JPS5915091B2 - 光通信用フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光通信用フアイバ母材の製造方法Info
- Publication number
- JPS5915091B2 JPS5915091B2 JP7965277A JP7965277A JPS5915091B2 JP S5915091 B2 JPS5915091 B2 JP S5915091B2 JP 7965277 A JP7965277 A JP 7965277A JP 7965277 A JP7965277 A JP 7965277A JP S5915091 B2 JPS5915091 B2 JP S5915091B2
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- JP
- Japan
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- base material
- sintered body
- powder sintered
- manufacturing
- glass
- Prior art date
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- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01486—Means for supporting, rotating or translating the preforms being formed, e.g. lathes
- C03B37/01493—Deposition substrates, e.g. targets, mandrels, start rods or tubes
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は外付け法による光通信用ファイバ母材の製造
方法に関し、特に基材１０の除去工程に特徴を持つもの
である。
方法に関し、特に基材１０の除去工程に特徴を持つもの
である。
５ 外付け法による光通信用ファイバ母材の製造方法は
（第１図参照）、１ 基材１０上にガラス微粉末焼結体
１２を付着たい積させる工程、２ 基材１０を除去する
工程、 １０３ガラス微粉末焼結体１２を透明ガラス化する工程
、を含む。
（第１図参照）、１ 基材１０上にガラス微粉末焼結体
１２を付着たい積させる工程、２ 基材１０を除去する
工程、 １０３ガラス微粉末焼結体１２を透明ガラス化する工程
、を含む。
２の基材除去工程を３の透明ガラス化工程の後にする場
合は、基材１０をつけたままガラス微粉１５末焼結体１
２を透明ガラス化させるので、透明化したガラスが基材
１０に密着する。
合は、基材１０をつけたままガラス微粉１５末焼結体１
２を透明ガラス化させるので、透明化したガラスが基材
１０に密着する。
そして基材１０との熱膨張係数の違いにより応力割れを
起すことが多い。また透明ガラス化の前に基材１０を除
去しようク０ とすると、まだガラス微粉末焼結体１２
が固まつていないので作業が難しい。
起すことが多い。また透明ガラス化の前に基材１０を除
去しようク０ とすると、まだガラス微粉末焼結体１２
が固まつていないので作業が難しい。
この発明の目的は、ガラス微粉末焼結体１２ならびにそ
の透明ガラス化したものに悪い影響を与えることなく、
基材１０を容易に除去できる方法２５を提供することに
ある。
の透明ガラス化したものに悪い影響を与えることなく、
基材１０を容易に除去できる方法２５を提供することに
ある。
この発明の概要を述べる。
基材１０の材料として、たとえばカーボンのように、少
なくともガラ不微粉末焼結体１２を透明ガラス化させる
温度以下の温度で燃焼し、消滅す３０るものを用いる。
なくともガラ不微粉末焼結体１２を透明ガラス化させる
温度以下の温度で燃焼し、消滅す３０るものを用いる。
またこれをパイプ状にして使用する。そしてその上に従
来同様にガラス微粉末焼結体１２を形成する。基材１０
を除去するときは、その内部にＯ２ガスを流しながら加
熱し、これを燃焼消滅させる。３５たとえばカーボンは
約７００゜Ｃで燃焼する。
来同様にガラス微粉末焼結体１２を形成する。基材１０
を除去するときは、その内部にＯ２ガスを流しながら加
熱し、これを燃焼消滅させる。３５たとえばカーボンは
約７００゜Ｃで燃焼する。
通常、ガラス微粉末焼結体１２の透明ガラス化は約１３
００℃くらいで行なう。それ故透明ガラス化工程中に、
同時に基材１０の燃焼消滅を行うこともできる。次によ
り詳しく説明する（第２図）。
００℃くらいで行なう。それ故透明ガラス化工程中に、
同時に基材１０の燃焼消滅を行うこともできる。次によ
り詳しく説明する（第２図）。
まず装置を述べる。
２０はたとえばカーボンのパイプからなる基材で、たと
えば外径が２０ｍζ肉厚が２龍くらいのものを用いる。
えば外径が２０ｍζ肉厚が２龍くらいのものを用いる。
２２はその外側に従来公知の方法でたい積させたガラス
微粉末焼結体である。
微粉末焼結体である。
ガラス微粉末焼結体２２の上端に適当な長さの石英製の
支持パイプ２４を、たとえばネジ２６で連結する。支持
パイプ２４の途中に０２ガスの入口２８を設ける。支持
パイプ２４の下端近くに適当なひつかかり３０（たとえ
ば石英の細い棒を支持パイプ２４の内壁にかけわたした
もの）を設ける。これに石英製の支持棒３２の上端をひ
つかける。これは基材２０内を下り、その下端は横に曲
つてガラス微粉末焼結体２２を下から支える。この支持
棒３２は基材２０が燃焼し消滅したときガラス微粉末焼
結体２２の落下を防ぐ。支持パイプ２４の上端を公知の
昇降装置３４のチヤツク３６にはさみ、加熱炉３８内に
吊り下げる。４０はヒータである。
支持パイプ２４を、たとえばネジ２６で連結する。支持
パイプ２４の途中に０２ガスの入口２８を設ける。支持
パイプ２４の下端近くに適当なひつかかり３０（たとえ
ば石英の細い棒を支持パイプ２４の内壁にかけわたした
もの）を設ける。これに石英製の支持棒３２の上端をひ
つかける。これは基材２０内を下り、その下端は横に曲
つてガラス微粉末焼結体２２を下から支える。この支持
棒３２は基材２０が燃焼し消滅したときガラス微粉末焼
結体２２の落下を防ぐ。支持パイプ２４の上端を公知の
昇降装置３４のチヤツク３６にはさみ、加熱炉３８内に
吊り下げる。４０はヒータである。
次に作用を述べる。
ヒータ４０でガラス微粉末焼結体２２の透明ガラス化温
度（約１３００℃）に加熱し、入口２８から０２ガスを
入れて支持パイプ２４｝よび基材２０の内部を通じて流
しながら昇降装置３４で支持パイプ２４を徐々に下降さ
せる。するとガラス微粉末焼結体２２は下端から順次透
明ガラス４２になる。同時に基材２０は燃焼し消滅して
ＣＯ２になり下の方に流出する。このようにして全体の
ガラス微粉末焼結体２２が透密ガラス４２になつたとき
、基材２０は完全に消滅する。また透明ガラス４２は支
持棒３２により支持されるので落下しない。透明ガラス
４２は基材２０からの応力を全く受けない。また透明ガ
ラス４２の内面は内部に流れるガスの作用によつて、従
来より凹凸が少なくなる。実施例 基材２０に外径２０ｍ７！Ｌ１内径１６關、長さ２００
ｕのカーボン製のパイプを使用、その上に長さ１８０ｍ
７！Ｌにわたつて、Ｐ２Ｏ５（１０％）−ＳｉＯ２（８
３％）−ＧｅＯ２（７％）のコア用ガラス微粉末焼結体
２２を厚さ７．５７ｊｕに、またその上にＳｌＯ２（８
２％）−Ｂ２Ｏ３（１８％）のクラツド用ガラス微粉末
焼結体２２（割合は重量％）を厚さ７．５ｍｍにたい積
させて、全体の外径を５０關とした。
度（約１３００℃）に加熱し、入口２８から０２ガスを
入れて支持パイプ２４｝よび基材２０の内部を通じて流
しながら昇降装置３４で支持パイプ２４を徐々に下降さ
せる。するとガラス微粉末焼結体２２は下端から順次透
明ガラス４２になる。同時に基材２０は燃焼し消滅して
ＣＯ２になり下の方に流出する。このようにして全体の
ガラス微粉末焼結体２２が透密ガラス４２になつたとき
、基材２０は完全に消滅する。また透明ガラス４２は支
持棒３２により支持されるので落下しない。透明ガラス
４２は基材２０からの応力を全く受けない。また透明ガ
ラス４２の内面は内部に流れるガスの作用によつて、従
来より凹凸が少なくなる。実施例 基材２０に外径２０ｍ７！Ｌ１内径１６關、長さ２００
ｕのカーボン製のパイプを使用、その上に長さ１８０ｍ
７！Ｌにわたつて、Ｐ２Ｏ５（１０％）−ＳｉＯ２（８
３％）−ＧｅＯ２（７％）のコア用ガラス微粉末焼結体
２２を厚さ７．５７ｊｕに、またその上にＳｌＯ２（８
２％）−Ｂ２Ｏ３（１８％）のクラツド用ガラス微粉末
焼結体２２（割合は重量％）を厚さ７．５ｍｍにたい積
させて、全体の外径を５０關とした。
これを１ｍの支持パイプ２４の下端に連結して加熱炉３
８に吊るし、１２８０℃に加熱し、同時に０２を１１／
Ｍｉｎの割合で流し、ガラス微粉末焼結体２２を順次透
明ガラス４２にすると同時に基材２０を燃焼消滅させ、
内径８ｍ７７！．外径１２ｍｍ１長さ１２０ｍｍの透明
ガラス４２を、何ら破損させることなく得ることができ
た。この発明の効果を述べる。
８に吊るし、１２８０℃に加熱し、同時に０２を１１／
Ｍｉｎの割合で流し、ガラス微粉末焼結体２２を順次透
明ガラス４２にすると同時に基材２０を燃焼消滅させ、
内径８ｍ７７！．外径１２ｍｍ１長さ１２０ｍｍの透明
ガラス４２を、何ら破損させることなく得ることができ
た。この発明の効果を述べる。
（１）ガラス微粉末焼結体２２の透明ガラス化と同時に
基材２０の除去ができる。
基材２０の除去ができる。
（２）ガラス微粉末焼結体２２が透明ガラス化するとき
応力割れを起すことがなくなる。
応力割れを起すことがなくなる。
（３）基材２０はパイプ状になつているので０２ガスと
の接触面積が広く、また燃焼ガスが容易に流出できる。
の接触面積が広く、また燃焼ガスが容易に流出できる。
第１図は従来の製造工程途中の説明図、第２図はこの発
明の製造方法のある途中の状態を模型的に示した説明図
である〇２０：基材、２２：ガラス微粉末焼結体、３８
：加熱炉、４０：ヒータ、４２：透明ガラス。
明の製造方法のある途中の状態を模型的に示した説明図
である〇２０：基材、２２：ガラス微粉末焼結体、３８
：加熱炉、４０：ヒータ、４２：透明ガラス。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基材２０上にガラス微粉末焼結体２２を付着たい積
させる工程と、基材２０を除去する工程と、ガラス微粉
末焼結体２２を透明ガラス化する工程とを含む光通信用
ファイバ母材の製造方法において、ガラス微粉末焼結体
２２を透明ガラス化させる温度以下の温度で燃焼消滅す
る材料をパイプ状にしたものを前記基材２０として用い
、これをその内側にＯ＿２ガスを流しながら加熱して、
燃焼消滅させることを特徴とする光通信用ファイバ母材
の製造方法。 ２ 前記基材２０の材料としてカーボンを用いることを
特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の光通信用ファ
イバ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7965277A JPS5915091B2 (ja) | 1977-07-04 | 1977-07-04 | 光通信用フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7965277A JPS5915091B2 (ja) | 1977-07-04 | 1977-07-04 | 光通信用フアイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5414250A JPS5414250A (en) | 1979-02-02 |
| JPS5915091B2 true JPS5915091B2 (ja) | 1984-04-07 |
Family
ID=13696049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7965277A Expired JPS5915091B2 (ja) | 1977-07-04 | 1977-07-04 | 光通信用フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5915091B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS626898U (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-16 | ||
| JPH0428640Y2 (ja) * | 1986-09-30 | 1992-07-10 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4286978A (en) * | 1980-07-03 | 1981-09-01 | Corning Glass Works | Method for substantially continuously drying, consolidating and drawing an optical waveguide preform |
| US4289517A (en) * | 1980-07-03 | 1981-09-15 | Corning Glass Works | Method of forming an optical waveguide preform |
| US4289522A (en) * | 1980-07-03 | 1981-09-15 | Corning Glass Works | Support member for an optical waveguide preform |
| US4708726A (en) * | 1985-11-27 | 1987-11-24 | At&T Technologies, Inc. | Fabrication of a lightguide preform by the outside vapor deposition process |
-
1977
- 1977-07-04 JP JP7965277A patent/JPS5915091B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS626898U (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-16 | ||
| JPH0428640Y2 (ja) * | 1986-09-30 | 1992-07-10 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5414250A (en) | 1979-02-02 |
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