JPS59149928A - 芳香族ポリエステルアミドの製造方法 - Google Patents
芳香族ポリエステルアミドの製造方法Info
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- JPS59149928A JPS59149928A JP2278983A JP2278983A JPS59149928A JP S59149928 A JPS59149928 A JP S59149928A JP 2278983 A JP2278983 A JP 2278983A JP 2278983 A JP2278983 A JP 2278983A JP S59149928 A JPS59149928 A JP S59149928A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は芳香族ポリエステルアミドの新規な製造方法に
係り、更に詳しくは、再現性よく反応生成物を得ること
ができる、高分子量芳香族ポリエステルアミ、ドの製造
方法に関する。
係り、更に詳しくは、再現性よく反応生成物を得ること
ができる、高分子量芳香族ポリエステルアミ、ドの製造
方法に関する。
従来、芳香族ポリエステルアミドの基本的な製造方法と
しては、特公昭39−26012号及び特公昭48−1
9237号に開示されているように、反応原料として芳
香族ソアミン、二官能性フェノール訪導体及び芳香族ソ
カルボン酸ソバライドを使用する、界面重合法が知られ
ている。
しては、特公昭39−26012号及び特公昭48−1
9237号に開示されているように、反応原料として芳
香族ソアミン、二官能性フェノール訪導体及び芳香族ソ
カルボン酸ソバライドを使用する、界面重合法が知られ
ている。
又、反応原料としてアミンフェノールとカルボン酸ハラ
イドを使用する場合(特公昭49−16793号)、分
子の両末端にアミ7基及びフェノール性水酸基を有する
化合物とカルボン酸ハライドを使用する場合(特公昭4
5−37739号)又はアミノフェノールと芳香族ジカ
ルゲン酸ソバライドとの反応によって得られた分子の両
末端にフェノール性水酸基を有する芳香族アミド化合物
と芳香族ソカルボン酸ソバライドを使用する場合(J。
イドを使用する場合(特公昭49−16793号)、分
子の両末端にアミ7基及びフェノール性水酸基を有する
化合物とカルボン酸ハライドを使用する場合(特公昭4
5−37739号)又はアミノフェノールと芳香族ジカ
ルゲン酸ソバライドとの反応によって得られた分子の両
末端にフェノール性水酸基を有する芳香族アミド化合物
と芳香族ソカルボン酸ソバライドを使用する場合(J。
Pol)rm、sci s PartA−1、vol
8 、3135〜2144頁(1970年) : U
、 S 、 Pat 3,205,199号)が開示さ
れ、これらの多くの場合においても、前記と同様に界面
重合法を用いて反応が行なわれていた。
8 、3135〜2144頁(1970年) : U
、 S 、 Pat 3,205,199号)が開示さ
れ、これらの多くの場合においても、前記と同様に界面
重合法を用いて反応が行なわれていた。
このような芳香族ポリエステルアミドの製造においては
、本来、反応操作の容易性から溶液重合法によるのが好
ましいが、溶液重合法ではアミド化とエステル化との反
応速度の相違によりエステル化がむずかしく、このため
界面重合法が用いられてきた。
、本来、反応操作の容易性から溶液重合法によるのが好
ましいが、溶液重合法ではアミド化とエステル化との反
応速度の相違によりエステル化がむずかしく、このため
界面重合法が用いられてきた。
しかしながら、前記したいずれの場合において゛ も、
得られた重合物が不規則な構造を有し、重合度が低く高
分子k・の重合物を得ることが困難であり、更には反応
における生成物の再現性が未だ十分であるとはいえず、
ρ)かる問題点の改良が望まれていた。
得られた重合物が不規則な構造を有し、重合度が低く高
分子k・の重合物を得ることが困難であり、更には反応
における生成物の再現性が未だ十分であるとはいえず、
ρ)かる問題点の改良が望まれていた。
なお、分子の両末端に芳香族アミン基を有する脂肪族ソ
エステル化合物と芳香族ソカルボン酸ヅハライドとの反
応によりポリエステルアミドを製造する方法(特開昭5
O−12190)も知られ4ているが、得られるポリマ
ーは十分な耐熱性を有していなかった。
エステル化合物と芳香族ソカルボン酸ヅハライドとの反
応によりポリエステルアミドを製造する方法(特開昭5
O−12190)も知られ4ているが、得られるポリマ
ーは十分な耐熱性を有していなかった。
本発明は上記した欠点を解消し、反応における生成物の
再現性に優れん高分子量の芳香族ポリエステルアミ・ド
の製造方法を提供することを目的とする。
再現性に優れん高分子量の芳香族ポリエステルアミ・ド
の製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、一般式:
(式中、R,%R,は同一であっても異なっていてもよ
く、それぞれ、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、
塩素原子又は臭素原子を表わす)で示される芳香族ソア
ミン系化合物、及び/又は、一般式: %式% (式中、R7−R12は同一であっても異なっていても
よく、それぞれ、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基
、塩素原子又は臭素原子を表わす)で示される芳香族ソ
アミン系化合物と、一般式: 〔式中、Xはハロゲン原子又は水酸基を表わし、Ar
ハナフチレン基、アントラセニレン基又は式:数1〜5
のアルキレン基、炭素数3〜7のアルキリデン基、カル
ボニル基、スルホン基、酸素原子又はイオウ原子を表わ
し、nは0又は1である)で示される基を表わす〕 で示される芳香族ソカルボン酸又はその誘導体とを重縮
合させることを特徴とする 一般式: (式中、R1−R8及びArは前記した基と同一である
) で示される繰り返し単位、及び/又は、一般式: (式中、R7〜RH及びArは前記した基♂同一である
) で示される繰り返し単位を有する芳香族プリエステルア
ミドの製造方法である。
く、それぞれ、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、
塩素原子又は臭素原子を表わす)で示される芳香族ソア
ミン系化合物、及び/又は、一般式: %式% (式中、R7−R12は同一であっても異なっていても
よく、それぞれ、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基
、塩素原子又は臭素原子を表わす)で示される芳香族ソ
アミン系化合物と、一般式: 〔式中、Xはハロゲン原子又は水酸基を表わし、Ar
ハナフチレン基、アントラセニレン基又は式:数1〜5
のアルキレン基、炭素数3〜7のアルキリデン基、カル
ボニル基、スルホン基、酸素原子又はイオウ原子を表わ
し、nは0又は1である)で示される基を表わす〕 で示される芳香族ソカルボン酸又はその誘導体とを重縮
合させることを特徴とする 一般式: (式中、R1−R8及びArは前記した基と同一である
) で示される繰り返し単位、及び/又は、一般式: (式中、R7〜RH及びArは前記した基♂同一である
) で示される繰り返し単位を有する芳香族プリエステルア
ミドの製造方法である。
以下、本発明である芳香族ポリエステルアミドの製造方
法を詳細に述べる。
法を詳細に述べる。
本発明において使用する芳香族ジアミン系化合物は前記
式〔1〕又は〔I′〕 で示される化合物であり、こ
の化合物の具体例としては、p−フエニレ、ンー&(p
−アミノベンゾエート)、p−フェニレンー−/(m−
アミノベンゾエート)、m−フェニレンージ(p−アミ
ノベンゾエート)、m−フェニレン、−S/(m−アミ
ノベンゾエート)、p−フエニレンーノ(p−アミノ−
m−メチルベンゾエート)、p−フ二二しンーソ(p−
アミノ−m−クロルベンゾニー))、p−フェニレン−
&(p−アミノ−m−ブロモベンゾエート)、ビス(4
−アミノフェニル)テレフタレート、ビス(3−アミノ
フェニル)テレフタレート、ビス(4−アミノフェニル
)イソフタレート、ビス(3−アミノフェニル)インフ
タレート、ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)テ
レフタレート、ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル
)インフタレート、ヒス(4−アミノ−2−メチルフェ
ニル)テレフタレート、ビス(4−アミノ−2−メチル
フェニル)イソフタレート、ビス(3−アミノ−5−メ
チルフェニル)、テレフタレート、ビス(3−アミノ−
5−メチルフェニル)イソ7タレート、ビス(3−アミ
ノ−4−メチルフェニル)テレフタレート、ビス(3−
アミノ−4−メチルフェニル)イソ7タレート、ビス(
4−アミノ−3−クロルフェニル)テレフタレート、ヒ
ス(4−7ミノー3−クロルフェニル)インフタレート
、ビス(4−アミノ−3−プロ、モフェニル)テレフタ
レート及ヒビス(4−アミノ−3−ブロモフェニル)イ
ソ7タレート等を挙げることができ、これらから成る群
より選ばれた1mもしくは2種以上のものである。
式〔1〕又は〔I′〕 で示される化合物であり、こ
の化合物の具体例としては、p−フエニレ、ンー&(p
−アミノベンゾエート)、p−フェニレンー−/(m−
アミノベンゾエート)、m−フェニレンージ(p−アミ
ノベンゾエート)、m−フェニレン、−S/(m−アミ
ノベンゾエート)、p−フエニレンーノ(p−アミノ−
m−メチルベンゾエート)、p−フ二二しンーソ(p−
アミノ−m−クロルベンゾニー))、p−フェニレン−
&(p−アミノ−m−ブロモベンゾエート)、ビス(4
−アミノフェニル)テレフタレート、ビス(3−アミノ
フェニル)テレフタレート、ビス(4−アミノフェニル
)イソフタレート、ビス(3−アミノフェニル)インフ
タレート、ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)テ
レフタレート、ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル
)インフタレート、ヒス(4−アミノ−2−メチルフェ
ニル)テレフタレート、ビス(4−アミノ−2−メチル
フェニル)イソフタレート、ビス(3−アミノ−5−メ
チルフェニル)、テレフタレート、ビス(3−アミノ−
5−メチルフェニル)イソ7タレート、ビス(3−アミ
ノ−4−メチルフェニル)テレフタレート、ビス(3−
アミノ−4−メチルフェニル)イソ7タレート、ビス(
4−アミノ−3−クロルフェニル)テレフタレート、ヒ
ス(4−7ミノー3−クロルフェニル)インフタレート
、ビス(4−アミノ−3−プロ、モフェニル)テレフタ
レート及ヒビス(4−アミノ−3−ブロモフェニル)イ
ソ7タレート等を挙げることができ、これらから成る群
より選ばれた1mもしくは2種以上のものである。
本発明において使用する芳香族ソカルボン酸又は芳香族
ソカルボン酸シバライド化合物は前記式(n)で示され
る化合物であり、この化合物の具体例どしては、イソフ
タル酸、テレフタル酸、l。
ソカルボン酸シバライド化合物は前記式(n)で示され
る化合物であり、この化合物の具体例どしては、イソフ
タル酸、テレフタル酸、l。
4−ナフタレンソカルボン&、2.6−ナフタレンソカ
ルポン1112.3 、3’−ビフェニルジカルボン酸
、4 、4’−ビフェニルジカルボン酸、ビス(p−カ
ルボキシフェニル)エーテル、ビス(p−カルボキシフ
ェニル)スルホン、ビス(p−カルがキシフェニル)ス
ルフィド、ビス(p−カルカキジフェニル)ケトン、2
.2−ビス(p−カルボキシフェニル)フロパン、ビス
(p−カルボキシフェニル)エチレン、インフタル酸ジ
クロ1ノド、テレフタル酸ツクロリド、1,4−ナフタ
レンソカルゴン酸ソクロ、リド、2’、6−ナフタレン
ソカルボン酸ツクロリド、3 、3’−ビフェニルソカ
ルボン酸ツクロリド、4 、4’−ビフェニルソカルボ
ン酸ツクロリド、ビス(p−クロルカルボニルフェニル
)エーテル、ビス(p−クロルカルボニルフェニル)ス
ルホン、ビス(p−10ルカルボニルフエニル)スルフ
ィド、ビス(p−クロルカルボニルフェニル)ケトン、
2.2−ビス(p−クロルカルボニルフェニル)グロノ
4ン及ヒビス(p−クロルカルボニルフェニル)エチレ
ン等’l!r挙ケることができ、これらから成る群より
選択された1種もしくは2flli以上のものである。
ルポン1112.3 、3’−ビフェニルジカルボン酸
、4 、4’−ビフェニルジカルボン酸、ビス(p−カ
ルボキシフェニル)エーテル、ビス(p−カルボキシフ
ェニル)スルホン、ビス(p−カルがキシフェニル)ス
ルフィド、ビス(p−カルカキジフェニル)ケトン、2
.2−ビス(p−カルボキシフェニル)フロパン、ビス
(p−カルボキシフェニル)エチレン、インフタル酸ジ
クロ1ノド、テレフタル酸ツクロリド、1,4−ナフタ
レンソカルゴン酸ソクロ、リド、2’、6−ナフタレン
ソカルボン酸ツクロリド、3 、3’−ビフェニルソカ
ルボン酸ツクロリド、4 、4’−ビフェニルソカルボ
ン酸ツクロリド、ビス(p−クロルカルボニルフェニル
)エーテル、ビス(p−クロルカルボニルフェニル)ス
ルホン、ビス(p−10ルカルボニルフエニル)スルフ
ィド、ビス(p−クロルカルボニルフェニル)ケトン、
2.2−ビス(p−クロルカルボニルフェニル)グロノ
4ン及ヒビス(p−クロルカルボニルフェニル)エチレ
ン等’l!r挙ケることができ、これらから成る群より
選択された1種もしくは2flli以上のものである。
本発明の重縮合反応は、溶融重合法、界面重合法又は溶
液重合法のいずれの方法によっても行なうことが可能で
あるが、好ましくは溶液重合法が用いられる。
液重合法のいずれの方法によっても行なうことが可能で
あるが、好ましくは溶液重合法が用いられる。
本発明で使用される反応原料の配合割合は、前記式[1
)又は〔I′〕で示される化合物に対し前記式(II)
で示される化合物が0.80〜1.20であり、更に好
ましくは0.95〜1.05である。この時の反応条件
は窒素等の不活性ガス雰囲気中、攪拌下、−80〜30
0℃の温度範囲で、好ましくは一20〜100℃の温度
範囲で、’0.5〜5時間反応させることが好ましい。
)又は〔I′〕で示される化合物に対し前記式(II)
で示される化合物が0.80〜1.20であり、更に好
ましくは0.95〜1.05である。この時の反応条件
は窒素等の不活性ガス雰囲気中、攪拌下、−80〜30
0℃の温度範囲で、好ましくは一20〜100℃の温度
範囲で、’0.5〜5時間反応させることが好ましい。
本発明において必要に応じて使用される溶媒としては、
反応に対して不活性な有機溶媒が好ましく、この溶媒の
具体例としては、ツメチルホルムアミド、ツメチルアセ
トアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、N、N、N’
、N’−テトラメチル尿素、N−メチル−2−ピロリド
ン又は1,5−ジメチル−2−ピロリドン等が挙げられ
、更にこれラトソメチルスルホキシド又はテトラヒドロ
フラン等の混合溶媒であってもよい。
反応に対して不活性な有機溶媒が好ましく、この溶媒の
具体例としては、ツメチルホルムアミド、ツメチルアセ
トアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、N、N、N’
、N’−テトラメチル尿素、N−メチル−2−ピロリド
ン又は1,5−ジメチル−2−ピロリドン等が挙げられ
、更にこれラトソメチルスルホキシド又はテトラヒドロ
フラン等の混合溶媒であってもよい。
尚、前記した環基性有機溶媒は〔…〕の原料としてレカ
ルボン酸・・ライドを用いた場合重縮合反応の、副生物
を捕捉して反応促進の作用を果たすが、本発明の溶媒と
して、例えばクロロホルム、メチルエチルケトン、テト
ラメチレン等の極性有機溶媒を使用する場合は第3級ア
ミン又は無機アルカリ化合物を併用することが好ましい
。この第3級アミン又は無機アルカリ化合物としては、
例えば、トリエチルアミン、ピリジノ、ツメチルアニリ
ン、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸カルシウム又
は炭酸マグネシウム等が挙げられる。!!た〔■〕の原
料としてソカルボン酸を用いた場合前リン酸エステル、
三塩化す?、亜硫酸ソフェニル、塩化チオニル等の縮合
剤を用いることが好ましい。
ルボン酸・・ライドを用いた場合重縮合反応の、副生物
を捕捉して反応促進の作用を果たすが、本発明の溶媒と
して、例えばクロロホルム、メチルエチルケトン、テト
ラメチレン等の極性有機溶媒を使用する場合は第3級ア
ミン又は無機アルカリ化合物を併用することが好ましい
。この第3級アミン又は無機アルカリ化合物としては、
例えば、トリエチルアミン、ピリジノ、ツメチルアニリ
ン、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸カルシウム又
は炭酸マグネシウム等が挙げられる。!!た〔■〕の原
料としてソカルボン酸を用いた場合前リン酸エステル、
三塩化す?、亜硫酸ソフェニル、塩化チオニル等の縮合
剤を用いることが好ましい。
以下、実施例を掲げ、本発BAを更に詳しく説明する。
実施例1
p−フエニレンーソ(m−アミノベンゾエート〕の合成
窒素ガス導入管、還流冷却器、温度計及びかくはん俸全
備えた四つロフラスコに、窒素ガス雰囲気中でピリジノ
5ΩOtugに、p−ニトロフェノール58.43f(
0,42モル)、イソフタル酸ツクロリド40.60
f (0,2モル)を加え3時間加熱還流する。放冷後
ろ別し、酢酸で洗浄し氷酢酸で再結晶するト、ビス(4
−ニトロフェニル)インフタレート(融点241〜24
2℃)が74゜314(’91%)得うレタ。ビス(4
−ニトロフェニル)イソフタル酸) 40.83 f
(0,1モル)を亜鉛粉532、氷酢酸300Fと混合
し、5時間加熱還流し、冷却、後ろ別し、酢酸で洗浄し
、エチルアルコールで再結晶すると、ビス(4−アミノ
フェニル)イソフタレート(融点177〜178℃)が
25.43 F (73%)得られた。
備えた四つロフラスコに、窒素ガス雰囲気中でピリジノ
5ΩOtugに、p−ニトロフェノール58.43f(
0,42モル)、イソフタル酸ツクロリド40.60
f (0,2モル)を加え3時間加熱還流する。放冷後
ろ別し、酢酸で洗浄し氷酢酸で再結晶するト、ビス(4
−ニトロフェニル)インフタレート(融点241〜24
2℃)が74゜314(’91%)得うレタ。ビス(4
−ニトロフェニル)イソフタル酸) 40.83 f
(0,1モル)を亜鉛粉532、氷酢酸300Fと混合
し、5時間加熱還流し、冷却、後ろ別し、酢酸で洗浄し
、エチルアルコールで再結晶すると、ビス(4−アミノ
フェニル)イソフタレート(融点177〜178℃)が
25.43 F (73%)得られた。
ビス(4−アミノフェニル)イソ7タレートトイソフタ
ル酸ツクロリド−との反応 窒素導入管、還流冷却器、温度計及びかくはん棒を備え
た四つロフラスコに、窒素雰囲気下でテトラメチレンス
ルホン100ゴにビス(4−アミノフェニル)イソフタ
ル酸) 6.97 f (0,02モル)を加え溶解し
た後、トリエチルアミン4.05f (0,04モル)
を加え、氷水で5℃に冷却する。
ル酸ツクロリド−との反応 窒素導入管、還流冷却器、温度計及びかくはん棒を備え
た四つロフラスコに、窒素雰囲気下でテトラメチレンス
ルホン100ゴにビス(4−アミノフェニル)イソフタ
ル酸) 6.97 f (0,02モル)を加え溶解し
た後、トリエチルアミン4.05f (0,04モル)
を加え、氷水で5℃に冷却する。
イソフタル酸ツクロリド4.069 (0,02モル)
を投入し、30分間かくはんの後氷水浴を除き、室温で
1時間かくはんする。大量の水に投入し再沈した後エチ
ルアルコールで洗浄し、真空乾燥すると淡黄色の重合体
が9.39f(j8%)得られた。
を投入し、30分間かくはんの後氷水浴を除き、室温で
1時間かくはんする。大量の水に投入し再沈した後エチ
ルアルコールで洗浄し、真空乾燥すると淡黄色の重合体
が9.39f(j8%)得られた。
この重合体イはツメチルホルムアミド、N−メチル−2
−ピロリドンに可溶で固有粘度(0,5f/dtN−メ
チル−2−゛ピロリドン、30℃以下、同様である)は
2.17、融点は265℃、示差熱NUc分析(5℃/
分、空気中)による5%重量減少時の温度(以下Tdと
する)は391℃であった。
−ピロリドンに可溶で固有粘度(0,5f/dtN−メ
チル−2−゛ピロリドン、30℃以下、同様である)は
2.17、融点は265℃、示差熱NUc分析(5℃/
分、空気中)による5%重量減少時の温度(以下Tdと
する)は391℃であった。
実施例2
実施例1のイソフタル酸ツクロリドのかわりにイソフタ
ル酸ジクロリド2.03 F トチレフタル酸ヅクロリ
ド2.03 Fの混合物を用いた。
ル酸ジクロリド2.03 F トチレフタル酸ヅクロリ
ド2.03 Fの混合物を用いた。
得られた重合体の収率は95.5%、固有粘度は2.1
9、融点は371℃、Td は405℃であった。
9、融点は371℃、Td は405℃であった。
実施例3
実施例1のイソフタル酸ツクロリドのかわりにテレフタ
ル酸ツクロリドを用い、ビス(4−アミノフェニル)ベ
ンゾエート(融点238〜239℃)を56チの収率で
得た。
ル酸ツクロリドを用い、ビス(4−アミノフェニル)ベ
ンゾエート(融点238〜239℃)を56チの収率で
得た。
実施例1のビス(4−アミノフェニル)インフタレート
のかわりにビス(4−アミノフェニル)テレフタレート
を用や、イソフタル酸ツクロリドとの反応を行なった。
のかわりにビス(4−アミノフェニル)テレフタレート
を用や、イソフタル酸ツクロリドとの反応を行なった。
得られた重合体の収率は97チ、固有粘度は1.98、
融点は459℃、Td は375℃であった。
融点は459℃、Td は375℃であった。
実施例4
実施例3のイソフタル酸ツクロリドのかわりにテレフタ
ル酸ツクロリドを用いた。
ル酸ツクロリドを用いた。
得られた重合体の収率は98.5%で、このポリマーは
有機浴剤に不溶であった。融点は500℃以上、Tdは
440℃であった。
有機浴剤に不溶であった。融点は500℃以上、Tdは
440℃であった。
実施例5
p−フエニレンーソ(m−アミノベンゾエート)の合成
窒素ガス導入管、還流冷却器、温度計及びかくはん棒を
備えた四つ目フラスコに、窒素ガスふんい気中でキシレ
ン100mgKm−二トロ安Kf[クロリド37.1
? (0,2モル)を加え溶解した後氷水で冷却し5℃
に保つ。ハイドロキノン22.O5’ (0,2モル)
を2NNaOH水溶液250−にとかした溶液を加え3
0分間かくはんする。次に氷水浴をはずし室温で約3F
I4i間かくはんする。ろ男1」によシp−フェニレン
ージ(m−ニトロベンツ9エート)が72係の収率で得
られた。
備えた四つ目フラスコに、窒素ガスふんい気中でキシレ
ン100mgKm−二トロ安Kf[クロリド37.1
? (0,2モル)を加え溶解した後氷水で冷却し5℃
に保つ。ハイドロキノン22.O5’ (0,2モル)
を2NNaOH水溶液250−にとかした溶液を加え3
0分間かくはんする。次に氷水浴をはずし室温で約3F
I4i間かくはんする。ろ男1」によシp−フェニレン
ージ(m−ニトロベンツ9エート)が72係の収率で得
られた。
p−フ二二しンーソ(m−ニトロベンゾエート)40、
’8 t(0,1モル)をエチルアルコール20rnl
。
’8 t(0,1モル)をエチルアルコール20rnl
。
中で粉砕した後オートクレーブに入れ、ラネーニッケル
10m4に加え、水素圧80 kg/crn2.100
℃で2時間加圧する。反応混合物を取り出し窒素フンい
気下でツメチルホルムアミド200−’に加え、ろ別後
乾燥してp−フエニレンーソ(m−アミノベンゾエート
)(融点288〜289℃)が88係の収率で得られた
。
10m4に加え、水素圧80 kg/crn2.100
℃で2時間加圧する。反応混合物を取り出し窒素フンい
気下でツメチルホルムアミド200−’に加え、ろ別後
乾燥してp−フエニレンーソ(m−アミノベンゾエート
)(融点288〜289℃)が88係の収率で得られた
。
p−フェニレン−J (m−アミノベンゾエート)とイ
ソフタル酸ジクロリド生の反応 窒素槽入管、還流冷却器、温度計及びかくはん棒を備え
た四つ目フラスコに、窒素ふんい気下でテトラメチレン
スルホン100−にp−フェニレンーソ(m−アミノベ
ンゾエート) 6.97 f(0,02モル)を加え溶
解した後、トリエチルアミン4.059 (0,04モ
ル)を加え、氷水で5℃に冷却する。イソフタル酸ツク
ロリド4.06 F(0,02モル)を投入し、30分
間かくはん後氷水浴を除き室温で1時間かくはんする。
ソフタル酸ジクロリド生の反応 窒素槽入管、還流冷却器、温度計及びかくはん棒を備え
た四つ目フラスコに、窒素ふんい気下でテトラメチレン
スルホン100−にp−フェニレンーソ(m−アミノベ
ンゾエート) 6.97 f(0,02モル)を加え溶
解した後、トリエチルアミン4.059 (0,04モ
ル)を加え、氷水で5℃に冷却する。イソフタル酸ツク
ロリド4.06 F(0,02モル)を投入し、30分
間かくはん後氷水浴を除き室温で1時間かくはんする。
大量の水に投入し再沈した後エチルアル−コールで洗浄
し、真空乾燥すると淡黄色の重合体が9.29 F (
97%)得られた。
し、真空乾燥すると淡黄色の重合体が9.29 F (
97%)得られた。
この重合体はジメチルホルムアミド、N−メチル−2−
ピロリドンに可溶で固有粘度は2.03、融点は352
℃、Tdは385℃であった。
ピロリドンに可溶で固有粘度は2.03、融点は352
℃、Tdは385℃であった。
実施例6
実施例5のイソフタル酸ツクロリドのかわりにイソフタ
ル酸ツクロリド2.039とテレフタル酸ツクロリド2
.03 fの混合物を用いた。
ル酸ツクロリド2.039とテレフタル酸ツクロリド2
.03 fの混合物を用いた。
得られた重合体の収率は95チ、固有粘度は2.17、
融点は365℃、Tdは392℃であった。
融点は365℃、Tdは392℃であった。
実施例7
実施例5のm−ニトロ安息香酸クロリドのかわりにp−
ニトロ安息香酸クロリドを用い、p−フエニレンーソ(
p−アミノベンゾニー))(融点310〜311℃)を
92%の収率で得た。
ニトロ安息香酸クロリドを用い、p−フエニレンーソ(
p−アミノベンゾニー))(融点310〜311℃)を
92%の収率で得た。
実施例5のp−フエニレンーソ(m−アミノベンゾエー
ト)のかワリにp−フェニレンーソ(p−アミノベンゾ
エート)ヲ用い、イソフタル酸ツクロリドとの反応を行
なった。
ト)のかワリにp−フェニレンーソ(p−アミノベンゾ
エート)ヲ用い、イソフタル酸ツクロリドとの反応を行
なった。
得られた重合体の収率は96%、固有粘度は1.96、
融点は428℃、Tdは371℃であった。
融点は428℃、Tdは371℃であった。
実施例8
実施例7のイソフタル酸ツクロリドのかわりにテレフタ
ル酸ヅクロリドを用いた。
ル酸ヅクロリドを用いた。
得られた11合体の収率は98%で、この重合体は有機
溶剤に不溶であった。融点は500℃以上、Tdは43
1℃であった。
溶剤に不溶であった。融点は500℃以上、Tdは43
1℃であった。
比較例
実施例7のp−フエニレンーソ(p−アミノベンゾニー
、ト)のかわりに1.2−エチレンーソ(p−アミノベ
ンゾエート)を用いイソフタル酸ジクロリドとの反応を
行なった 。得られた重合体の収率は89%、固有粘度
はO;77、融点は321℃、Tdは233℃で返った
。
、ト)のかわりに1.2−エチレンーソ(p−アミノベ
ンゾエート)を用いイソフタル酸ジクロリドとの反応を
行なった 。得られた重合体の収率は89%、固有粘度
はO;77、融点は321℃、Tdは233℃で返った
。
〔発明の効果〕・一
本発明の製造分法は、規則性のある構造を有する高分子
量の芳香族ポリエステしレアミドを高収率かつ再現性よ
り、シかも容易に製造でき、更には耐熱性にも優れてお
り、その工業的価値は大である。
量の芳香族ポリエステしレアミドを高収率かつ再現性よ
り、シかも容易に製造でき、更には耐熱性にも優れてお
り、その工業的価値は大である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式: %式% (式中、R1−R6は同一であっても異なっていてもよ
く、それぞれ、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、
塩素原子又は臭素原子を表わす)で示される芳香族ソア
ミン系化合物、及び/又は、一般式: (式中、R7〜R1mは同一であっても異なっていても
よく、それぞれ、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基
、塩素原子又は臭素原子を表わす)で示される芳香族ジ
アミン系化合物と、/ 一般式: c式中、Xはハロダン原子又は水酸基を表わし、Arは
ナフチレン基、アントラセニレン基又は式:数1〜5の
アルキレン基、炭素数3〜7のアルキリデン基、カルが
ニル基、スルホン基、酸素原子又はイオヴ原子を表わし
、nは0又は1である)で示される基を表わす〕 で示される芳香族ソカルボン酸又はその誘導体とを重縮
合させることを特徴とする 一般式: %式% (式中、R1−R6及びArは前記した基と同一でおる
) 〜 で示される繰り返し単位、及び/又は、一般式: (式中、R7−R12及びArは前記した基と同一であ
る) で示される繰り返し単位を有する芳香族ポリエステルア
ミドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2278983A JPS59149928A (ja) | 1983-02-16 | 1983-02-16 | 芳香族ポリエステルアミドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2278983A JPS59149928A (ja) | 1983-02-16 | 1983-02-16 | 芳香族ポリエステルアミドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59149928A true JPS59149928A (ja) | 1984-08-28 |
Family
ID=12092443
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2278983A Pending JPS59149928A (ja) | 1983-02-16 | 1983-02-16 | 芳香族ポリエステルアミドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59149928A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180096151A (ko) * | 2017-02-20 | 2018-08-29 | 한국과학기술연구원 | 우수한 투명성, 광투과성 및 내열성을 갖는 디아민 화합물, 이의 중합체, 그 중합체를 포함하는 폴리이미드 필름 |
WO2022239534A1 (ja) * | 2021-05-14 | 2022-11-17 | セイカ株式会社 | メタ型エステル系芳香族ジアミン、およびその製造方法、並びにそれらのメタ型エステル系芳香族ジアミンを原料とするポリイミド |
-
1983
- 1983-02-16 JP JP2278983A patent/JPS59149928A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180096151A (ko) * | 2017-02-20 | 2018-08-29 | 한국과학기술연구원 | 우수한 투명성, 광투과성 및 내열성을 갖는 디아민 화합물, 이의 중합체, 그 중합체를 포함하는 폴리이미드 필름 |
WO2022239534A1 (ja) * | 2021-05-14 | 2022-11-17 | セイカ株式会社 | メタ型エステル系芳香族ジアミン、およびその製造方法、並びにそれらのメタ型エステル系芳香族ジアミンを原料とするポリイミド |
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