトキシー8.16−エボキシー1α。
7β、9α−トリヒドロキシラブ)−″−14−エンー
11−オン); 8.1ろ一工誦キシー1α、6β、7β−トリヒドロキ
シ−ラブド−14−エン−11−オン 7−アセテート
;8.16−エペキシー1α、7β、9α−トリヒドロ
キシーラズド−5(61−エン−11−オン 7−アセ
テート; 8.16−エボキシー1α、6β、7β−トリヒドロキ
シ−ラブf−14−エンー11−オン 6−アセテート
; 8.16−エパキシー1α、7β、9α−トリヒドロキ
シーラブド−5(61,14−ジエン−11−オン 7
−アセテート: 8.13−工Aぞキシ−1α、6β、7β−トリヒドロ
キシ−ラブド−14−エン−11−オン;8.16−ニ
ポキシー1σ、6β、7β、11β−テトラヒドロキシ
ー−7’)’−14−エン;8.16−エボキシー1α
、6β、7β、11β−テトラヒドロキシ−ラブド−1
4−エン 7−アセテート;12−クロロ−8,13−
エポキシ−1α、7β−ジヒトゝロキシーラブグー5(
61,14−ジエ/−11−オン 7−アセテート; 15−ツルー8,16−ニポキシー1α、6β、7β、
9α−テトラヒドロキシ−ラブダン−11−オン;15
−ツルー8,16−ニポキシー1α、6β、7β、9α
−テトラヒドロキシ−ラブダ/−11−オン7−アセテ
ート; 8.16−エパキシー1α、7β、9α−トリヒトゞロ
キシーラブダ−5f61,14−ジエン 7−プロピオ
ネート; または 8.16−エlキシ−1α、7β、9α−トリヒドロキ
シーラズダ−5f61,14−ジエン−11−オン。
11−オン); 8.1ろ一工誦キシー1α、6β、7β−トリヒドロキ
シ−ラブド−14−エン−11−オン 7−アセテート
;8.16−エペキシー1α、7β、9α−トリヒドロ
キシーラズド−5(61−エン−11−オン 7−アセ
テート; 8.16−エボキシー1α、6β、7β−トリヒドロキ
シ−ラブf−14−エンー11−オン 6−アセテート
; 8.16−エパキシー1α、7β、9α−トリヒドロキ
シーラブド−5(61,14−ジエン−11−オン 7
−アセテート: 8.13−工Aぞキシ−1α、6β、7β−トリヒドロ
キシ−ラブド−14−エン−11−オン;8.16−ニ
ポキシー1σ、6β、7β、11β−テトラヒドロキシ
ー−7’)’−14−エン;8.16−エボキシー1α
、6β、7β、11β−テトラヒドロキシ−ラブド−1
4−エン 7−アセテート;12−クロロ−8,13−
エポキシ−1α、7β−ジヒトゝロキシーラブグー5(
61,14−ジエ/−11−オン 7−アセテート; 15−ツルー8,16−ニポキシー1α、6β、7β、
9α−テトラヒドロキシ−ラブダン−11−オン;15
−ツルー8,16−ニポキシー1α、6β、7β、9α
−テトラヒドロキシ−ラブダ/−11−オン7−アセテ
ート; 8.16−エパキシー1α、7β、9α−トリヒトゞロ
キシーラブダ−5f61,14−ジエン 7−プロピオ
ネート; または 8.16−エlキシ−1α、7β、9α−トリヒドロキ
シーラズダ−5f61,14−ジエン−11−オン。
医薬組成物中に含まれる式lの化合物はそれらの遊離形
またはそれらの溶媒和物(例えば水和物)の形をとるこ
とができる。
またはそれらの溶媒和物(例えば水和物)の形をとるこ
とができる。
本明細書中で使用する場合に、次の用語はもし他に指定
されなければ次に示す意味を有するだろう: アルキル−炭素原子数1〜乙の直線状または分枝状の炭
素鎖; アルコキシおよびアルキルチオ−炭素原子数1〜乙の直
線状または分枝状炭素鎖が酸素原子または硫黄原子にそ
れぞれ単結合で結合したもの;ハロゲン−フッ素、塩素
、臭素およびヨウ素;アシル−炭素原子数1〜乙の直線
状または分枝状アルカン酸から誘導されるアシル部分;
アルケニル−1つの二重結合を含む炭素原子数2〜6の
直線状または分枝状の炭素鎖;アルキニル−1つの三重
結合を含む炭素原子数2〜6の直線状または分枝状の炭
素鎖;もし他に指定されなければ、本明細書中では次つ
番号付けが式1の化合物に対して使用される:破線(・
・・)は置換基が紙面の下方忙つき出ていることを示し
ておりαとしてしるされ、重線(−m)は置換基が紙面
の上方につき出ていることを示しておりβとしてしるさ
れる。
されなければ次に示す意味を有するだろう: アルキル−炭素原子数1〜乙の直線状または分枝状の炭
素鎖; アルコキシおよびアルキルチオ−炭素原子数1〜乙の直
線状または分枝状炭素鎖が酸素原子または硫黄原子にそ
れぞれ単結合で結合したもの;ハロゲン−フッ素、塩素
、臭素およびヨウ素;アシル−炭素原子数1〜乙の直線
状または分枝状アルカン酸から誘導されるアシル部分;
アルケニル−1つの二重結合を含む炭素原子数2〜6の
直線状または分枝状の炭素鎖;アルキニル−1つの三重
結合を含む炭素原子数2〜6の直線状または分枝状の炭
素鎖;もし他に指定されなければ、本明細書中では次つ
番号付けが式1の化合物に対して使用される:破線(・
・・)は置換基が紙面の下方忙つき出ていることを示し
ておりαとしてしるされ、重線(−m)は置換基が紙面
の上方につき出ていることを示しておりβとしてしるさ
れる。
式Iの化合物は光学異性体および/または幾伺異性体と
して存在してもよい。6,7.11および12位(これ
らの位置の炭素原子が二重結合により結合されていない
場合)の置換基はα−またはβ−位をとることができる
。ある種の置換基、特にある種のR3−[換基は異性体
形で存在してもよい(特[−GH=CR16R1□、
−CHoHRC,C(OR,z)2Rc。
して存在してもよい。6,7.11および12位(これ
らの位置の炭素原子が二重結合により結合されていない
場合)の置換基はα−またはβ−位をとることができる
。ある種の置換基、特にある種のR3−[換基は異性体
形で存在してもよい(特[−GH=CR16R1□、
−CHoHRC,C(OR,z)2Rc。
H
「
一0H−G−=(3R19,−GH=C−GHR□9.
−CH=N−OR19゜および−CH=N−NDE)。
−CH=N−OR19゜および−CH=N−NDE)。
さらにR3が水素である場合に、化合物(1)は2つの
エピマー形で存在する。
エピマー形で存在する。
本発明はこれらの全ての異性体の純粋なものまたは混合
されたものの双方を包含する。
されたものの双方を包含する。
本発明組成物は当該技術分野において既知の式Iの活性
成分を含む組成物と同様に毒性がないと考えられる。
成分を含む組成物と同様に毒性がないと考えられる。
本発明組成物において、式1の活、性化合物は製剤上許
容される担体と組み合わされる。その組成物は経口使用
または非経口使用のためのよく知られた剤形で投与され
る。その組成物は常法を使用して製剤上許容される通常
の賦形剤および添加剤を用いて調製したカプセル剤、錠
剤、丸剤、粉末剤、懸濁剤または溶液剤のような慣用の
経口投与形体で投与される。非経口製剤、すなわち無菌
の溶液剤または懸濁剤もまた常法により作られる。
容される担体と組み合わされる。その組成物は経口使用
または非経口使用のためのよく知られた剤形で投与され
る。その組成物は常法を使用して製剤上許容される通常
の賦形剤および添加剤を用いて調製したカプセル剤、錠
剤、丸剤、粉末剤、懸濁剤または溶液剤のような慣用の
経口投与形体で投与される。非経口製剤、すなわち無菌
の溶液剤または懸濁剤もまた常法により作られる。
吸入投与には鼻腔内または口腔内スプレーの形をとるこ
とができる。吹入れ法もまた適当である。
とができる。吹入れ法もまた適当である。
外用剤としてはクリーム剤、軟膏剤、ローション剤。お
よび眼圧治療用の点眼剤などがある。他の使用できる投
与形体は経皮性デバイスおよび坐剤である。
よび眼圧治療用の点眼剤などがある。他の使用できる投
与形体は経皮性デバイスおよび坐剤である。
上記組成物に使用するための一般的な製剤上許容される
担体を次に例示する:糖類(例えば、乳糖、蔗糖、マン
ニトール、ソルビトール);澱粉(例えば、トウモロコ
シ澱粉、タピオカ澱粉、パレイショ澱粉);セルロース
およびその誘導体(例えば、カルボキシメチルセルロー
スナトリウム、エチルセルロース、メチルセルロース)
;燐酸カルシウム(例えば、燐酸二カルシウム、燐酸三
カルシウム);硫酸ナトリウム;硫酸カルシウム;ホリ
ビニルピロリビン;ホリビニルアルコール:ステアリン
酸;ステアリン酸のアルカリ土類金属塩(例えば、ステ
アリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム);植
物油(例えば、落花生油、綿実油、ゴマ油、オリーブ油
、コーン油);非イオン、陽イオンおよび陰イオン界面
活性剤;エチレングリコールポリマー;(−ターシクロ
デキストリ/;脂肪アルコール;穀類の加水分解固形物
;および他の無播性の適合する充填剤、結合剤、崩壊剤
、緩衝剤、防腐剤、抗酸化剤、滑沢剤、風味剤および医
薬組成物に常用されるもの。
担体を次に例示する:糖類(例えば、乳糖、蔗糖、マン
ニトール、ソルビトール);澱粉(例えば、トウモロコ
シ澱粉、タピオカ澱粉、パレイショ澱粉);セルロース
およびその誘導体(例えば、カルボキシメチルセルロー
スナトリウム、エチルセルロース、メチルセルロース)
;燐酸カルシウム(例えば、燐酸二カルシウム、燐酸三
カルシウム);硫酸ナトリウム;硫酸カルシウム;ホリ
ビニルピロリビン;ホリビニルアルコール:ステアリン
酸;ステアリン酸のアルカリ土類金属塩(例えば、ステ
アリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム);植
物油(例えば、落花生油、綿実油、ゴマ油、オリーブ油
、コーン油);非イオン、陽イオンおよび陰イオン界面
活性剤;エチレングリコールポリマー;(−ターシクロ
デキストリ/;脂肪アルコール;穀類の加水分解固形物
;および他の無播性の適合する充填剤、結合剤、崩壊剤
、緩衝剤、防腐剤、抗酸化剤、滑沢剤、風味剤および医
薬組成物に常用されるもの。
本発明組成物にアレルギーが原因でおこる病気特にアレ
ルギー性の慢性病である閉塞性肺病を治療するのに使用
することができる。ここで使用する慢性の閉塞性肺病と
(工ぜんそくや気管支炎の場合のように肺への空気の流
通が妨害されるかあるいは減少される病状を意味する。
ルギー性の慢性病である閉塞性肺病を治療するのに使用
することができる。ここで使用する慢性の閉塞性肺病と
(工ぜんそくや気管支炎の場合のように肺への空気の流
通が妨害されるかあるいは減少される病状を意味する。
式Iの化合物は、抗原で誘発された気管支狭窄部をもつ
感作されたテンジクネズミにおいてアナフィラキシ−性
気管支痙彎に対する化合物の阻+)−能力を測定する試
験から、抗アレルギー効果を引き起こすことがわかった
。例えば、7β−アセトキシ−8,13−エポキシ−1
α、6β、9α−トリヒドロキシ−ラブド−14−エン
−11−オンQ工、1〜6Tn9/に9の用量で静脈内
に投与した場合K、このような試験方法でアナフィラキ
シ−性気管支痙ψを阻止することが見い出された。と配
化合物はまたテンジクネズミおよびヒトの感作された組
織からアレルゲンで誘発されたヒスタミンの放出を阻止
することが見い出された。結論として言えば、先に定義
した式Iの化合物は効果的な抗アドレナリン作働剤、抗
コリン阻害剤、抗アナフィラキシー剤および気管支拡張
剤である。経口的に投与した場合それらの化合物は体重
1 kgあたり約0.2〜20■の用量で活性であり、
非経口的(例えば、静脈内)に投与した場合それらは体
重1!に9あたり約01〜6〜の用量で活性であり、そ
して吸入(エアゾールまたはネビュライザー)で投与し
た場合それらは1吹きにつき約0,1〜10In9の用
量で4時間ごとに1〜4吹きすることにより活性である
。
感作されたテンジクネズミにおいてアナフィラキシ−性
気管支痙彎に対する化合物の阻+)−能力を測定する試
験から、抗アレルギー効果を引き起こすことがわかった
。例えば、7β−アセトキシ−8,13−エポキシ−1
α、6β、9α−トリヒドロキシ−ラブド−14−エン
−11−オンQ工、1〜6Tn9/に9の用量で静脈内
に投与した場合K、このような試験方法でアナフィラキ
シ−性気管支痙ψを阻止することが見い出された。と配
化合物はまたテンジクネズミおよびヒトの感作された組
織からアレルゲンで誘発されたヒスタミンの放出を阻止
することが見い出された。結論として言えば、先に定義
した式Iの化合物は効果的な抗アドレナリン作働剤、抗
コリン阻害剤、抗アナフィラキシー剤および気管支拡張
剤である。経口的に投与した場合それらの化合物は体重
1 kgあたり約0.2〜20■の用量で活性であり、
非経口的(例えば、静脈内)に投与した場合それらは体
重1!に9あたり約01〜6〜の用量で活性であり、そ
して吸入(エアゾールまたはネビュライザー)で投与し
た場合それらは1吹きにつき約0,1〜10In9の用
量で4時間ごとに1〜4吹きすることにより活性である
。
化合物の投与量、投与回数および投与方法は患者の年齢
、体重および状態さらに治療される病気の程度などの諸
要因を考慮しながら主治医の判断に従って調整されるだ
ろう。一般的に10〜5000m9/日、好ましく h
s 100〜1000 mti/日の用量て2〜4回に
分割して経口投与することにより症状の軽減が達成され
る。
、体重および状態さらに治療される病気の程度などの諸
要因を考慮しながら主治医の判断に従って調整されるだ
ろう。一般的に10〜5000m9/日、好ましく h
s 100〜1000 mti/日の用量て2〜4回に
分割して経口投与することにより症状の軽減が達成され
る。
次の試験方法は抗原で誘発されたアナフィラキシ−性気
管支痙牽を駆出することについての本発明化合物の有用
性を評価するために使用された。
管支痙牽を駆出することについての本発明化合物の有用
性を評価するために使用された。
メイルハートレイ(Male Hartley)のテン
:)クネズミは1日目に塩化ナトリウム水溶液1d中の
卵アルブミ75〜を腹腔内(i−p−)注射しかつ同じ
卵アルブミン5ダを皮下(s、c、)注射し、そして4
日目に卵アルブミン5In9を注射(i−p−)するこ
とにより感作させた。この感作されたネズミは3〜4週
間後に使用した。
:)クネズミは1日目に塩化ナトリウム水溶液1d中の
卵アルブミ75〜を腹腔内(i−p−)注射しかつ同じ
卵アルブミン5ダを皮下(s、c、)注射し、そして4
日目に卵アルブミン5In9を注射(i−p−)するこ
とにより感作させた。この感作されたネズミは3〜4週
間後に使用した。
アナフィラキシ−性気管支痙章を測定するために、感作
されたテンジクネズミは一晩絶食させ、次の朝シアルウ
レタン(ジアリルバルビッール酸0、19 /ml、エ
チル尿素0.4#/dおよびウレタン0.419 /r
nl ) 0.9 R1/’に9を注射(i−p−)
して麻酔をかけた。気管と頚静脈にカニユーレを挿入し
そのネズミに57dのストローク量をもつ50ストロ一
ク/分のバーバード(Harvard)ネズミ用人工呼
吸器で空気を送入した。気管カニユーレの枝管をバーバ
ード圧力変換器に連結して気管内圧力を連続測定し、こ
れをバーバードポリグラフに記録した。記録器は50趨
H,9の圧力が25關のはンのそりを生ずるように修I
Eシた。気管内圧力の増加を工気管支狭窄の度合である
と見なした。
されたテンジクネズミは一晩絶食させ、次の朝シアルウ
レタン(ジアリルバルビッール酸0、19 /ml、エ
チル尿素0.4#/dおよびウレタン0.419 /r
nl ) 0.9 R1/’に9を注射(i−p−)
して麻酔をかけた。気管と頚静脈にカニユーレを挿入し
そのネズミに57dのストローク量をもつ50ストロ一
ク/分のバーバード(Harvard)ネズミ用人工呼
吸器で空気を送入した。気管カニユーレの枝管をバーバ
ード圧力変換器に連結して気管内圧力を連続測定し、こ
れをバーバードポリグラフに記録した。記録器は50趨
H,9の圧力が25關のはンのそりを生ずるように修I
Eシた。気管内圧力の増加を工気管支狭窄の度合である
と見なした。
テンジクネズミの各々にdll−プロプラノロー#(H
C/塩)1m9/lv、イア Vメ+シフ51n9/に
9およびメピ2ミ/(マレイン酸り2#/ICI!を一
緒に合わせてi ml / kgの債で静脈内に注射し
た。
C/塩)1m9/lv、イア Vメ+シフ51n9/に
9およびメピ2ミ/(マレイン酸り2#/ICI!を一
緒に合わせてi ml / kgの債で静脈内に注射し
た。
15分後、これらのネズミにデビルビス(Devil−
bi、ss’) 65型超音波ネビユライザーから発生
するエアゾールとして気管カニユーレを介して60秒間
抗原(0,5%卵アルブミン)を投与した。気管支狭窄
は抗原投与後15分以内におこる気管内圧力の最大増加
として測定した・ 気管支狭窄は同時に4匹のテンジクネズミを用いて試験
した。静脈内投与した試験化合物のアナフィラキシ−性
気管支痙牽に対する効果は気管内圧力の最大増加が逆転
するパーセントとして表わした。
bi、ss’) 65型超音波ネビユライザーから発生
するエアゾールとして気管カニユーレを介して60秒間
抗原(0,5%卵アルブミン)を投与した。気管支狭窄
は抗原投与後15分以内におこる気管内圧力の最大増加
として測定した・ 気管支狭窄は同時に4匹のテンジクネズミを用いて試験
した。静脈内投与した試験化合物のアナフィラキシ−性
気管支痙牽に対する効果は気管内圧力の最大増加が逆転
するパーセントとして表わした。
本発明化合物の代表的なものについて、ト記方法から得
られた結果を下に示す。
られた結果を下に示す。
43 (0,1)
一般式1で示される化合物のうち一部分は新規化合物で
ある。本発明の新規化合物は先に定義した一般式1の化
合物(それらの溶媒和物を含む)であるが、但し H4がHである場合に、8,16−ニポキシー1α。
ある。本発明の新規化合物は先に定義した一般式1の化
合物(それらの溶媒和物を含む)であるが、但し H4がHである場合に、8,16−ニポキシー1α。
6β、7β、1’1(r−テトラヒト90キシラブド”
−143)−工/は除かれ、また R がQHであるかあるいはR4とR5が一緒(6,7
)位および(12,15)位の各炭素原子が単結合で結
合される場合に、R3がan−cH2,0H20H3゜
本発明の新規化合物は次の基を有する化合物(それらの
溶媒和物を含む)に特定することかできる:5) 1) f(4はHである(但し、8.16−エボキシ
ー1α、6β、7β、11α−テトラヒドロキシラズト
’−14−エンは除く)先に定義した式Iの化合物: 2) )(4はOHである(但し、)(3を工GH=
CH2゜02H5,GHOまたぼ0H−1;l(2でに
ない)先\/ に定義した式1の化合物; 5位と6位の炭素原子は二重結合で結合されR1はHで
あり、)+5にOHである先に定義した式1の化合物; 5位と6位の炭素原子は二重結合で結合されXはOまた
はα−H/β−OHであり、Q&工HまたはClであり
、 R1はHであり、 R2はOF(□1であり、 R3はHSCH3,C2H5またはGH=GH2であり
R4ばHまたはOHであり、そして R5はOHである、先に定義した式Iの化合物;R1お
よびR2は同一または異なってHまたはOR1□(l(
1□は先に定義した通りであり、YはHである)であり
、 R3&工H1炭素原子敬1〜6のアルキル基、−GH=
GHRまたGニー〇−EC;R18[i(□6お6 よびR18+tH1炭素原子数1〜6のアルキル基、フ
ェニル基、ベンジル基またはGo2Rc(f(cは先に
定義した通り)である〕であり、 R5はOHであり、 XレユOまたレユ(H,OH)であり、QしまH−1:
たはGlであり、 5.6位および6,7位の炭素原子は単結合で結合され
ろか、あるいは5位と6位の炭素原子は二重補合で結合
され、この場合にR1は好ましく(工HでありかつR2
9′i好ましくはOR1,(F(、□に先に定義した通
りであり、YにHである)である、先に定義した式1式
% 6)H4およびR2は同一またはA’/、’cつてHま
た(工0I(11(l(3、はH−1mか工炭素原子数
1〜2のアシル基である)であるか、あるいはH4ば=
0でk)りかつR2は(JR,、でありR3はエチル基
またはビニル基であり、H4はHであり、 f(5&工OHであり、 Xは−OまたはHloHであり、そして5位と6位の炭
素原子は単結合もしくは二重結合で結合され、後者の場
合にR1はHでありかつR2は炭素原子数1〜2のアシ
ルオキシ基である、先に定義した式1本発明の新規化合
物のうちで次の化合物は特に興味のあるものである。
−143)−工/は除かれ、また R がQHであるかあるいはR4とR5が一緒(6,7
)位および(12,15)位の各炭素原子が単結合で結
合される場合に、R3がan−cH2,0H20H3゜
本発明の新規化合物は次の基を有する化合物(それらの
溶媒和物を含む)に特定することかできる:5) 1) f(4はHである(但し、8.16−エボキシ
ー1α、6β、7β、11α−テトラヒドロキシラズト
’−14−エンは除く)先に定義した式Iの化合物: 2) )(4はOHである(但し、)(3を工GH=
CH2゜02H5,GHOまたぼ0H−1;l(2でに
ない)先\/ に定義した式1の化合物; 5位と6位の炭素原子は二重結合で結合されR1はHで
あり、)+5にOHである先に定義した式1の化合物; 5位と6位の炭素原子は二重結合で結合されXはOまた
はα−H/β−OHであり、Q&工HまたはClであり
、 R1はHであり、 R2はOF(□1であり、 R3はHSCH3,C2H5またはGH=GH2であり
R4ばHまたはOHであり、そして R5はOHである、先に定義した式Iの化合物;R1お
よびR2は同一または異なってHまたはOR1□(l(
1□は先に定義した通りであり、YはHである)であり
、 R3&工H1炭素原子敬1〜6のアルキル基、−GH=
GHRまたGニー〇−EC;R18[i(□6お6 よびR18+tH1炭素原子数1〜6のアルキル基、フ
ェニル基、ベンジル基またはGo2Rc(f(cは先に
定義した通り)である〕であり、 R5はOHであり、 XレユOまたレユ(H,OH)であり、QしまH−1:
たはGlであり、 5.6位および6,7位の炭素原子は単結合で結合され
ろか、あるいは5位と6位の炭素原子は二重補合で結合
され、この場合にR1は好ましく(工HでありかつR2
9′i好ましくはOR1,(F(、□に先に定義した通
りであり、YにHである)である、先に定義した式1式
% 6)H4およびR2は同一またはA’/、’cつてHま
た(工0I(11(l(3、はH−1mか工炭素原子数
1〜2のアシル基である)であるか、あるいはH4ば=
0でk)りかつR2は(JR,、でありR3はエチル基
またはビニル基であり、H4はHであり、 f(5&工OHであり、 Xは−OまたはHloHであり、そして5位と6位の炭
素原子は単結合もしくは二重結合で結合され、後者の場
合にR1はHでありかつR2は炭素原子数1〜2のアシ
ルオキシ基である、先に定義した式1本発明の新規化合
物のうちで次の化合物は特に興味のあるものである。
8.16−エポキシ−1α、6B、フβ−トリヒトゞロ
キシーラプド14−エン−11−オン 7−アセテート
; 8.1ろ一エポキシー1α、7β、9α−トリヒドロキ
シ−ラブ)’−5f6i−エンー11−オン 7−アセ
テート; 8.1ろ一エポキシー1α、6β、7β−トリヒドロキ
シ−ラブ)”−14−エン−11−オン 6−アセテー
ト; 8#15−4.gキシ−1/J、7β、9α−)IJヒ
)’ワキシーラブグー5t(3)、14−ジエン−11
−オン7−アセテート; 8.16−エボキシー1α、6β、7β−トリヒドロキ
シ−ラブド− 8、16−エボキシー1α,6β,7β,11β−テト
ラヒドロキシーラブト4−14−エン;B 、16−:
r−$キシー 1(r、6β、7β、11β−テトラヒ
ドロキシ−ラブド−14−エン 7−アセテート;12
−クロロ−8,13−エポキシ−1α、7β−ジヒドロ
キシ−ラブダ−5(61,14−ジェ/−11−オン
7−アセテート; 15−ツルー8,16−エボキシー1α、6β、7β、
9α−テトラヒト90キシ−ラブダン−11−オン;1
5−ツルー8,16−エボキシー1α、6β、7β、9
α−テトラヒドロキシーラブダン−11−オ/7−アセ
テート; 8.16−エボキシー1α、7β、9α−トリヒドロキ
シ−ラブダ−5(61,14−ジエン 7−ブロビオネ
ート; または 8.15−エポキシ−1α、7β、9α−トリヒドロキ
シ−ラブダー5(61,14−ジエン−11−オン。
キシーラプド14−エン−11−オン 7−アセテート
; 8.1ろ一エポキシー1α、7β、9α−トリヒドロキ
シ−ラブ)’−5f6i−エンー11−オン 7−アセ
テート; 8.1ろ一エポキシー1α、6β、7β−トリヒドロキ
シ−ラブ)”−14−エン−11−オン 6−アセテー
ト; 8#15−4.gキシ−1/J、7β、9α−)IJヒ
)’ワキシーラブグー5t(3)、14−ジエン−11
−オン7−アセテート; 8.16−エボキシー1α、6β、7β−トリヒドロキ
シ−ラブド− 8、16−エボキシー1α,6β,7β,11β−テト
ラヒドロキシーラブト4−14−エン;B 、16−:
r−$キシー 1(r、6β、7β、11β−テトラヒ
ドロキシ−ラブド−14−エン 7−アセテート;12
−クロロ−8,13−エポキシ−1α、7β−ジヒドロ
キシ−ラブダ−5(61,14−ジェ/−11−オン
7−アセテート; 15−ツルー8,16−エボキシー1α、6β、7β、
9α−テトラヒト90キシ−ラブダン−11−オン;1
5−ツルー8,16−エボキシー1α、6β、7β、9
α−テトラヒドロキシーラブダン−11−オ/7−アセ
テート; 8.16−エボキシー1α、7β、9α−トリヒドロキ
シ−ラブダ−5(61,14−ジエン 7−ブロビオネ
ート; または 8.15−エポキシ−1α、7β、9α−トリヒドロキ
シ−ラブダー5(61,14−ジエン−11−オン。
先に論じた活性に加えて、本発明化合物は試験結果から
推定されるごとく血圧降下作用、正の変力効果およびア
デニル酸シクラーゼ活性化作用を有する。
推定されるごとく血圧降下作用、正の変力効果およびア
デニル酸シクラーゼ活性化作用を有する。
式1の化合物は標準方法により製造することができる。
これらの化合物を製造するための通常の出発物質は78
−アセトキシ−8,16−エボキシー1α、6β、9α
−トリヒト90キシラブド−14−工/−11−オン(
ホルスコリ/)である〔J−G。
−アセトキシ−8,16−エボキシー1α、6β、9α
−トリヒト90キシラブド−14−工/−11−オン(
ホルスコリ/)である〔J−G。
5−Perkin ] 、 767 (1982)を参
照〕。下で論する方法を適当に組み合わせることにより
、これらの化合物は製造される。異性体温1合物が得ら
喝方法ではその後既知方法による所望の異性体の単離が
行われる。いくつかの合成転化法を実施する場合、分子
中に存在する反応性の部位をまず第一に保4する必要が
あるかも知れない。そのより保護反応は最初に保護すべ
き部位の誘導体を形成すること罠より達成され、この誘
導体は特定の合成転化法を実施した後もとの官能基に容
易に再転化されるものである。このような保護基導入の
例にはアルコール類のエステル化およびケトン類のケタ
ール化などがあり、当業者には自明のことだろう。これ
らの保護基導入方法は当該技術分野の技法の範囲内のも
のと認められるので、式Iの化合物の製造法の次の記述
には含まれていない。また、式1の化合物の溶媒和物お
よび塩は既知方法により製造される。
照〕。下で論する方法を適当に組み合わせることにより
、これらの化合物は製造される。異性体温1合物が得ら
喝方法ではその後既知方法による所望の異性体の単離が
行われる。いくつかの合成転化法を実施する場合、分子
中に存在する反応性の部位をまず第一に保4する必要が
あるかも知れない。そのより保護反応は最初に保護すべ
き部位の誘導体を形成すること罠より達成され、この誘
導体は特定の合成転化法を実施した後もとの官能基に容
易に再転化されるものである。このような保護基導入の
例にはアルコール類のエステル化およびケトン類のケタ
ール化などがあり、当業者には自明のことだろう。これ
らの保護基導入方法は当該技術分野の技法の範囲内のも
のと認められるので、式Iの化合物の製造法の次の記述
には含まれていない。また、式1の化合物の溶媒和物お
よび塩は既知方法により製造される。
ホルスコリ/またはその適当な誘導体を使用しての製造
方法は次の通りである: (1)Uが=Oである化合物はUが(H,0f()であ
る対応する化合物を酸化することにより製造 (4)さ
れる。■が=Oである化合物も同様に製造できる。適当
な酸化剤は例えばMn Ozまたはピリジニウム クロ
ロクロメートである。 (5)(2)Uが(H,OH
1□)であり、H1□が先に定義した通りのアシル基で
ある化合物&XR11がHである対応する化合物をアシ
ル化することにより製造される。■が(H,0f(1、
)であり、H1□がアシル基である化合物も同様に製造
できろ。
方法は次の通りである: (1)Uが=Oである化合物はUが(H,0f()であ
る対応する化合物を酸化することにより製造 (4)さ
れる。■が=Oである化合物も同様に製造できる。適当
な酸化剤は例えばMn Ozまたはピリジニウム クロ
ロクロメートである。 (5)(2)Uが(H,OH
1□)であり、H1□が先に定義した通りのアシル基で
ある化合物&XR11がHである対応する化合物をアシ
ル化することにより製造される。■が(H,0f(1、
)であり、H1□がアシル基である化合物も同様に製造
できろ。
この方法は適当なノ・ロゲン化アシル(例えば烏化物)
また9工酸無水物を使用して実施され (6する。
また9工酸無水物を使用して実施され (6する。
(3) Uおよび/また&XVが(H,0)1)である
化合物は対応するエステルの加水分解(例えば、NaO
H水溶液を使用)により製造される。適当な反応条件に
より、基 た加水分解されて6位と7位および/または9位と1位
に水酸基を含む化合物が生成する。
化合物は対応するエステルの加水分解(例えば、NaO
H水溶液を使用)により製造される。適当な反応条件に
より、基 た加水分解されて6位と7位および/または9位と1位
に水酸基を含む化合物が生成する。
Uおよび/または■が(H,H)である化合物はUおよ
び/またはVが=0である対応する化合物を還元するこ
とにより製造される。
び/またはVが=0である対応する化合物を還元するこ
とにより製造される。
■が(H,0802R’ )であり、R′が炭素原子数
1〜乙のアルキル基である化合物+zVが(H,OH)
である対応する化合物を)i’ So 3Hの反応性誘
導体(例えは、R′5O2Ce)と反応させることによ
り製造される。この方法+tVが(H,0802CH3
)である化合物の製造に対して興味がある。
1〜乙のアルキル基である化合物+zVが(H,OH)
である対応する化合物を)i’ So 3Hの反応性誘
導体(例えは、R′5O2Ce)と反応させることによ
り製造される。この方法+tVが(H,0802CH3
)である化合物の製造に対して興味がある。
Vカ(H、OR’ ) テあり、R′が炭素原子数1〜
6のアルキル基である化合物+tVが(H。
6のアルキル基である化合物+tVが(H。
OH)である対応1−る化合物を適当なノ・ロゲン化ア
ルキル(R′hal)、好ましくはヨウ化物と反応させ
ることにより製造される。この反応は例えば水素化ナト
リウムの存在下にTHF中で実施される。この方法にR
′がメチル基である化合物の製造に対して特に興味 (
101がある。
ルキル(R′hal)、好ましくはヨウ化物と反応させ
ることにより製造される。この反応は例えば水素化ナト
リウムの存在下にTHF中で実施される。この方法にR
′がメチル基である化合物の製造に対して特に興味 (
101がある。
(RおよびR14は先に定義した通りである)3
を形成する化合物)工、1(1=R2=OHである対応
する化合物をアルデヒドまたはケト/と反 (+11応
させることにより製造される。このような反応は一般に
反応で生じた水を連続的に除去する条件下で実施される
。
する化合物をアルデヒドまたはケト/と反 (+11応
させることにより製造される。このような反応は一般に
反応で生じた水を連続的に除去する条件下で実施される
。
(815,6位または6.7位が二重結合で結合される
化合物(工、前記位置が単結合で結合されかつUおよび
/また(工■が(H,01()である対応する化合物ま
たを工その反応性誘導体を脱水す(12)ることにより
製造される。
化合物(工、前記位置が単結合で結合されかつUおよび
/また(工■が(H,01()である対応する化合物ま
たを工その反応性誘導体を脱水す(12)ることにより
製造される。
(9112位と16位の炭素原子が二重結合で結合され
る化合物を工、(1″−HでありかつR3が例えば−C
H=NOR19()(19は好ましくはHである)であ
る対応する化合物からOH3を除去することにより製造
される。
る化合物を工、(1″−HでありかつR3が例えば−C
H=NOR19()(19は好ましくはHである)であ
る対応する化合物からOH3を除去することにより製造
される。
R4がHである化合物は対応する1、9−カーボネート
または1,9−チオカーボネート(R42は0またはS
である式1の化合物)を酢酸中亜鉛と処理することによ
り製造される。
または1,9−チオカーボネート(R42は0またはS
である式1の化合物)を酢酸中亜鉛と処理することによ
り製造される。
L、Zは0またはSである化合物はR4J(5==OH
である対応する化合物乞ホスゲン、カルボニル ジイミ
ダゾールまたはチオカルボニル ジイミダゾールを用い
て転化させること罠より製造される。
である対応する化合物乞ホスゲン、カルボニル ジイミ
ダゾールまたはチオカルボニル ジイミダゾールを用い
て転化させること罠より製造される。
Xが(H,OH’)である化合物はXがオキソである化
合物を、例えば水素化アルミニウムリチウムを用いて複
たは接触水素添加で、還元することにより製造される。
合物を、例えば水素化アルミニウムリチウムを用いて複
たは接触水素添加で、還元することにより製造される。
例えば、)′i4がHであり、RとRがOHであり、R
2がOH1 またはアシルオキシ基である式Iの化合物をEt20中
L IAIt H4と約40℃において反応させると、
対応する1/J、6β、7β、11−テトラ α(イ)
ヒドロキシ化合物が得られる。一方、例えばHがOHで
あり、R2がアシルオキシ基であす、R4とR5が一緒
になってカーボネート基を形成する化合物を接触水素添
加(例えば、 (+51PtO2の存在下に水素を用い
る)すると、Hl、H2’、R4およびH5&工出発物
質と同じである対応する11−ヒドロキシ化合物が生成
する。出発物質の12位と16位の間に二重績 (16
1合がある場合にはその二重結合は水素添加さオするヵ (131Qが塩素または臭素である化合物はQがHで対
応する化合物の塩素化筒たは臭素化により製造される。
2がOH1 またはアシルオキシ基である式Iの化合物をEt20中
L IAIt H4と約40℃において反応させると、
対応する1/J、6β、7β、11−テトラ α(イ)
ヒドロキシ化合物が得られる。一方、例えばHがOHで
あり、R2がアシルオキシ基であす、R4とR5が一緒
になってカーボネート基を形成する化合物を接触水素添
加(例えば、 (+51PtO2の存在下に水素を用い
る)すると、Hl、H2’、R4およびH5&工出発物
質と同じである対応する11−ヒドロキシ化合物が生成
する。出発物質の12位と16位の間に二重績 (16
1合がある場合にはその二重結合は水素添加さオするヵ (131Qが塩素または臭素である化合物はQがHで対
応する化合物の塩素化筒たは臭素化により製造される。
例えば、R4およびR5が頃a= (17)S)Oで
ある出発物質をエビリジン中で5ocz2と反応してQ
が塩素である化・合物を生gfる・08褐発物質中のけ
が(H,OH)である場合に、前記反応はQが塩素であ
りかつ5位と6位の炭素原子が二重結合で結合される化
合物を生成する。
ある出発物質をエビリジン中で5ocz2と反応してQ
が塩素である化・合物を生gfる・08褐発物質中のけ
が(H,OH)である場合に、前記反応はQが塩素であ
りかつ5位と6位の炭素原子が二重結合で結合される化
合物を生成する。
R3がHでありかつXが(H,OH)である化合物は、
XがOでありかつ12位と16位の炭素原子が二重結合
で結合される対応する化合物を水素添加することにより
製造される。
XがOでありかつ12位と16位の炭素原子が二重結合
で結合される対応する化合物を水素添加することにより
製造される。
R3がエチル基である化合物はR3がビニル基である対
応する化合物を水素化(例えば、Pd/GまたはPtO
2を使用する接触水素添加)することにより製造される
。
応する化合物を水素化(例えば、Pd/GまたはPtO
2を使用する接触水素添加)することにより製造される
。
l(3がメチル基である化合物はR3がえばエタノール
中のHa/Ni懸濁液で、脱硫することにより製造され
る。
中のHa/Ni懸濁液で、脱硫することにより製造され
る。
R3がCH20Hである化合物に)?3がGHQである
対応する化合物の還元により製造される。
対応する化合物の還元により製造される。
R3がGHQである化合物を工H3がビニル基である対
応する化合物のオゾン分解により製造される。出発物質
中のR4は好ましくはHであるか、あるいはH4どR5
は一緒になって基f191 R3がC02R15であ
る化合物はR3がCHOである対応する化合物を酸化し
、R15が炭素原子数1〜乙のアルキル基である場合に
は続いてエステル化することにより製造される。
応する化合物のオゾン分解により製造される。出発物質
中のR4は好ましくはHであるか、あるいはH4どR5
は一緒になって基f191 R3がC02R15であ
る化合物はR3がCHOである対応する化合物を酸化し
、R15が炭素原子数1〜乙のアルキル基である場合に
は続いてエステル化することにより製造される。
(20+ )(3が−CI4=CJ(16RI 7
”?l” アル化合物&183がcH。
”?l” アル化合物&183がcH。
である対応する化合物をウイッチヒ試薬(φ3P−CF
+16R17)で処理することにより製造される。所望
により、ある種の置換基R16およびR17はウィッチ
ヒ反応の後に変更もしくは交換されてもよい。
+16R17)で処理することにより製造される。所望
により、ある種の置換基R16およびR17はウィッチ
ヒ反応の後に変更もしくは交換されてもよい。
(21) R3が一亘−H18である化合物を工R3が
at−t。
at−t。
である化合物を試薬φ3P CHBrf(18で処理し
て臭素含有中間体を製造し、この中間体から臭化水素を
離脱させることにより製造される。
て臭素含有中間体を製造し、この中間体から臭化水素を
離脱させることにより製造される。
(22)?3が一0H(JH−U弓−H□9である化合
物はR3がCHOである化合物を試薬MO=G−H,9
(Mはリチウムのごとき適当な金属である)で処理する
ことKより製造される。
物はR3がCHOである化合物を試薬MO=G−H,9
(Mはリチウムのごとき適当な金属である)で処理する
ことKより製造される。
(241Rが艶H=C−CHR19である化合物はR3
が−CHOH−(−C−R、9である対応する化合物の
水酸基をまず最初にエステル化し、こうして得られたエ
ステルを塩化アルミニウムで処理することにより製造さ
れる。
が−CHOH−(−C−R、9である対応する化合物の
水酸基をまず最初にエステル化し、こうして得られたエ
ステルを塩化アルミニウムで処理することにより製造さ
れる。
(29R3が−CH=N−OR1gテアル化合物&:!
R3カCHOである化合物を式H2N−0R19の試薬
で処理することにより製造される。この製造法はR19
がHまたはメチル基である化合物を製造するのに特に興
味がある。適当な反応媒体。工乾燥ピリジンである。
R3カCHOである化合物を式H2N−0R19の試薬
で処理することにより製造される。この製造法はR19
がHまたはメチル基である化合物を製造するのに特に興
味がある。適当な反応媒体。工乾燥ピリジンである。
が−CH=CR□6R□9である化合物をm−クロロ過
安息香酸のような過酸で処理すること釦より製造され(
但し、Z)工酸素である)、これらの化合物はインチオ
シアン酸カリウムで処理することによりZが硫黄である
対応する化合物に転化される。
安息香酸のような過酸で処理すること釦より製造され(
但し、Z)工酸素である)、これらの化合物はインチオ
シアン酸カリウムで処理することによりZが硫黄である
対応する化合物に転化される。
f27) R3が−CH(ZR2o)2である化合物
ハR3がCHOである化合物を標準方法を使用してアル
コールまたはチオールで処理することにより製造される
。この方法はR3か に 興味があり、この場合R3がCHOである対応する化合
物はBF3. Et20を添加した乾燥CH2Cl12
中でエタンジチオールと反応させる。
ハR3がCHOである化合物を標準方法を使用してアル
コールまたはチオールで処理することにより製造される
。この方法はR3か に 興味があり、この場合R3がCHOである対応する化合
物はBF3. Et20を添加した乾燥CH2Cl12
中でエタンジチオールと反応させる。
−CH=CH2である化合物にジハロカルベンを付加す
ることにより“ン・ヌあるいは9.R3がンク−1−C
H<ABである化合物にメチレンカルベンを付加するこ
とにより製造される。R3がシクロプロピル基である化
合物?:製造するためには、R3が−CH=CH2であ
る化合物を好ましくはジアゾメタンと反応させる。
ることにより“ン・ヌあるいは9.R3がンク−1−C
H<ABである化合物にメチレンカルベンを付加するこ
とにより製造される。R3がシクロプロピル基である化
合物?:製造するためには、R3が−CH=CH2であ
る化合物を好ましくはジアゾメタンと反応させる。
@R3カーcH=N−NDEテアル化合物ハR3カCH
Oである化合物を標準方法を使用して式H2N−NDE
の化合物で処理することKより製造される。
Oである化合物を標準方法を使用して式H2N−NDE
の化合物で処理することKより製造される。
次の実施例は代表的な本発明化合物の製造を示す。全て
の式Iの化合物は例示されかつ明らかにされた方法を適
当な順序で適用することにより製造できることが理解さ
れるだろう。反応条件の必要な変更は当業者に自明のこ
とである。
の式Iの化合物は例示されかつ明らかにされた方法を適
当な順序で適用することにより製造できることが理解さ
れるだろう。反応条件の必要な変更は当業者に自明のこ
とである。
実施例■
6.16−ニポキシー1α、6β、7β、9α−テトテ
ラヒドロキシラプダタ−11−オン 7−アセテートM
eOH9ml中のホルスコリン30!n9を室温で大気
圧下に2時間10%Pd/Cを用いて水素添加した。触
媒を沖過して除き、溶媒は蒸発させた。エーテル/ヘキ
サンから再結晶して表題生成物16〜を得た。融点24
2〜244°C6 ホルスコリy100m&をCH2Cl26m1中でチオ
カルボニルジイミダゾール16〜と共に室温で6日間攪
拌した。溶媒を蒸発させて、残渣はシリカゲル10.?
のカラムでクロマトグラフにかけた。10%E tOA
c 10HC13で溶離して生成物を得これはエーテル
/ヘキサンから結晶化させた。収量68■、融点241
〜243°C。
ラヒドロキシラプダタ−11−オン 7−アセテートM
eOH9ml中のホルスコリン30!n9を室温で大気
圧下に2時間10%Pd/Cを用いて水素添加した。触
媒を沖過して除き、溶媒は蒸発させた。エーテル/ヘキ
サンから再結晶して表題生成物16〜を得た。融点24
2〜244°C6 ホルスコリy100m&をCH2Cl26m1中でチオ
カルボニルジイミダゾール16〜と共に室温で6日間攪
拌した。溶媒を蒸発させて、残渣はシリカゲル10.?
のカラムでクロマトグラフにかけた。10%E tOA
c 10HC13で溶離して生成物を得これはエーテル
/ヘキサンから結晶化させた。収量68■、融点241
〜243°C。
実施例IIかものホルスコリンチオカーボネート0、2
3 FをAcOH11,5mi中でZn 末0.66
1/と処理し、120’Cで20分間加熱した。亜鉛を
謔過して除き、炉液はH2O1Q Q ml中に注いで
NaOHで中和した。生成物ン酢酸エチルで抽出しシリ
カゲルのカラムでクロマトグラフにかけ、10%h−t
OA c/CHG l 3で溶離して生成物を得た。
3 FをAcOH11,5mi中でZn 末0.66
1/と処理し、120’Cで20分間加熱した。亜鉛を
謔過して除き、炉液はH2O1Q Q ml中に注いで
NaOHで中和した。生成物ン酢酸エチルで抽出しシリ
カゲルのカラムでクロマトグラフにかけ、10%h−t
OA c/CHG l 3で溶離して生成物を得た。
これにアセト/−ヘキサ/から結晶化された。収量93
■、融点15Z5〜160°C。
■、融点15Z5〜160°C。
乾燥アセトン30d中のホルスコリン11!、臭化ベン
ジル0.82m1、ヨウ化カリウム11および炭酸カリ
ウム5Iを60℃で18時間加熱した。
ジル0.82m1、ヨウ化カリウム11および炭酸カリ
ウム5Iを60℃で18時間加熱した。
冷却した後、沈澱物を沖過して除き、炉液を蒸発させた
。残渣はシリカゲル100.90カラムでクロマトグラ
フにかけ、5%EtOA c/GHC1! 3で溶離し
て1α−ベンジルホルスコリンo、isyを得た。
。残渣はシリカゲル100.90カラムでクロマトグラ
フにかけ、5%EtOA c/GHC1! 3で溶離し
て1α−ベンジルホルスコリンo、isyを得た。
この物質80〜はピリジy 3.8ml中で塩化チオニ
ル0.08 mlと0℃において4時間処理した。この
反応混合物を水の中に注いで生成物は酢酸エチルで抽出
することにより単離した。この生成物は室温で24時間
水素添加(PtO20,5、iil 、 E’tOAc
15JIL、その後シリカゲルのカラムでクロマトグラ
フにかゆ、20%Et、OAc/ヘキサンで溶離して、
アセトン−ヘキサンから表題生成物を結晶化させた。収
量19ダ。
ル0.08 mlと0℃において4時間処理した。この
反応混合物を水の中に注いで生成物は酢酸エチルで抽出
することにより単離した。この生成物は室温で24時間
水素添加(PtO20,5、iil 、 E’tOAc
15JIL、その後シリカゲルのカラムでクロマトグラ
フにかゆ、20%Et、OAc/ヘキサンで溶離して、
アセトン−ヘキサンから表題生成物を結晶化させた。収
量19ダ。
実施例V
メチルアルコール21m1中の実施例■で製造した9−
デオキシホルスコリン0.4/l[41,66%NaO
H水溶液5. ’18mlと室温で17時間処理した。
デオキシホルスコリン0.4/l[41,66%NaO
H水溶液5. ’18mlと室温で17時間処理した。
生じた溶液は2 N HO2で中和し、メタノールを減
圧下に除去して、生成物を酢酸エチルで抽出した。
圧下に除去して、生成物を酢酸エチルで抽出した。
有機層を水で洗浄し、乾燥しくMg5O4)、溶媒を蒸
発させ、残渣はシリカゲルのカラ゛ム(40%EtOA
c/ヘキザンで溶離)でキサして表題生成物0.1!M
を得た。
発させ、残渣はシリカゲルのカラ゛ム(40%EtOA
c/ヘキザンで溶離)でキサして表題生成物0.1!M
を得た。
実施例Vかもの生成物50m?をピリジンQ、 5 m
l中で塙化×/ゾイル0.018dと0℃において50
分間処理した。2 N HO2次いで水を加え、生成物
を単離してシリカゲルのカラム(25%EtOAc/ヘ
キサ/で溶離)で梢製し、アセトン−ヘキサンから結晶
化させた。収量66mg、融点164.5℃0 実施例VIAと類似した方法であるが塩化×ンゾイルの
代りに塩化バレロイルを使用して表−生成物を得た。融
点98〜100℃。
l中で塙化×/ゾイル0.018dと0℃において50
分間処理した。2 N HO2次いで水を加え、生成物
を単離してシリカゲルのカラム(25%EtOAc/ヘ
キサ/で溶離)で梢製し、アセトン−ヘキサンから結晶
化させた。収量66mg、融点164.5℃0 実施例VIAと類似した方法であるが塩化×ンゾイルの
代りに塩化バレロイルを使用して表−生成物を得た。融
点98〜100℃。
実施例VIAと類似した方法であるが塩化ベンゾイルの
代りに塩化2−メチルプロパノイルを使用して表題生成
物を得た。融点145.5〜1475℃0乾燥塩化メチ
レン10属およびピリジン6dにホルスコリン11を溶
解し、この溶液を冷却(水浴)かつ攪拌して塩化メチレ
ン中水スゲ/含有溶液(約16重量%のホスゲン含有)
3dで処理した。45分後出発物質は全部消失した。塩
化メチレンとピリジンを減圧下に除去して、残渣は塩化
メチレフ25m1と水iQmlとに分配した。有機層を
分離し、水相は塩化メチレンで2回抽出した。
代りに塩化2−メチルプロパノイルを使用して表題生成
物を得た。融点145.5〜1475℃0乾燥塩化メチ
レン10属およびピリジン6dにホルスコリン11を溶
解し、この溶液を冷却(水浴)かつ攪拌して塩化メチレ
ン中水スゲ/含有溶液(約16重量%のホスゲン含有)
3dで処理した。45分後出発物質は全部消失した。塩
化メチレンとピリジンを減圧下に除去して、残渣は塩化
メチレフ25m1と水iQmlとに分配した。有機層を
分離し、水相は塩化メチレンで2回抽出した。
有機抽出物を合わせて乾燥しくNa25o4) 、蒸発
乾固させて結晶性固体1.29 、rを得た。この生成
物のうち11001nを酢酸エチル/ n、−ヘキサン
から再結晶した。融点121〜123°C1塩化メチレ
ン4mAおよびメタノール3ml中に実施例■で製造し
たホルスコリン1.9−.7フーボネー)0.21を溶
解し、この溶液をアセトン/ドライアイス浴で冷却した
。この溶液に過剰のアゾン(青色により示される)が存
在するようになるまで(約5〜7分)オゾン/酸素を荊
した。過剰のオゾンは溶液にアルゴンヲ通して排除し、
この溶液にジメチルスルフィドQ、 5 mlを加えた
。その反応混合物を次第に室温まで暖めて、2時間攪拌
した後減圧下に蒸発乾固させた。残にFに塩化メチレン
15m1に溶解して水で6IS浄した。塩化メチレン溶
液を乾燥(Na2S04)シて蒸発乾固させ、TLCで
ほとんど単一スポットの結晶性生成物を得た。
乾固させて結晶性固体1.29 、rを得た。この生成
物のうち11001nを酢酸エチル/ n、−ヘキサン
から再結晶した。融点121〜123°C1塩化メチレ
ン4mAおよびメタノール3ml中に実施例■で製造し
たホルスコリン1.9−.7フーボネー)0.21を溶
解し、この溶液をアセトン/ドライアイス浴で冷却した
。この溶液に過剰のアゾン(青色により示される)が存
在するようになるまで(約5〜7分)オゾン/酸素を荊
した。過剰のオゾンは溶液にアルゴンヲ通して排除し、
この溶液にジメチルスルフィドQ、 5 mlを加えた
。その反応混合物を次第に室温まで暖めて、2時間攪拌
した後減圧下に蒸発乾固させた。残にFに塩化メチレン
15m1に溶解して水で6IS浄した。塩化メチレン溶
液を乾燥(Na2S04)シて蒸発乾固させ、TLCで
ほとんど単一スポットの結晶性生成物を得た。
収量0.190g、その生成物の一部分2orn9を酢
酸エチル/n−へキサンから再結晶した。融点237〜
268℃0 実施例■で製造したアルデヒドO,,lを乾燥ピリジン
5Mに溶解し、この溶液を冷却(水浴)して攪拌下に固
体ノNH2OH−HC10,O’7 、Pテ処WLだ。
酸エチル/n−へキサンから再結晶した。融点237〜
268℃0 実施例■で製造したアルデヒドO,,lを乾燥ピリジン
5Mに溶解し、この溶液を冷却(水浴)して攪拌下に固
体ノNH2OH−HC10,O’7 、Pテ処WLだ。
約2時間後反応混合物を塩化メチレン25m1で希釈し
、水相が酸性になるまで希H2So4(0,1N)で処
理した。塩化メチレン相を分離し、水相は塩化メチン/
で一回抽出した。塩化メチ1/ン抽出物を合わせて水で
一回洗浄し、乾燥しくNa25o4)、蒸発乾固させて
TLGで単一スポットの結晶性生成物を得た。収量0.
3El、この生成物の一部分ろQmyをクロロホルムか
ら再結晶して無色の立方体晶を得た。融点277〜28
0’C。
、水相が酸性になるまで希H2So4(0,1N)で処
理した。塩化メチレン相を分離し、水相は塩化メチン/
で一回抽出した。塩化メチ1/ン抽出物を合わせて水で
一回洗浄し、乾燥しくNa25o4)、蒸発乾固させて
TLGで単一スポットの結晶性生成物を得た。収量0.
3El、この生成物の一部分ろQmyをクロロホルムか
ら再結晶して無色の立方体晶を得た。融点277〜28
0’C。
実施例X
塩化メチレン5rnl中に実施例■で製造したアルデヒ
ド” 0.1 、rを溶解し、この溶液をホスホラン(
Ph3P=C1iG(JOMe) o、 085 g
(約11当曖)で処理して2時間還流した。’r L
Cは2種の成分の混合物を示した。さらに2時間還流し
たがTLCによる生成物の割合に変化がなかった。塩化
メチレンをインダン4mlで置き換え、追加のホスホラ
ン0.01を加えて反応混合物を再び1時間還流した。
ド” 0.1 、rを溶解し、この溶液をホスホラン(
Ph3P=C1iG(JOMe) o、 085 g
(約11当曖)で処理して2時間還流した。’r L
Cは2種の成分の混合物を示した。さらに2時間還流し
たがTLCによる生成物の割合に変化がなかった。塩化
メチレンをインダン4mlで置き換え、追加のホスホラ
ン0.01を加えて反応混合物を再び1時間還流した。
はンゼンを減圧下に蒸発させ、残渣は厚さが1 mmの
2枚のシリカゲルプレートでクロマトグラフにかけ、4
0%アセトン/rL−ヘキサンで浴離した。
2枚のシリカゲルプレートでクロマトグラフにかけ、4
0%アセトン/rL−ヘキサンで浴離した。
実施例M
乾燥CH201217,4iJ中に実施例■からのホル
スコリン1.9−カーボネート0.87.9を溶解し、
この溶液に攪拌しながら窒素雰囲気下に0℃で三フッ化
ジエチルアミノイオウQ、 5 mlを加えた。
スコリン1.9−カーボネート0.87.9を溶解し、
この溶液に攪拌しながら窒素雰囲気下に0℃で三フッ化
ジエチルアミノイオウQ、 5 mlを加えた。
15分攪拌した後、追加の三フッ化ジエチルアミノイオ
ウ0,5Mを加えてさらに60分攪拌した。
ウ0,5Mを加えてさらに60分攪拌した。
その混合物にEt、0Ac2001rLlを加え、次い
で直ちに飽和NaHCO3溶液と水で洗浄した。有機フ
ラクションを乾燥しくMg5O4)、減圧下に蒸発乾固
させて白色固体0.79.!9(95%)を得た。その
生成物の一部分をEt;OAc/ヘキサンから結晶化さ
せた。
で直ちに飽和NaHCO3溶液と水で洗浄した。有機フ
ラクションを乾燥しくMg5O4)、減圧下に蒸発乾固
させて白色固体0.79.!9(95%)を得た。その
生成物の一部分をEt;OAc/ヘキサンから結晶化さ
せた。
融点164〜166℃0
実施例℃で製造した8、13−エポキシ−1α。
7B、9/γ−トリヒドロキシラブグ−5(61,,1
4−ジエン−11−オ/ 7−アセテート1.9−カー
ボネー) 0.781/、 MeOH40威および1
.66%NaOH水溶液5 m、lの混合物を室温で6
−5時間攪拌した。追加の1.66%NaOH水溶液5
aを加えてさらに30分攪拌した。その混合物は数滴の
2NHCIIで中和して減圧下に蒸発させた。残渣をE
t、OAcに再び溶解し、ズラインで洗浄し、乾燥しく
Mg5O4)、減圧下に濃縮して白色固体0..645
’を得た。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル10
0g、40%K t OA c/CHGA! 3 )に
より8,16−エポキシ−1α、フβ、9α−トリヒド
ロキシ2ズダー5(61,14−ジエン−11−オン0
.5111(収率78%、アセトン/ヘキサンから結晶
化、融点179〜181℃)および8,16−エボキシ
ー1α、7β、9α−トリヒドロキシラブグ−5(61
゜14−ジエ/−11−オン 7−アセテート0.13
.’7(収率18%、酢酸エチル/ヘキサンから結晶化
、融点119〜121℃)を得た。
4−ジエン−11−オ/ 7−アセテート1.9−カー
ボネー) 0.781/、 MeOH40威および1
.66%NaOH水溶液5 m、lの混合物を室温で6
−5時間攪拌した。追加の1.66%NaOH水溶液5
aを加えてさらに30分攪拌した。その混合物は数滴の
2NHCIIで中和して減圧下に蒸発させた。残渣をE
t、OAcに再び溶解し、ズラインで洗浄し、乾燥しく
Mg5O4)、減圧下に濃縮して白色固体0..645
’を得た。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル10
0g、40%K t OA c/CHGA! 3 )に
より8,16−エポキシ−1α、フβ、9α−トリヒド
ロキシ2ズダー5(61,14−ジエン−11−オン0
.5111(収率78%、アセトン/ヘキサンから結晶
化、融点179〜181℃)および8,16−エボキシ
ー1α、7β、9α−トリヒドロキシラブグ−5(61
゜14−ジエ/−11−オン 7−アセテート0.13
.’7(収率18%、酢酸エチル/ヘキサンから結晶化
、融点119〜121℃)を得た。
実施例■
蒸留したピリジ10.4d中に実施例■で製造した8、
16−エlキシ−1α、7β、9α−トリヒドロキシラ
ブグ−5161,14−ジエン−11−オン40■を溶
解し、この溶液に無水プロピオ/酸0.2 mlを0°
C(氷−水浴)で加えた。その混合物をoocで265
時間、次いで室温で2時間攪拌した・その混合物61
EtOAc 200 mlで希釈し、INHczとH2
Oで洗浄して乾燥させた(MgSO4)。溶媒を減圧下
に蒸発させ残渣は薄層クロマトグラフィー(厚さが1m
iのシリカプレート、40%EtOAc、;/ヘキサ/
)で精製して表題生成物26■(0,64ミリモル、5
6%)を得た。これは石油エーテルから結晶化させた。
16−エlキシ−1α、7β、9α−トリヒドロキシラ
ブグ−5161,14−ジエン−11−オン40■を溶
解し、この溶液に無水プロピオ/酸0.2 mlを0°
C(氷−水浴)で加えた。その混合物をoocで265
時間、次いで室温で2時間攪拌した・その混合物61
EtOAc 200 mlで希釈し、INHczとH2
Oで洗浄して乾燥させた(MgSO4)。溶媒を減圧下
に蒸発させ残渣は薄層クロマトグラフィー(厚さが1m
iのシリカプレート、40%EtOAc、;/ヘキサ/
)で精製して表題生成物26■(0,64ミリモル、5
6%)を得た。これは石油エーテルから結晶化させた。
収量2o1ny、融点1095℃〜111°c。
THF (新しく蒸留したも+7) ) 0.3. m
l中の水素化f ト’) ラム5.71nG/< 60
%)にCH3I 0.009m1(0,14ミリモル)
およびTHFo、3ml中の8.16−エボキシー1α
、7β、9α−トリヒドロキシラブグー5(6+、14
−ジエン−11−オ/1α−P−メトキシベンジルエー
テル(実施例XXXIの方法により実施例■の生成物か
ら製造したもの)25+ll& (0,07ミIJモル
)を窒素雰囲気下に加えた。その混合物を60℃で60
分加熱し、1NH(J2〜6滴で反応を停止させた・溶
媒を蒸発させ、残渣に薄層クロマトグラフィー(シリカ
ゲル、40%Et、OAc/ヘキサン)で分離した。1
α−P−メトキシベンジル基しエ実施例XXXJの方法
により除去されて生成物を得た。
l中の水素化f ト’) ラム5.71nG/< 60
%)にCH3I 0.009m1(0,14ミリモル)
およびTHFo、3ml中の8.16−エボキシー1α
、7β、9α−トリヒドロキシラブグー5(6+、14
−ジエン−11−オ/1α−P−メトキシベンジルエー
テル(実施例XXXIの方法により実施例■の生成物か
ら製造したもの)25+ll& (0,07ミIJモル
)を窒素雰囲気下に加えた。その混合物を60℃で60
分加熱し、1NH(J2〜6滴で反応を停止させた・溶
媒を蒸発させ、残渣に薄層クロマトグラフィー(シリカ
ゲル、40%Et、OAc/ヘキサン)で分離した。1
α−P−メトキシベンジル基しエ実施例XXXJの方法
により除去されて生成物を得た。
e6 +Jレジン、 5 IrLl中の実施例Vからの
生成物50ダおよびGH3So2C625μlの混合物
を室温で1時間攪拌した。その混合物にEt、OAc
2001nlを加えて直ちに1N HCl次いでH2O
で洗浄した。有機相を乾燥しくMg5O4)、減圧下に
蒸発させて残渣54ηを得た。シリカゲルの薄層クロマ
ドグ2フイー(10%B: tOAc/cHcz 3)
で精製して表題生成物ろ3Fn9(0,073ミリモ/
l/、54%)を得た。
生成物50ダおよびGH3So2C625μlの混合物
を室温で1時間攪拌した。その混合物にEt、OAc
2001nlを加えて直ちに1N HCl次いでH2O
で洗浄した。有機相を乾燥しくMg5O4)、減圧下に
蒸発させて残渣54ηを得た。シリカゲルの薄層クロマ
ドグ2フイー(10%B: tOAc/cHcz 3)
で精製して表題生成物ろ3Fn9(0,073ミリモ/
l/、54%)を得た。
融点90〜92℃・
THF1威中の実施例■からの生成物(ホルスコリ/1
,9−カーボネート) 90my(0,215ミリモル
)、エチルエーテル6.6Mおよび水素化アルミニウム
リチウム45〃y(1,18ミリモル)の混合物を窒素
雰囲気下に40℃で1時間加熱した。
,9−カーボネート) 90my(0,215ミリモル
)、エチルエーテル6.6Mおよび水素化アルミニウム
リチウム45〃y(1,18ミリモル)の混合物を窒素
雰囲気下に40℃で1時間加熱した。
その混合物を冷却してgt205 Q mlおよび飽和
Na2SO4溶液0.2 mlを加え、0.5時間攪拌
した。
Na2SO4溶液0.2 mlを加え、0.5時間攪拌
した。
白色沈澱物を沖過して除き、bt2050 mJで洗浄
した。p液は減圧下に蒸発させて白色の残渣801ng
を得た。この残直にシリカゲルの薄層クロマトグラフィ
ー(40%Kt、OAc/ヘキサン)で精製して生成物
28ダ(0,0,79ミリモル、37%)を得た。Et
OAc/ヘキサンから結晶化゛させて表題生成物22■
を得た。融点120〜126℃0k tzo 5. Q
ml中の実施例■からの生成物(9−デオキシホルス
コリン) 151n9(0,14ミリモル)および水素
化アルミニウムリチウム25ダ(0,66ミリモル)の
混合物を窒素雰囲気下に40℃で1.5時間加熱した。
した。p液は減圧下に蒸発させて白色の残渣801ng
を得た。この残直にシリカゲルの薄層クロマトグラフィ
ー(40%Kt、OAc/ヘキサン)で精製して生成物
28ダ(0,0,79ミリモル、37%)を得た。Et
OAc/ヘキサンから結晶化゛させて表題生成物22■
を得た。融点120〜126℃0k tzo 5. Q
ml中の実施例■からの生成物(9−デオキシホルス
コリン) 151n9(0,14ミリモル)および水素
化アルミニウムリチウム25ダ(0,66ミリモル)の
混合物を窒素雰囲気下に40℃で1.5時間加熱した。
その混合物をEt205Qmlで希釈して氷−水浴で冷
却した。その冷却した混合物に飽和Na25o4/H2
(、l溶液l mlを滴下し、30分間攪拌した。白色
沈澱物を濾過して除き、Et205Qmlで洗浄した。
却した。その冷却した混合物に飽和Na25o4/H2
(、l溶液l mlを滴下し、30分間攪拌した。白色
沈澱物を濾過して除き、Et205Qmlで洗浄した。
有機溶液は減圧下に濃縮して残渣441ngを得た。ア
ルミナTLCプレート(250μ、5%Kt、0Ac−
1%MeOH−94%CHOP3)でその残渣を精製し
て生成物2.3 タ(0,5ミリモル、46%)を得た
。EjOAc/ヘキサンから結晶化させて表題生成物2
1ダを得た。融点189〜190°c。
ルミナTLCプレート(250μ、5%Kt、0Ac−
1%MeOH−94%CHOP3)でその残渣を精製し
て生成物2.3 タ(0,5ミリモル、46%)を得た
。EjOAc/ヘキサンから結晶化させて表題生成物2
1ダを得た。融点189〜190°c。
ピリジン0.94m1およびCH2Cl2o、 14
m’中に実施例X■で製造した粗生成物94In9(0
,265ミリ舌ル)を溶解し、この溶液に無水酢酸0.
135m1(1,32ミ’)モル)を加えた。この混合
物を室温で一晩攪拌し、N2” 100 m、iを加
えて反応を停止させ、EtOAcで生成物を抽出した。
m’中に実施例X■で製造した粗生成物94In9(0
,265ミリ舌ル)を溶解し、この溶液に無水酢酸0.
135m1(1,32ミ’)モル)を加えた。この混合
物を室温で一晩攪拌し、N2” 100 m、iを加
えて反応を停止させ、EtOAcで生成物を抽出した。
有機相はI N HCl2次いでN20で洗浄して乾燥
させた(MgSO4)。
させた(MgSO4)。
溶媒を減圧下に蒸発させて残渣を得た。シリカゲルのガ
ヲムクロマトグラフイー(2%MeOH/GHCA3)
で精製して表題生成物49m9(47%)を得た。融点
162〜166℃、 エタ/ジチオール40μlを含有する乾燥CH2Cl2
5d中に実施例■からの生成物100ダを溶解し、この
溶液をN2 下に一78℃に冷却した。これニBF3・
Et2060mlを添加して一78℃で1時間攪拌した
。反応混合物は水で反応を停止Fさせ、CH2012で
抽出した。有機抽出物を希NH4OH溶液で洗浄し、乾
燥しく N a 2 So 4)、溶媒を除去して表題
生成物(50%Et、OAc/ヘキサンで溶離して分取
TLCにより精!1り80m9を得た。
ヲムクロマトグラフイー(2%MeOH/GHCA3)
で精製して表題生成物49m9(47%)を得た。融点
162〜166℃、 エタ/ジチオール40μlを含有する乾燥CH2Cl2
5d中に実施例■からの生成物100ダを溶解し、この
溶液をN2 下に一78℃に冷却した。これニBF3・
Et2060mlを添加して一78℃で1時間攪拌した
。反応混合物は水で反応を停止Fさせ、CH2012で
抽出した。有機抽出物を希NH4OH溶液で洗浄し、乾
燥しく N a 2 So 4)、溶媒を除去して表題
生成物(50%Et、OAc/ヘキサンで溶離して分取
TLCにより精!1り80m9を得た。
融点285〜287℃(分解)。
メタノール6.0麻中に実施例X■からの生成物32、
1 m9を含有する溶液を10%Na、OH1,5ml
テ処゛埋した。その反応混合物を16時間攪拌した。
1 m9を含有する溶液を10%Na、OH1,5ml
テ処゛埋した。その反応混合物を16時間攪拌した。
修酸112.5m9’&添加し、生成物ヲCH2Cl2
テ抽出し、分離して乾燥させた。溶媒な除去して表題生
成物ろ0InI/を得た・ 乾燥ピリジン0.7TLl中の実施例xXからの生成物
69.5m9を、実施例xxmと類似した方法によりA
C2073,4rttlおよび乾燥CH2Cl20.7
−でアシル化シタ。EtOAc/MeOH10HC11
3(5: 1 :94)の混合溶媒で溶離する分取TL
CKより精製して白色固体の表題生成物68.41n9
を得た。融点216〜218℃(分解)、。
テ抽出し、分離して乾燥させた。溶媒な除去して表題生
成物ろ0InI/を得た・ 乾燥ピリジン0.7TLl中の実施例xXからの生成物
69.5m9を、実施例xxmと類似した方法によりA
C2073,4rttlおよび乾燥CH2Cl20.7
−でアシル化シタ。EtOAc/MeOH10HC11
3(5: 1 :94)の混合溶媒で溶離する分取TL
CKより精製して白色固体の表題生成物68.41n9
を得た。融点216〜218℃(分解)、。
冥施例X刈からの生成物165■をエタノール16d中
Ra/Ni @!濁液9−で脱硫した。その混合物を室
温で16時間攪拌した。濾過後エタノールで洗浄し、溶
媒を除去して生成物112mgを得た。メタノールから
再結晶して白色結晶の生成物を得た。融点191〜19
2℃。
Ra/Ni @!濁液9−で脱硫した。その混合物を室
温で16時間攪拌した。濾過後エタノールで洗浄し、溶
媒を除去して生成物112mgを得た。メタノールから
再結晶して白色結晶の生成物を得た。融点191〜19
2℃。
実施例XXlかもの生成物911n9を乾燥ピリジン0
、8 rnlに溶解し、乾燥塩化メチン/Q、 fJ
ml中無水酢酸0.096m1含有溶液で処理した。そ
の反応混合物にN2下に室温で16時間1・寛拌した。
、8 rnlに溶解し、乾燥塩化メチン/Q、 fJ
ml中無水酢酸0.096m1含有溶液で処理した。そ
の反応混合物にN2下に室温で16時間1・寛拌した。
その混合物を水と塩化メチレンとに分配し、有機相を希
HGlで洗浄し、乾燥し、溶媒を除去して生成物87.
47Vを得た。この粗生成物は2%M eOH/CHC
l 3で溶離する分取TLCにより精製して結晶性生成
物40Ingを得た。融点274〜276°C。
HGlで洗浄し、乾燥し、溶媒を除去して生成物87.
47Vを得た。この粗生成物は2%M eOH/CHC
l 3で溶離する分取TLCにより精製して結晶性生成
物40Ingを得た。融点274〜276°C。
乾燥THF1.Qm/中(7) ホ/l/ ス:Iリン
1100rnを0℃においてエーテル溶液中のジアゾメ
タ/3 mlと処理した。少量のP d (OA c
) 2を加えてその反応混合物を0°Cで15分間攪拌
した。生成物を単離シー(E;l、QAc:MeOH:
CHC;73 (5: 1 : 94 )の混合溶媒で
溶離する分取’r L Cにより精製した。
1100rnを0℃においてエーテル溶液中のジアゾメ
タ/3 mlと処理した。少量のP d (OA c
) 2を加えてその反応混合物を0°Cで15分間攪拌
した。生成物を単離シー(E;l、QAc:MeOH:
CHC;73 (5: 1 : 94 )の混合溶媒で
溶離する分取’r L Cにより精製した。
CHCl3から結晶化させて白色結晶の表題生成物65
m9を得た。融点256〜256℃。
m9を得た。融点256〜256℃。
ダン−11−オ/ 7−アセテート
実施例■で製造した9−デオキシホルスコリン100〜
を実施例XXIVと類似した方法によりシクロプロピル
化した。生成物は20%EtOAc/CHCl3で溶離
するシリカゲルのカラムで精製しさらに60%h、t
OA c /cHclffで溶離する分取TLCにより
精製して53.2■を得た。これはジイソプロピルエー
テルから結晶化させた。融点205°C実施例■からの
生成物500mg< 1.4 ミ!Jモル)酢酸25m
1およびZn末1.44.9の混合物をN2下で120
℃に加熱した。30分後、追加のZn末1.44J9を
添加してその混合物をさらに60分加熱した。冷却した
後その亜鉛を濾過して除き、ろ液は減圧下に濃縮して残
渣をEtQAc 300ml1に再溶解し、水で洗浄し
て乾燥させた(MgSO4几有機浴媒を減圧下に蒸発さ
せて、残渣はシリカゲルのカラムでクロマトグラフにか
け、10%+!= i; OA c /CHG 113
で溶離して9−デオキシホルスコリン 成物の一部分60■をアセトン−ヘキサ/から結晶化さ
せた。融点190〜192℃0 酢酸3.5 mli中に実施例月からの生成物70ダ(
0,167ミ’Jモル)を溶解し、この溶液にZn末0
.211Iを加えた。その混合物をN2下に120℃で
1.5時間加熱した。EtOAc 100alを添加し
、亜鉛を靜過して除いた。泥液はH2050mA中に注
ぎ、Na、OHで中和し、生成物を酢酸エチルで抽出し
た。シリカゲルのカラムでクロマトグラフにかけ、30
%Et、OA、c /ヘキサンで溶離して生成物を得、
これは酢酸エチル−ヘキサ/から結晶化させた・収量1
4/n9・ 261Jジン2.1d中の実施例■かもの生成物140
ダ(0,309ミリモル)およびS(X;720.21
mの混合物を室温で20分間攪拌した。その混合物に
水を添加して2 N HC/で中和した。生成物を酢酸
エチルで抽出し、処理操作後にシリカTLCプレー)(
1im、10%E t、OA c/G HCl3 )で
クロマトグラフにかけて表題生成物20〜を得た。融点
103〜105℃。
を実施例XXIVと類似した方法によりシクロプロピル
化した。生成物は20%EtOAc/CHCl3で溶離
するシリカゲルのカラムで精製しさらに60%h、t
OA c /cHclffで溶離する分取TLCにより
精製して53.2■を得た。これはジイソプロピルエー
テルから結晶化させた。融点205°C実施例■からの
生成物500mg< 1.4 ミ!Jモル)酢酸25m
1およびZn末1.44.9の混合物をN2下で120
℃に加熱した。30分後、追加のZn末1.44J9を
添加してその混合物をさらに60分加熱した。冷却した
後その亜鉛を濾過して除き、ろ液は減圧下に濃縮して残
渣をEtQAc 300ml1に再溶解し、水で洗浄し
て乾燥させた(MgSO4几有機浴媒を減圧下に蒸発さ
せて、残渣はシリカゲルのカラムでクロマトグラフにか
け、10%+!= i; OA c /CHG 113
で溶離して9−デオキシホルスコリン 成物の一部分60■をアセトン−ヘキサ/から結晶化さ
せた。融点190〜192℃0 酢酸3.5 mli中に実施例月からの生成物70ダ(
0,167ミ’Jモル)を溶解し、この溶液にZn末0
.211Iを加えた。その混合物をN2下に120℃で
1.5時間加熱した。EtOAc 100alを添加し
、亜鉛を靜過して除いた。泥液はH2050mA中に注
ぎ、Na、OHで中和し、生成物を酢酸エチルで抽出し
た。シリカゲルのカラムでクロマトグラフにかけ、30
%Et、OA、c /ヘキサンで溶離して生成物を得、
これは酢酸エチル−ヘキサ/から結晶化させた・収量1
4/n9・ 261Jジン2.1d中の実施例■かもの生成物140
ダ(0,309ミリモル)およびS(X;720.21
mの混合物を室温で20分間攪拌した。その混合物に
水を添加して2 N HC/で中和した。生成物を酢酸
エチルで抽出し、処理操作後にシリカTLCプレー)(
1im、10%E t、OA c/G HCl3 )で
クロマトグラフにかけて表題生成物20〜を得た。融点
103〜105℃。
ピリジy 0.4 ml中の実施例■aからの生成物4
4111!i/(0,114ミ!jモル)’Mヨび無I
Ht0.2mlをDパCで24時間攪拌した。N20を
0℃で添加して反応を停止させ、その混合物ばEtOA
c 200mgで希釈した。有機溶液を0.1 N H
GII、飽和NaHC○3溶液および水で洗浄して乾燥
させた(MgSO4)。溶媒を減圧下に蒸発させて残渣
を45m9得り。シIJ カ’I’ L CプL’)(
Iim、4o%E t OA c−ヘキサン)で精製し
て生成物を26〜(0゜061ミリモル、54%う得、
これは石油工−チルから結晶化させた。融点75〜77
℃乾燥DMSO7,05ml中に8,16−エ、にキシ
−1rY、6s、7β、9(Y−テトラヒドロキシーラ
ズド−14−弘、y−11−オン8001夕(0,21
7ミリモル)を溶解し、この溶液にp−トルエンスルホ
ン酸65.5myとオルト酢酸トリエチル1.53m1
を添加した・その混合v/I)ば室温で2.6時間攪拌
し、5%Na2CO3水溶液10Qm/を添加し、生成
物を酢酸エチルで抽出した。EtOAc抽出物を合わせ
て水で洗浄し、乾燥しくMg5O4)、減圧下に蒸発さ
せて生成物930m?(0,272ミ’Jモル)を得た
。生成物の一部分100■Q工EtOAc/ヘキサンか
ら結晶化させた。融点190.5〜196°゛Cホルス
コリン1g、4化P−メトキシベンジル1.3m7.ヨ
ウ化カリウム1gおよび炭酸カリウム5gを乾燥アセト
ン30d中で60℃において18時間加熱した。冷却し
た後、沈澱物を濾過して除き、ろ液を蒸発させ、残渣は
シリカゲル100gのカラムで10%EtOAC//C
HCl3を流すことにより分離して1α−P−メトキシ
ベ/ジルホルスコリン0.1および1α−p−メトキシ
ベンジルホルスコリンと1α−ρ−メトキシベンジル−
6−アセテート−7−説アセチルホルスコリンとの混合
物0.811を得た。この混合物0.8.9はMeOH
43、2mlおよび1.66%Na0H−N2010.
8 mlテ室温において一晩処理した。MeOHを減圧
下に蒸発サセ、残渣kl EtOAc 3 [I Q
rulに溶解し、水で洗浄して乾燥させた(MgS0
4)。シリカゲルカラムで精製して1α−ρ−メトキシ
ベンジルー7−説アセチルホルスコリン0.63.9を
得た。この生成物はトルエン20ゴ、チオカルボニルジ
イミダゾール765■およびN、N−ジメチルアミノピ
リジン66ダと共にN2下に100℃で24時間加熱し
た。溶媒を減圧下に蒸発させた投、残渣をシリカゲルの
カラム(70g、20%Et、OAc/ヘキサン)でク
ロマトグラフKかけ、1α−p−メトキシベ/ジル−6
β、7β−チオカーボネート7−説アセチルホルスコリ
:’0.51’を得た。この生成物の一部分250ダば
反応バイアル中で1.6−ジメチ#−’)−−フェニル
−1,5−シア!−2−*xファシクロ深/タン1.2
5rulの存在下にアルゴン芥囲気で1日間50℃に加
熱した。シリカゲルカラム(ろooy、is%EtOA
c/ヘギサン)でのクロマトグラフィーにより8,16
−エポキシ−1α。
4111!i/(0,114ミ!jモル)’Mヨび無I
Ht0.2mlをDパCで24時間攪拌した。N20を
0℃で添加して反応を停止させ、その混合物ばEtOA
c 200mgで希釈した。有機溶液を0.1 N H
GII、飽和NaHC○3溶液および水で洗浄して乾燥
させた(MgSO4)。溶媒を減圧下に蒸発させて残渣
を45m9得り。シIJ カ’I’ L CプL’)(
Iim、4o%E t OA c−ヘキサン)で精製し
て生成物を26〜(0゜061ミリモル、54%う得、
これは石油工−チルから結晶化させた。融点75〜77
℃乾燥DMSO7,05ml中に8,16−エ、にキシ
−1rY、6s、7β、9(Y−テトラヒドロキシーラ
ズド−14−弘、y−11−オン8001夕(0,21
7ミリモル)を溶解し、この溶液にp−トルエンスルホ
ン酸65.5myとオルト酢酸トリエチル1.53m1
を添加した・その混合v/I)ば室温で2.6時間攪拌
し、5%Na2CO3水溶液10Qm/を添加し、生成
物を酢酸エチルで抽出した。EtOAc抽出物を合わせ
て水で洗浄し、乾燥しくMg5O4)、減圧下に蒸発さ
せて生成物930m?(0,272ミ’Jモル)を得た
。生成物の一部分100■Q工EtOAc/ヘキサンか
ら結晶化させた。融点190.5〜196°゛Cホルス
コリン1g、4化P−メトキシベンジル1.3m7.ヨ
ウ化カリウム1gおよび炭酸カリウム5gを乾燥アセト
ン30d中で60℃において18時間加熱した。冷却し
た後、沈澱物を濾過して除き、ろ液を蒸発させ、残渣は
シリカゲル100gのカラムで10%EtOAC//C
HCl3を流すことにより分離して1α−P−メトキシ
ベ/ジルホルスコリン0.1および1α−p−メトキシ
ベンジルホルスコリンと1α−ρ−メトキシベンジル−
6−アセテート−7−説アセチルホルスコリンとの混合
物0.811を得た。この混合物0.8.9はMeOH
43、2mlおよび1.66%Na0H−N2010.
8 mlテ室温において一晩処理した。MeOHを減圧
下に蒸発サセ、残渣kl EtOAc 3 [I Q
rulに溶解し、水で洗浄して乾燥させた(MgS0
4)。シリカゲルカラムで精製して1α−ρ−メトキシ
ベンジルー7−説アセチルホルスコリン0.63.9を
得た。この生成物はトルエン20ゴ、チオカルボニルジ
イミダゾール765■およびN、N−ジメチルアミノピ
リジン66ダと共にN2下に100℃で24時間加熱し
た。溶媒を減圧下に蒸発させた投、残渣をシリカゲルの
カラム(70g、20%Et、OAc/ヘキサン)でク
ロマトグラフKかけ、1α−p−メトキシベ/ジル−6
β、7β−チオカーボネート7−説アセチルホルスコリ
:’0.51’を得た。この生成物の一部分250ダば
反応バイアル中で1.6−ジメチ#−’)−−フェニル
−1,5−シア!−2−*xファシクロ深/タン1.2
5rulの存在下にアルゴン芥囲気で1日間50℃に加
熱した。シリカゲルカラム(ろooy、is%EtOA
c/ヘギサン)でのクロマトグラフィーにより8,16
−エポキシ−1α。
9α−ジヒトゞロキシーラブダ−6(71,14−ジエ
ン−11−オン1α−戸−メトキシベンジルエーテル6
2m9を得た。この生成物は0H2CA!2: N20
(18:1)6、 Q mlおよびjJDQ68.I
Ing、!:、共に室温で1日処理した。追加のL)D
Q25mgv加えて室温でさらに1日攪拌した。その後
混合物(工セ之イトを介して濾過し、アセトンで洗浄し
、生成物レエシリカゲル力ラム(50II、30%Et
OAc/ヘキサン)で精製して8,16−エボギシー1
α、9α−ジヒドロキシ−ラメグー6 (71、14−
ジエン−11−オン1α−p−メトキシベンゾエート6
0■ヲ得た。
ン−11−オン1α−戸−メトキシベンジルエーテル6
2m9を得た。この生成物は0H2CA!2: N20
(18:1)6、 Q mlおよびjJDQ68.I
Ing、!:、共に室温で1日処理した。追加のL)D
Q25mgv加えて室温でさらに1日攪拌した。その後
混合物(工セ之イトを介して濾過し、アセトンで洗浄し
、生成物レエシリカゲル力ラム(50II、30%Et
OAc/ヘキサン)で精製して8,16−エボギシー1
α、9α−ジヒドロキシ−ラメグー6 (71、14−
ジエン−11−オン1α−p−メトキシベンゾエート6
0■ヲ得た。
この生成物60■は室温で28時間MeOH3,3ml
の存在下に1.66%Na0H−HzOo、 72 m
A!で加水分解した。生じた溶液を2 N HCgで中
和し、メタノールを減圧下に除去した。生成物を工Et
、OAcに溶解し、水で洗浄し、乾燥しくMg5O4)
、減圧下に蒸発させて残渣を得た。この残渣はシリカ
ゲルカラム(iooy、10%EtOAc/ ヘ* f
ン) テ精製して表題生成物401ng/を得た。生
成物の一部分20mgはルーへキサ/から結晶化させた
。融点92〜93℃0 GHC133,Od中(に実施例■aかもの生成物50
〜を溶解し、この浴液に活性MnO250IIu;I(
0,575ミリモル)を加えた。この混合物を室温で攪
拌し、追加の活性MnO250In9を1日目と一2目
上に加えた。6日目にその混合物(工C1(CI!31
00属で希釈し、セライトを介して濾過し、追加のGH
GII35 Q m7!で洗浄した。ろ液を減圧下に濃
縮して残渣4.5m9’に得た。シリカゲルカラム(4
0%EtOAc/CHCl3)でクロマトグラフにかけ
表題生成物14mg(0,04ミリモル、28%)を得
た。
の存在下に1.66%Na0H−HzOo、 72 m
A!で加水分解した。生じた溶液を2 N HCgで中
和し、メタノールを減圧下に除去した。生成物を工Et
、OAcに溶解し、水で洗浄し、乾燥しくMg5O4)
、減圧下に蒸発させて残渣を得た。この残渣はシリカ
ゲルカラム(iooy、10%EtOAc/ ヘ* f
ン) テ精製して表題生成物401ng/を得た。生
成物の一部分20mgはルーへキサ/から結晶化させた
。融点92〜93℃0 GHC133,Od中(に実施例■aかもの生成物50
〜を溶解し、この浴液に活性MnO250IIu;I(
0,575ミリモル)を加えた。この混合物を室温で攪
拌し、追加の活性MnO250In9を1日目と一2目
上に加えた。6日目にその混合物(工C1(CI!31
00属で希釈し、セライトを介して濾過し、追加のGH
GII35 Q m7!で洗浄した。ろ液を減圧下に濃
縮して残渣4.5m9’に得た。シリカゲルカラム(4
0%EtOAc/CHCl3)でクロマトグラフにかけ
表題生成物14mg(0,04ミリモル、28%)を得
た。
EtOAc/ヘキサンから結晶化させて収、量10〜、
融点205〜208□′d・ CH2Oら中の14 、 ’15−ジノル−8,16−
エボキシー16−ホルミル−1α、6β、7β−トリヒ
ドロキシ−ラブダン−11−オ/ 7−アセテート10
0’il&(実施例XXXIVで9−デfi キ’/
* /l/、X コリンのオゾン分l911から得られ
たもの)をホスホラン9 Q my (Ph3P=CH
−GOOMe)で処理した。その反応混合物に室温で4
8時間攪拌した。塩化メチレ/を減圧下に蒸発させてガ
ム状の残留物を得、溶離剤として40%酢酸エチル/r
L−ヘキサンを使用してシリカゲル′1°t+Cプレー
トでクロマトグラフにかけ、陰性がより小さいZ−異性
体を無色の非晶質固体として17.6■および極性がよ
り太きいE−異性体を無色の非晶質固体として47.0
my得た・ 塩化メチレン4mlおよびメタノール3d中に9−デオ
キシホルスコリ750gを溶解し、冷却した(浴温度−
70℃)この溶液に青色が持続するまでオゾンを通した
。過剰のオゾンを窒素で排除し、続いてMe2S o、
1 mlを添加した。その溶液を次第に室温まで暖め
(約45分)、その後溶媒を減圧下に蒸発させてガム状
残留物を得た。それをCH2Cl2に溶解し、Na2S
O4で乾燥して蒸発乾固させた。こうして得られたアル
デヒド(工はとんど純粋であり(TLC;20%EtO
Ac/GHGl13 )、次の反応にそのまま使用した
。
融点205〜208□′d・ CH2Oら中の14 、 ’15−ジノル−8,16−
エボキシー16−ホルミル−1α、6β、7β−トリヒ
ドロキシ−ラブダン−11−オ/ 7−アセテート10
0’il&(実施例XXXIVで9−デfi キ’/
* /l/、X コリンのオゾン分l911から得られ
たもの)をホスホラン9 Q my (Ph3P=CH
−GOOMe)で処理した。その反応混合物に室温で4
8時間攪拌した。塩化メチレ/を減圧下に蒸発させてガ
ム状の残留物を得、溶離剤として40%酢酸エチル/r
L−ヘキサンを使用してシリカゲル′1°t+Cプレー
トでクロマトグラフにかけ、陰性がより小さいZ−異性
体を無色の非晶質固体として17.6■および極性がよ
り太きいE−異性体を無色の非晶質固体として47.0
my得た・ 塩化メチレン4mlおよびメタノール3d中に9−デオ
キシホルスコリ750gを溶解し、冷却した(浴温度−
70℃)この溶液に青色が持続するまでオゾンを通した
。過剰のオゾンを窒素で排除し、続いてMe2S o、
1 mlを添加した。その溶液を次第に室温まで暖め
(約45分)、その後溶媒を減圧下に蒸発させてガム状
残留物を得た。それをCH2Cl2に溶解し、Na2S
O4で乾燥して蒸発乾固させた。こうして得られたアル
デヒド(工はとんど純粋であり(TLC;20%EtO
Ac/GHGl13 )、次の反応にそのまま使用した
。
乾燥ピリジン/ 2 ml中の14.15−ジノル−8
,16−エ肱キシ−16−ホルミル−1α、6β。
,16−エ肱キシ−16−ホルミル−1α、6β。
7β−トリヒドロキシ−ラブダン−11−オ/7−アセ
テート(実施例XXXIVで9−デオキシホルスコリン
のオゾン分解から得られたもの)5omgをNH2OC
H3・HC1121ngで処理した。その混合物G1室
温で2時間攪拌し、その後ピリジ/を減圧下に除去した
。生じた固体をCH2Cl2と水とに分配した。有機相
を分離した後水相はCH2Cl2でもう一度抽出した。
テート(実施例XXXIVで9−デオキシホルスコリン
のオゾン分解から得られたもの)5omgをNH2OC
H3・HC1121ngで処理した。その混合物G1室
温で2時間攪拌し、その後ピリジ/を減圧下に除去した
。生じた固体をCH2Cl2と水とに分配した。有機相
を分離した後水相はCH2Cl2でもう一度抽出した。
塩化メチレン抽出物を合わせてNa2SO4で乾燥し、
蒸発乾固させてガム状固体を得、これを工溶離剤として
20%酢酸エチル/クロロホルムを使用してシリカゲル
TLCプレートでクロマトグラフにかけた。主要バンド
を酢酸エチルで抽出して純粋な表題化合物を無色の非晶
質固体として得た。
蒸発乾固させてガム状固体を得、これを工溶離剤として
20%酢酸エチル/クロロホルムを使用してシリカゲル
TLCプレートでクロマトグラフにかけた。主要バンド
を酢酸エチルで抽出して純粋な表題化合物を無色の非晶
質固体として得た。
011□G11263 ml中の実施例■からの生成物
0.66511をカルポニルズイミグゾール0.266
yと室温において2時間処理した。その有機溶液をH2
Cで洗浄し、乾燥しくNa25O4) 、蒸発させて固
体の残留物を得た。これを分取TLC(20%E tO
Ac/CHCA 3で溶離)により精製して生成物0.
451を得、EtOAc/ヘキサンから結晶化させた。
0.66511をカルポニルズイミグゾール0.266
yと室温において2時間処理した。その有機溶液をH2
Cで洗浄し、乾燥しくNa25O4) 、蒸発させて固
体の残留物を得た。これを分取TLC(20%E tO
Ac/CHCA 3で溶離)により精製して生成物0.
451を得、EtOAc/ヘキサンから結晶化させた。
融点264〜265℃
MeOH8ml中の実施例XXXVIからの生成物0.
11を10%NaOH4mJと室温において15時間処
理した。修酸水溶液を加えて生成物をCH2Cl2で抽
出した。有機溶液は水で洗浄し、乾燥しくNa2S04
)、蒸発させて表題生成物0.0911を得た。
11を10%NaOH4mJと室温において15時間処
理した。修酸水溶液を加えて生成物をCH2Cl2で抽
出した。有機溶液は水で洗浄し、乾燥しくNa2S04
)、蒸発させて表題生成物0.0911を得た。
乾燥ピリジy 0.6 trtlおよび”zCA’20
.8ml中の実施例XXX■からの生成物0.06.!
7を無水酢酸0、06 mlと室温において20時間処
理した。水を添加し、1時間後にその反応混合物を蒸発
させて残留物を得、これは分取TLC(20%EtOA
c/ヘキサンで溶離ンにより精製して表題生成物0.0
6pを得た、y、1.○Ac/ヘキサンから結晶化させ
て融点224〜225℃0 乾燥アセトン10m1中の実施例■からの生成物0.1
gを室温において塩化トリメチルシリル0.1mlと処
理した。15時間後追加の塩化トリメチルシリルQ、
l mlを添加し、さらに15時間後その反応混合物を
飽和NaHCO3溶液で希釈した。生成物をCH2Cl
2で抽出し、有機抽出物はH2Cで洗浄し乾燥しくNa
25o4)、蒸発させて残留物を得、分取T L G
(10% EtOAc/CHCl3で溶離)により精製
して表題生成物0.045Fを得た。、 Et、OAc
/ヘキサンから結晶化させて融点146〜147℃01
3−エビ−14,15−ジノル−8,16−エポキシE
tOH10m1中の実施例xxxv+からの生成物o、
iyをPico20.1 gの存在下に室温において5
0 nsjで66時間水素添加した。その後触媒を濾過
して除き、ろ液を蒸発させて残留物を得、分取TLCに
より精製して表題生成物0.067gを得た。
.8ml中の実施例XXX■からの生成物0.06.!
7を無水酢酸0、06 mlと室温において20時間処
理した。水を添加し、1時間後にその反応混合物を蒸発
させて残留物を得、これは分取TLC(20%EtOA
c/ヘキサンで溶離ンにより精製して表題生成物0.0
6pを得た、y、1.○Ac/ヘキサンから結晶化させ
て融点224〜225℃0 乾燥アセトン10m1中の実施例■からの生成物0.1
gを室温において塩化トリメチルシリル0.1mlと処
理した。15時間後追加の塩化トリメチルシリルQ、
l mlを添加し、さらに15時間後その反応混合物を
飽和NaHCO3溶液で希釈した。生成物をCH2Cl
2で抽出し、有機抽出物はH2Cで洗浄し乾燥しくNa
25o4)、蒸発させて残留物を得、分取T L G
(10% EtOAc/CHCl3で溶離)により精製
して表題生成物0.045Fを得た。、 Et、OAc
/ヘキサンから結晶化させて融点146〜147℃01
3−エビ−14,15−ジノル−8,16−エポキシE
tOH10m1中の実施例xxxv+からの生成物o、
iyをPico20.1 gの存在下に室温において5
0 nsjで66時間水素添加した。その後触媒を濾過
して除き、ろ液を蒸発させて残留物を得、分取TLCに
より精製して表題生成物0.067gを得た。
Men)(5m中の実施例X、Lからの成成物0.06
7gを10%NaOH溶液2rn13と室温において一
晩攪拌した。修酸水溶液を加えて生成物をCH2Cl2
で抽出した。有機相はH2Cで洗浄し、乾燥しくNa2
S04)、蒸発させて16−エビ−14,15−ジノル
−8,13−エポキシ−1α、6β、7β、9α。
7gを10%NaOH溶液2rn13と室温において一
晩攪拌した。修酸水溶液を加えて生成物をCH2Cl2
で抽出した。有機相はH2Cで洗浄し、乾燥しくNa2
S04)、蒸発させて16−エビ−14,15−ジノル
−8,13−エポキシ−1α、6β、7β、9α。
11−−−?/タヒドロキシーラゾダ/の残留物を得た
。
。
この物質をピリジンQ、 7 mlとCH2Cl32Q
、 7 mlに溶解してAc20と室温におい〔20時
間処理した。
、 7 mlに溶解してAc20と室温におい〔20時
間処理した。
水を加え、生成物をCH2Cl2で抽出し、有機抽出物
ハ1(20で洗浄し、乾燥しくNa25o4)、蒸発さ
せて残留物を得た。この残留物は分取TLC(EtOA
c/’Me(JH/GHGA!35 ’: 1 : 9
4の混合溶媒で溶離)により精製して表題生成物0.0
21’を得た。W tOA c/ヘキサンから結晶化さ
せて融点264〜240℃。
ハ1(20で洗浄し、乾燥しくNa25o4)、蒸発さ
せて残留物を得た。この残留物は分取TLC(EtOA
c/’Me(JH/GHGA!35 ’: 1 : 9
4の混合溶媒で溶離)により精製して表題生成物0.0
21’を得た。W tOA c/ヘキサンから結晶化さ
せて融点264〜240℃。
実施例XLTl
カプセル剤
乳糖(米国薬局方) 106 123
トウモロコシデンプ/(食品級) 40
7゜実施例XLIII オレイン酸 1.0
フルオロトリクロロメタン 4739.0
全量 17000.0 前もって冷却しておいたフルオロトリクロロメタンにオ
レイン酸を加えて高シアーミキサーで混合した。混合し
ている間に所定員の活性成分を加え均質になるまで混合
し続けた。必要により、その懸濁液をフルオロトリクロ
ロメタンで所定の重さに調節した。所定量の懸濁液を各
々の缶に計量した。缶の上のバルブをクリンプさせた。
トウモロコシデンプ/(食品級) 40
7゜実施例XLIII オレイン酸 1.0
フルオロトリクロロメタン 4739.0
全量 17000.0 前もって冷却しておいたフルオロトリクロロメタンにオ
レイン酸を加えて高シアーミキサーで混合した。混合し
ている間に所定員の活性成分を加え均質になるまで混合
し続けた。必要により、その懸濁液をフルオロトリクロ
ロメタンで所定の重さに調節した。所定量の懸濁液を各
々の缶に計量した。缶の上のバルブをクリンプさせた。
容器あたり約50回の服用量を送出するようにバルブを
介して所定量のジクロロジフルオロメタンを加圧充填し
た。
介して所定量のジクロロジフルオロメタンを加圧充填し
た。
第1頁の続き
■Int、 C1,3識別記号 庁内整理番号//
CC07D 407104 03100 311100 ) (C07D 493106 11100 317100 ) (C07D 493/16 11100 17100 319100 ) 優先権主張 @1983年10月17日[株]米国(U
S)■542825 [相]発 明 者 マイケル・ジョン・グリーンアメリ
カ合衆国ニューシャーシ ー州08558スキルマン・メドウ ・ラン・レイン43 0発 明 者 アニル・クマー・サクセナアメリカ合衆
国ニューシャーシ ー州07043アッパー・モントク レア・ビバリー・ロード53 0発 明 者 ホージエイン・シュー アメリカ合衆国ニューシャーシ ー州07058パイン・プルツク・ ハミルトン・ブレイス8 662−
CC07D 407104 03100 311100 ) (C07D 493106 11100 317100 ) (C07D 493/16 11100 17100 319100 ) 優先権主張 @1983年10月17日[株]米国(U
S)■542825 [相]発 明 者 マイケル・ジョン・グリーンアメリ
カ合衆国ニューシャーシ ー州08558スキルマン・メドウ ・ラン・レイン43 0発 明 者 アニル・クマー・サクセナアメリカ合衆
国ニューシャーシ ー州07043アッパー・モントク レア・ビバリー・ロード53 0発 明 者 ホージエイン・シュー アメリカ合衆国ニューシャーシ ー州07058パイン・プルツク・ ハミルトン・ブレイス8 662−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)一般式Jの化合物(遊離形またはその溶媒和物)
を含むことを特徴とする抗アレルギー作用および/また
は気管支拡張作用を有する医薬組成物。 式中、Uは一〇または(H,Fil)であり−Vは=O
または(H,R2)であり; R1はHまたはOR□1であり、ここでR1□はH1炭
素原子数1〜乙のアシル基または次式の基であ(式中m
は0.1.2または6であり、YliH、ハロケン、炭
素原子数1〜乙のアルキル基、炭素原子数1〜乙のアル
コキシ基、炭素原子数1〜乙のアルキルチオ基、OH,
OF3.、NO2゜ON、フェニル基、はンジル基、フ
ェノキシ基またはNRaRbであり、ここでRおよび九
は同一または異なってHlまたは炭素原子数1〜6のア
ルキル基である) R2ハH,0R11,0802R’ マタハOR′テア
リ、ココでR1□は先に定義した通りであり、R′は炭
素原子数1〜6のアルキル基である; あるいは 町およびR2は一緒になって次式の基を形成し;(式中
RおよびR14は同一または異なって3 H1炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜乙
のアルコキシ基、炭素原子数2〜乙のアルケニル基、炭
素原子数2〜乙のアルキニル基または Yは先に定義した通りである) R3はH1炭素原子数1〜10のアルキル基、GH20
H,GHQ、 Go2R15(R15ハH4t、:−ハ
炭素座子数1〜乙のアルキル基である)、−CH=OR
16R1□〔R16はH,ハロゲン、炭素原子数1〜6
のアルキル基、ON。 1 C(0)、LRc(ルはOまたは1であり、R,はH1
炭素原子数1〜6のアルキル基である)、フェニル基、
インジル基、GHOHR,、またはC(ORd、)2R
c(Rcは先に定義した通りであり、Rd、は炭素原子
数1〜乙のアルキル基である)であり、R1□はH1炭
素原子数1〜乙のアルキル基、炭素原子数1〜乙のアル
コキシ基、ばンジル基、フェニル基またはノ・bゲンで
ある〕。 −C,5G−R18(R□8はH1炭素原子数1〜12
のアルキル基、炭素原子数1〜乙のアルコキであり、こ
こでYおよびRcは先に定義した通りである)、 −cHoH−c=c−R19(R1,はH1炭素原子数
1〜乙のアルキル基、フェニル基またはベンジル基であ
る)。 −CH=C=CHR19または−GH=N−OR19(
R19は先に定義した通りである)。 義した通りである)。 −CH(ZR2o)2(Zは先に定義した通りであり、
R2oは炭素原子数1〜乙のアルキル基、フェニル基ま
たはばンジル基であり、あるいは2個の基R2oが一緒
になって−(CH2)p−を形成し、ここでpは2また
は6である)。 基、フェニル基、ベンジル基または 1 C(0)rLR,であり、ここでルおよびR6は先に定
義した通りである)、または −CH−、N−NDE (DおよびEはH5炭素原子
数1〜乙のアルキル基、インジル基、フェニル基、co
G、 5o2GまたはCO□0であり、ここでGは炭素
原子数1〜乙のアルキル基、インジル基またはフェニル
基である)であり;R4はHまたはOHであり; R5はOHであり;あるいは R4およびR5は一緒になって次式の基を形成し:Xは
OまたはHlo R“であり、ここでR“はH1炭素原
子数1〜6のアシル基またはトリフル牙ロアセチル基で
ある: QはH1塩素または臭素であり;あるいはQはR3と−
緒になって12位の炭素原子と16位の炭素原子との間
に一つの結合を形成する:但し、式Iの5.6−デヒド
ロ誘導体の場合にR□はHであり、そして式1の6,7
−デヒドロ誘導体の場合にR1およびR2は共にHであ
る。 (2)一般式Iの化合物が次に定義されるものであるこ
とを特徴とする特許請求の笥囲第1項に記載の医薬組成
物。 Uは(H,R,)であり: ■は(H,R2)であり; R1およびR2は同一または異なってHまたはOR1□
(ここでR11は特許請求の範囲第1項に定義した通り
であり、YはHである)であり:R3は−CH=CHR
1□。 −C−=GR18゜ −CH0H−Cミ””19゜ −CH=C;=CHR19゜ −GH=N−OR19゜ −CH=N−NHDであり、但し 上記各式中、R1□、R18およびR□9はH5炭素原
子数1〜6のアルキル基、フェニル基またはインジル基
であり、DはH1炭素原子数1〜乙のアルキル基、フェ
ニル基、ベンジル基、502Gまたはco2eであり、
ここでGは炭素原子数1〜乙のアルキル基である;R4
はHまたはOHであり; R5はOHであり; XはOまたは(H,OH)であり; QはHまたは地素であり; 5.6位および6,7位の炭素原子は単結合で結合され
るか、あるいは5位と6位の炭素原子は二重結合で結合
され、この場合にR1はHでありかっR2は好ましくは
0R11(R1□は特許請求の範囲第1項に定義した通
りであり、YはHである)である。 (3)一般式1の化合物が次に定義されるものであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の医薬組成
物。 Uは(H,R1)であり; ■は(H,R2)であり; R□およびR2は同一または異なって°HまたはOR,
□(R11は特許請求の範囲第1項に定義した通りであ
り、YはHである)であり; R3はH1炭素原子数1〜6のアルキル基、−0H=O
HR□6または−c=cR□8であり、ここでR16お
よびRisはH1炭素原子数1〜乙のアルキル基、フェ
ニル基、ベンジル基または−co2Rc(Rcは特許請
求の範囲第1項に定義した通りである)である; R4はHまたはOHであり: R5はOHであり; XはOまたは(H,OH)であり; QはHまたは塩素であり; 5.6位および6.7位の炭素原子は単結合で結合され
るか、あるいは5位と6位の炭素原子は二重結合で結合
され、この場合にR□はHでありかつR2は好ましくは
OR,1(R1□は特許請求の範囲第1項に定:義した
通りであり、YはHである)である。 (4)式IにおいてR4はHである特許請求の範囲第ろ
項に記載の医薬組成物。 (5)式■においてR1およびR2はOR1□であり但
しR11はHまたはアシル基(好ましくは1〜3個の炭
素原子をもつもの)である特許請求の範囲第1〜4項の
いずれかに記載の医薬組成物。 (6) 式IにおいてR3はメチル基、エチル基また
はビニル基である特許請求の範囲第1〜5項のいずれか
に記載の医薬組成物。 (7) 一般式1の化合物は次のものであることを特
徴とする特許請求の範囲第1項に記載の医薬組成物。 ホルスコリン(ニアβ−アセトキシ−8,15−エポキ
シ−1α、6β、9α−トリヒドロキシラブド−−エン
−11−オン)。 7−ジスアセチルホルスコリン(=8.13−エポキシ
−1n,6B,7β,9α−戸トラヒドロキシラゾドー
14ーエン−11−オン)。 6−アセドキシー7ーデスアセチルホルスコリン(=6
βーアセトキシー8,16ーニポキシー1α,7β。 9α−トリヒドロキシラブド−14−エン−11−オン
)。 8、13−エポキシ−1α,6β,7β−トリヒドロキ
シラブド−14−エン−11−オン 7−アセテート。 8、16−エポキシ−1α,フβ,9αートリヒドロキ
シラズド−5(6)−エン−11−オン 7−アセテー
ト。 8、13−エポキシ−1α,6β,7β−トリ上ビロキ
シラブド−14−エン−11−オン 6−アセテート。 8、16−エポキシ−1α,フβ,9α−トリヒドロギ
シラブダーs(6+, 1 4−ジエン−11−オン
7−アセテート。 8、16−エポキシ−1α,6β,フβートリヒドロキ
シラズド−14−エン−11−オン。 8、13−エポキシ−1α76β,7β−i11β−テ
トラヒドロキシラブiv−14−エン。 8、16−ニポキシー1α,6β,7β,11β−テト
ラヒドロキシラブ)”−14−エン 7−アセテート。 12−クロロ−8,16−エポキシ−1α,フβージヒ
ドロキシラシダー5(61.14−:)エン−11−オ
ン7−アセテート。 15−ツルー8,16−エボキシー1α,6β,7β。 9α−テトラヒト80キシ−ラメダン−11−オン。 15−ツルー8,16−エボキシー1α、6β、7β。 9α−テトラヒドロキシラブグン−11−オン 7−ア
セテート。 8.13−エポキシ−1α、7β、9α−トリヒドロキ
シラブグー5(61,14−ジエン−11−オン 7−
プロピオネート、 または 8.13−エポキシ−1α、7β、9α−トリヒト霜キ
シラズダー5(61,14−ジエン−11−オン。 (8)7β−アセトキシ−8,16−エポキシ−1σ、
6β、9α−トリヒビロキシラズドー14−エン−11
−オンを除く特許請求の範囲第1〜7項のいずれかで定
義した式Iの化合物を含む眼圧低下用医薬組成物。 (9)特許請求の範囲第1項に定義した一般式1の化合
物、但しR4がHである場合に8,16−ニポキシー1
α、6β、7β、11rl’−テトラヒドロキシラブド
−14−工/は除かれ、また R4 がOHであるか、あるいはR4とR5が一緒にC
6,7)位および(12,13)位の各炭素原子が単結
合で結合される場合に、R3がCH=CH2゜かれる。 00)一般式Iにおいて、 R1およびR2は同一または異なってHまたはOR1゜
(R11は特許請求の範囲第1項に定義した通りであり
、YはHである)であり; R3はH1炭素原子数1〜6のアルキル基、−GH千C
HR16または−GミGR18であり、ここでR16お
よびR□8はH1炭素原子数1〜6のアルキル基、フェ
ニル基、ヘンシル基またはC02Rc(Rcは特許請求
の範囲第1項に定義した通りである)である; R5はOHであり; Xは0または(H,OH)であり; QはHまたは塩素であり; 5.6位および6.7位の炭素原子は単結合で結合され
るか、あるいは5位と6位の炭素原子は二重結合で結合
され、この場合にR1はHでありかつR2は好ましくは
0R11(R1□は特許請求の範囲第1項に定義した通
りであり、YはHである)である; l特許請求の範囲第9項に記載の化合物。 (11)一般式1において 5位と6位の炭素原子は二重結合で結合され、RoはH
であり、そして R5はOHである、 ip、:p許請求の範囲第9項に記載の化合物。 (12i 一般式Iにおいて 5位と6位の炭素原子は二重結合で結合され、XはOま
たはα−H/β−OHであり、QはHまたはC1であり
、 HlはHであり、 Hは0RII(R11は/14r許請求σ)範囲第1〜
7項のいずれかに定義した通りである)であり、R3は
H,CH3、C2H5またばCH=CH2であり、R4
はHまたはOHであり、そして R5はOHである、 特許請求の範囲第9項に記載の化合物。 (131一般式Iにおいて、 5位と6位の炭素原子は二重結合で結合され、R1はH
であり、 R2はOR□1(R11は炭素原子数1〜2のアルシ基
である)であり、 R3はエチル基またはビニル基でアリ、R5はOHであ
り、 Xは−OまたばHloHであり、そしてQはHまたはG
lである、 特許請求の範囲第9項に記載の化合物。 04) 一般式Iの化合物は 8.13−エポキシ−1α、6β、7β−トリヒドロキ
シラブ1−14−エン−11−オン 7−アセf−ト;
8.1ろ一エゼキシー1α、7β、9α−トリヒドロキ
シラブ1−5(61−エン−11−オン 7−アセテー
ト;8.16−エポキシ−1σ、6β、フβ−トリヒド
ロキシラゾト”−14−エン−11−オン 6−アセテ
ート;8.1ろ一工H?キシー1α、7β、9α−トリ
ヒドロキシラブダ−5(61,14−ジエン−11−オ
ン 7−アセテート; 8,16−エポキシ−1α、6β、フβ−トリヒドロキ
シラゾドー14−エン−11−オン;8.13−エポキ
シ−1α、6β、7β、11β−テトラヒドロキシラズ
)’−14−エン;8.13−エポキシ−1σ、6β、
7β、11β−テトラヒドロキシラブド−14−エン
7−アセテート;12−クロロ−8,16−エゼキシー
1(Y、7β−ジヒドロキシラブダ−5(61,14−
ジエン−11−オン 7−アセテート; 15−ツルー8,16−エボキシー1α、6β、7β。 9α−テトラヒドロキシ−ラブダン−11−オン;15
−ツルー8,16−エd″キシ−1α、6β、7β。 9α−テトラヒドロキシーラズダン−11−オン 7−
アセテート; 8.16−エボキシー1α、7β、9α−トリヒト80
キシラブグー5(61,14−ジエン−11−オン 7
−プロピオネート; または 8.16−エ肱キシ−1α、7β、9α−トリヒト90
キシラブダ−5(61,14−ジエン−11−オン;で
ある特許請求の範囲第9項に記載の化合物。 (151ホルスコリンまたはその適当な誘導体を次の方
法のうちの少なくとも一つに供することを特徴とする特
許請求の範囲第9〜14項のいずれかに定義した一般式
Iの化合物の製造方法。 1) Uが=0である化合物の製造のために、Uが(
H,OH)である対応化合物を酸化する;2) Vが
=0である化合物の製造のために、■が(H,OH)で
ある対応化合物を酸化する;3) Uおよび/または
■が(H,OR1□)であり、R1□が先に定義した通
りのアシル基である化合物の製造のために、R□1がH
である対応化合物をアシル化する; 4)Uおよび/または■が(H,OH) であり、 そ
して/またR4とR5がOHである化合物の製造のため
に、対応するエステルおよび/または次の基を加水分解
する; 5) Uおよび/または■が(H、、H)である化合
物の製造のために、Uおよび/または■が一〇である対
応化合物を還元する; 6) Vが(H、0802R’ )であり、R′が炭
素原子数1〜乙のアルキル基である化合物の製造のため
に、■が(H,OH)である対応化合物をRIS03H
の反応性誘導体と反応させる;7) Vが(H,OR
’)であり、R′が炭素原子数1〜乙のアルキル基であ
る化合物の製造のために、■が(H,OH) である
対応化合物を適当なハロゲン化アルキル(R’HcLl
)と反応させる; 8)R1およびR2が一緒になって を形成する化合物の製造のために、R1=R2=OHで
ある対応化合物をアルデヒドまたはケトンと反応させる
; 9)5.6位または6.7位の炭素原子が二重結合で結
合される化合物の製造のために、前記位置が単結合で結
合されかつUおよび/またはVが(H,0)I)である
対応化合物またはその反応性誘導体を脱水する; 10)12位と16位の炭素原子が二重結合で結合され
る化合物の製造のために、QがHでありかつR3が例え
ば−CH=NOR,9(R19は好ましくはHである)
である対応化合物からOR3を除去する; 11) R4がHである化合物の製造のために、対応
する1、9−カーボネートまたは1,9−チオカーボネ
ートを酢酸中で亜鉛と処理する;12) R4および
R5が一緒になってを形成する化合物の製造のために、
R4=R5=OHである対応化合物をホスゲン、カルボ
ニルジイミダゾールまたはチオカルボニルジイミダゾー
ルを用いて転化させる; 16)Xが(H,OH)である化合物の製造のためにX
がオキソである対応化合物を還元する;14)Qが塩素
または臭素である化合物の製造のために、QがHである
対応化合物を塩素化または臭素化する; 15)R3がHでありかつXが(H,OH)である化合
物の製造のために、XがOでありかつ12位と13位の
炭素原子が二重結合で結合される対応化合物を水素添加
する; 16)R3がエチル基である化合物の製造のために、R
3がビニル基である対応化合物を水素添加する; 17)R3がメチル基である化合物の製造のため物を脱
硫する; 18) R3がC;H20Hである化合物の製造のた
めにR3がCHOである対応化合物を還元する;19)
R3がCHOである化合物の製造のために、R3がビニ
ル基である対応化合物をオゾン分解する; 20) R3がC02R□5である化合物の製造のた
めにR3がOHOである対応化合物を酸化し、R15力
ζ炭素原子数1〜乙のアルキル基である場合には続いて
エステル化する; 21) R3が−GH=GR16R17である化合物
の製造のために、R3がOHOである対応化合物をウイ
ツチヒ試薬(φ3P=CR16R□7)と処理する:2
2)R3が一〇=C−R工、である化合物の製造のため
に、R3がCHOである化合物を試薬φp+CHB r
R工、と処理して臭素含有中間体を製造しこの中間体を
脱臭化水素させる; 25)、 R3が一〇#CHである化合物の製造のた
めに、R3が−aH,,,cH2である対応化合物に臭
素を付加させ、続いてジ脱臭化水素させる:24)
R3が−CH0H−0=C−R19である化合物の製造
のために、R3がCHOである化合物をMO−=C;
−R19(Mはリチウムのような適当な金属である)と
処理する; 25) R3が−CH=C=CHR工、である化合物
の製造のために、R3が−CH0H−C−=C−R19
である化金物をエステル化し、こうして得られたエステ
ノett塩化アルミニウムと処理する:26)R3が−
CH=N−OR19である化合物の製造のために、R3
がCHOである対応化合物をH2N−0R□、と処理す
る; 19 製造のために、R3が−CH=GR□6R19である化
合物を過酸と処理してZが酸素である化合物を製造し、
所望によりその後イソチオシアン酸カリウムと処理する
; 28)R3が−CH(ZR2o)2である化合物の製造
のために、R3がCHOである化合物をアルコールまた
はチオールと処理する; のために、R3が−CH=CH2である化合物にジハロ
カルベンを付加させるか、あるいはR3が−CH=GA
Bである化合物にメチレンカルベンを付加させる; 30) R3がシクロプロピル基である化合物の製造
のために、R3が−cu=cH2である化合物をジアゾ
メタンと反応させる; 31) R3が−CH=N−NDEである化合物の製
造のために、R3がCHOである化合物を式H2N−N
DEの化合物と処理する。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US45343682A | 1982-12-27 | 1982-12-27 | |
US453436 | 1982-12-27 | ||
US542825 | 1983-10-17 | ||
US06/542,825 US4517200A (en) | 1982-12-27 | 1983-10-17 | Method for treating allergic reactions with forskolin |
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JPS59152380A true JPS59152380A (ja) | 1984-08-31 |
JPH0576447B2 JPH0576447B2 (ja) | 1993-10-22 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP58252433A Granted JPS59152380A (ja) | 1982-12-27 | 1983-12-27 | ラブダン誘導体を含む医薬組成物 |
Country Status (5)
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US (1) | US4517200A (ja) |
EP (1) | EP0116713A1 (ja) |
JP (1) | JPS59152380A (ja) |
DE (1) | DE3346869A1 (ja) |
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