JPS59147346A - 酸現像ポリブタジエン系感光性樹脂 - Google Patents
酸現像ポリブタジエン系感光性樹脂Info
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- JPS59147346A JPS59147346A JP1976883A JP1976883A JPS59147346A JP S59147346 A JPS59147346 A JP S59147346A JP 1976883 A JP1976883 A JP 1976883A JP 1976883 A JP1976883 A JP 1976883A JP S59147346 A JPS59147346 A JP S59147346A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性樹脂に関する。さらに詳しくはポリブタ
ツエン系ポリマーを樹脂骨格となし、該分子骨格中に塩
基性アミン基および感光基を導入して得られる希酸水溶
液で現像可能な耐アルカリ性、支持板との密着性に優れ
た高感度感光性樹脂に関するものである。
ツエン系ポリマーを樹脂骨格となし、該分子骨格中に塩
基性アミン基および感光基を導入して得られる希酸水溶
液で現像可能な耐アルカリ性、支持板との密着性に優れ
た高感度感光性樹脂に関するものである。
従来、ポリブタジェン、ポリイソプレン等のコ8ム系の
感光性樹脂として例えば特公昭54−15789に記載
されているものはポリブタノエンポリマーにメルカゾト
化合物を付加し、さらに感光基を尋人せしめた樹脂骨格
からなるものであり、これまでのポリビニルアルコール
系感光性樹脂の暗反応、解像度、耐酸、耐アルカリ性を
改良したものであるが、画像形成の場合、主に有機溶剤
を用いた現像によらなければならず、大気汚染、作業環
境および省質源等の点で問題が残されておった。また本
発明者らは上記の諸問題点を改良した水溶液で現像可能
な感光性樹脂について検討をなし、既に特願昭−155
059に示したようにポリブタノエンポリマーにメルカ
ノト化合物を付加した樹脂骨格にカルボキシル基および
感光基を導入して得うレル希アルカリ水溶液で現像可能
な耐酸性、表面硬化性等に優れた高感度感光性樹脂を得
た。けれどもこのものは耐アルカリ性においては可成り
の性能が得られたものの(i4脂骨格中にカルがキシル
基を有するため、十分に満足するものでなかった。
感光性樹脂として例えば特公昭54−15789に記載
されているものはポリブタノエンポリマーにメルカゾト
化合物を付加し、さらに感光基を尋人せしめた樹脂骨格
からなるものであり、これまでのポリビニルアルコール
系感光性樹脂の暗反応、解像度、耐酸、耐アルカリ性を
改良したものであるが、画像形成の場合、主に有機溶剤
を用いた現像によらなければならず、大気汚染、作業環
境および省質源等の点で問題が残されておった。また本
発明者らは上記の諸問題点を改良した水溶液で現像可能
な感光性樹脂について検討をなし、既に特願昭−155
059に示したようにポリブタノエンポリマーにメルカ
ノト化合物を付加した樹脂骨格にカルボキシル基および
感光基を導入して得うレル希アルカリ水溶液で現像可能
な耐酸性、表面硬化性等に優れた高感度感光性樹脂を得
た。けれどもこのものは耐アルカリ性においては可成り
の性能が得られたものの(i4脂骨格中にカルがキシル
基を有するため、十分に満足するものでなかった。
一方実用上においては水溶液で容易に現像ができ、かつ
耐アルカリ性に優れた高感度感光性樹脂が渇望されてお
る。
耐アルカリ性に優れた高感度感光性樹脂が渇望されてお
る。
本発明者らは以上の如き現状に鑑みて、画像形成の際、
水溶液で容易に現像ができ、かつ耐アルカリ性に優れた
高感度を有する感光性樹脂を得ることを目的に鋭意検討
を重ねた結果、ポリブタジェン樹脂骨格中に塩基性アミ
ン基を導入し、さらに感光基を導入せしめて得られる感
光性樹脂が、希酸水溶液で容易に現像ができて耐アルカ
リ性、支持板との密着性に優れた高感度感光性樹脂が得
られ、しかも塩基性アミノ基を導入することによって希
酸水溶液で容易に現像可能にすることは勿論であるがチ
オキサントンや2−メチルアントラキノン等の水素を引
抜きできるような開始剤を使用する場合は促進剤の作用
を有するため、別の促進剤を添加しなくても高感度のも
のを得ることができ、また空気中露光の場合、酸素の阻
害作用は著しく小さくなること、金属、Bib2、Si
支持板等の表面との密着性が向上することを屋い出し本
発明を完成するに至った。
水溶液で容易に現像ができ、かつ耐アルカリ性に優れた
高感度を有する感光性樹脂を得ることを目的に鋭意検討
を重ねた結果、ポリブタジェン樹脂骨格中に塩基性アミ
ン基を導入し、さらに感光基を導入せしめて得られる感
光性樹脂が、希酸水溶液で容易に現像ができて耐アルカ
リ性、支持板との密着性に優れた高感度感光性樹脂が得
られ、しかも塩基性アミノ基を導入することによって希
酸水溶液で容易に現像可能にすることは勿論であるがチ
オキサントンや2−メチルアントラキノン等の水素を引
抜きできるような開始剤を使用する場合は促進剤の作用
を有するため、別の促進剤を添加しなくても高感度のも
のを得ることができ、また空気中露光の場合、酸素の阻
害作用は著しく小さくなること、金属、Bib2、Si
支持板等の表面との密着性が向上することを屋い出し本
発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
1、 ポリブタノエン系樹脂を骨格となし、該分子骨格
中に塩基性アミン基を有し、かつ感光基を含有せしめて
なることを特徴とするポリツタジエン系感光性樹脂 2、 ポリブタノエン系樹脂が数平均分子量200〜2
0.000であって重合体鎖の40%以上がブタジェン
単位からなる特許請求の範囲第1項記載の感光性樹脂 3、 ポリブタノエン系樹脂が分子内に少なくとも1.
5個以上の工、%キシ基を有する特許請求の範囲第1項
記載の感光性樹脂 4・ ポリブタツエン系樹脂中に含有するエポキシ基に
塩基性アミン化合物を反応せしめ、得られた反応化合物
にさらに感光基を有し、かつ反応性官能基を有する化合
物を反応せしめてなることを特徴とするポリブタジェン
系感光性樹脂の製造方法 5.7式リプタツエン系樹脂を骨格となし、該分子骨格
中に塩基性アミン基を有し、かつ感光基を含有せしめて
なるポリブタジェン系感光性樹脂と光開始剤および/−
!たけ添加剤からなる感光性樹脂組成物に関するもので
ある。
中に塩基性アミン基を有し、かつ感光基を含有せしめて
なることを特徴とするポリツタジエン系感光性樹脂 2、 ポリブタノエン系樹脂が数平均分子量200〜2
0.000であって重合体鎖の40%以上がブタジェン
単位からなる特許請求の範囲第1項記載の感光性樹脂 3、 ポリブタノエン系樹脂が分子内に少なくとも1.
5個以上の工、%キシ基を有する特許請求の範囲第1項
記載の感光性樹脂 4・ ポリブタツエン系樹脂中に含有するエポキシ基に
塩基性アミン化合物を反応せしめ、得られた反応化合物
にさらに感光基を有し、かつ反応性官能基を有する化合
物を反応せしめてなることを特徴とするポリブタジェン
系感光性樹脂の製造方法 5.7式リプタツエン系樹脂を骨格となし、該分子骨格
中に塩基性アミン基を有し、かつ感光基を含有せしめて
なるポリブタジェン系感光性樹脂と光開始剤および/−
!たけ添加剤からなる感光性樹脂組成物に関するもので
ある。
以下本発明について詳しく説明する。
本発明で用いられる感光性樹脂の骨格をなす数平均分子
量が200〜20,000であって重合体鎖の40チ以
上がシタジエン単位からなるポリブタノエン樹脂はラジ
カル重合、カチオン重合、炭化水素溶媒中でのナトリウ
ム、リチウム触媒による重合、有機リチウムを使用する
正合、配位アニオン置台、またはテトラヒドロフランの
如きルイス塩基と金属アルカリとからなる触媒による一
γニオ/1ノビング重合等により製造されるが、微細な
梢度の旨い画像を得る為の材料の均質性が必要な感光性
樹脂という性質を考慮して、アニオンリビング嵐aによ
り得られる分子証分布の巾が狭いものが好ましいが、そ
のミクロ構造においては特に制限さiLない。
量が200〜20,000であって重合体鎖の40チ以
上がシタジエン単位からなるポリブタノエン樹脂はラジ
カル重合、カチオン重合、炭化水素溶媒中でのナトリウ
ム、リチウム触媒による重合、有機リチウムを使用する
正合、配位アニオン置台、またはテトラヒドロフランの
如きルイス塩基と金属アルカリとからなる触媒による一
γニオ/1ノビング重合等により製造されるが、微細な
梢度の旨い画像を得る為の材料の均質性が必要な感光性
樹脂という性質を考慮して、アニオンリビング嵐aによ
り得られる分子証分布の巾が狭いものが好ましいが、そ
のミクロ構造においては特に制限さiLない。
また、液状ポリブタノエン樹脂として、ブタノエンのホ
モポリマー、または全単量体単位に対してシタジエン単
位を70%以上を有するブタジェンとアクリロニトリル
、スチレン、アクリル酸エステル、メタクリル眩ニスデ
ル等とのコア2/rJ?+)マーが用いられる3、7パ
リブタジエン系樹脂の該平均分子量を200〜20,0
00としたのは、分子量が200以下ではポリブタノエ
/としての特徴の一つである耐酸性が低下するためであ
りまた20,000以上では粘IWが篩いために、反応
、作業時に於ける取扱いが困難となるためである。また
さらに重合体鎖の40φ以上がブタノエン単位で構成さ
れていることは、次の樹脂製造段階でエポキシ化させる
ための徂要な因子の一つである。
モポリマー、または全単量体単位に対してシタジエン単
位を70%以上を有するブタジェンとアクリロニトリル
、スチレン、アクリル酸エステル、メタクリル眩ニスデ
ル等とのコア2/rJ?+)マーが用いられる3、7パ
リブタジエン系樹脂の該平均分子量を200〜20,0
00としたのは、分子量が200以下ではポリブタノエ
/としての特徴の一つである耐酸性が低下するためであ
りまた20,000以上では粘IWが篩いために、反応
、作業時に於ける取扱いが困難となるためである。また
さらに重合体鎖の40φ以上がブタノエン単位で構成さ
れていることは、次の樹脂製造段階でエポキシ化させる
ための徂要な因子の一つである。
さらに本発明で用いられる感光性樹脂を製造するにあた
って中間原料となるエポキシ化合物を得る方法を以下に
記す。共役ジエン・ホモポリマーまたはコポリマーの重
合体鎖中の二重結合の一部ないし全部にオキシラン酸素
を付加させることは上記ポリマーを公知のエポキシ化剤
で処理することによって行なわれる。エポキシ化剤とし
ては過酢酸、過ゾロピオン酸、過ラウリン酸、過安息香
酸、フタルモノ過酸のような有機過酸類および第3級ブ
チルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシドの
ような有機ヒドロペルオキシドMy%含まれる。エポキ
シ化反応は上記ポリマーまたは上記ポリマーをn−へブ
タン、n−ヘキサン、!・ルエン、クロロホルムのよう
なエポキシ他剤色反応しない溶剤に溶解した溶液中にあ
らかじめ調整した上記エポキシ化剤を添加するか、また
は上■己エポキシ化剤を上記溶媒に溶解した溶液中に上
記ポリマーまたはその溶液を添加することによって行な
われる。エポキシ化反応はまた硫酸、強敵型イオン交換
樹脂のような酸性触媒の存在下にギ酸、酢酸のような/
liT機酸および要すれば上記溶媒に上記ポリマーを溶
解した溶液中に過酸化水素を離別することによシ、反応
系中でM機過ばを生成させて行なうこともでき、また上
記ポリマー溶液にベンズアルデヒドを加え紫外線照射下
に散水を通人することにより反応系中で過安息香酸を生
成させて行なうこともできる。エポキシ化剤の量はエポ
キシ化剤の種類およびエポキシ化反応条件によって異な
るが、一般に希望するオキシラン戚系含曽とするに賛す
る計算値よりも過剰に用いる必要があることが多い。ま
たエポキシ化の反応温度は使用するエポキシ化剤、触媒
の種類によって異なるが、有機過酸類にあっては一般に
約0〜95℃、好tLllo〜70℃、有機ヒドロペル
オキシド類にあっでは約70〜150℃が用いられ、9
0〜140℃が好ましい。反応に要する時間は反応温度
および希望するオキシラン酸素含址によυ異なるが、通
常数時間で完結する。エポキシ化反応終了後、水洗、−
過、減圧蒸留により触媒、溶媒および低沸点物質を除去
すれば目的とするエポキシ化合物が得ら光基の導入蓋を
左右し、多ければ多い種水溶液現像性、感度の点におい
て有利であるが、1分中にエポキシ基の数が15個以上
だとエポキシ化反応の際に反応が進みにくく長時間費し
、同時に副反応が起り易くまた得られる樹脂は粘度が旨
く取り扱いが困難で作業性が低下する。エポキシ基の数
が1.5個以内だと塩基性アミノ基の導入量が少なく希
酸水浴液での現像性が低下し、また同様に感光基の導入
量も少なくなり、架橋密度が低く硬化性が十分でないた
め、解像度、耐溶剤性、耐薬品性の点で満足するものが
得られない。従ってエポキシ基の含有蓋は1分子中に1
,5〜15個程度が好ましい。
って中間原料となるエポキシ化合物を得る方法を以下に
記す。共役ジエン・ホモポリマーまたはコポリマーの重
合体鎖中の二重結合の一部ないし全部にオキシラン酸素
を付加させることは上記ポリマーを公知のエポキシ化剤
で処理することによって行なわれる。エポキシ化剤とし
ては過酢酸、過ゾロピオン酸、過ラウリン酸、過安息香
酸、フタルモノ過酸のような有機過酸類および第3級ブ
チルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシドの
ような有機ヒドロペルオキシドMy%含まれる。エポキ
シ化反応は上記ポリマーまたは上記ポリマーをn−へブ
タン、n−ヘキサン、!・ルエン、クロロホルムのよう
なエポキシ他剤色反応しない溶剤に溶解した溶液中にあ
らかじめ調整した上記エポキシ化剤を添加するか、また
は上■己エポキシ化剤を上記溶媒に溶解した溶液中に上
記ポリマーまたはその溶液を添加することによって行な
われる。エポキシ化反応はまた硫酸、強敵型イオン交換
樹脂のような酸性触媒の存在下にギ酸、酢酸のような/
liT機酸および要すれば上記溶媒に上記ポリマーを溶
解した溶液中に過酸化水素を離別することによシ、反応
系中でM機過ばを生成させて行なうこともでき、また上
記ポリマー溶液にベンズアルデヒドを加え紫外線照射下
に散水を通人することにより反応系中で過安息香酸を生
成させて行なうこともできる。エポキシ化剤の量はエポ
キシ化剤の種類およびエポキシ化反応条件によって異な
るが、一般に希望するオキシラン戚系含曽とするに賛す
る計算値よりも過剰に用いる必要があることが多い。ま
たエポキシ化の反応温度は使用するエポキシ化剤、触媒
の種類によって異なるが、有機過酸類にあっては一般に
約0〜95℃、好tLllo〜70℃、有機ヒドロペル
オキシド類にあっでは約70〜150℃が用いられ、9
0〜140℃が好ましい。反応に要する時間は反応温度
および希望するオキシラン酸素含址によυ異なるが、通
常数時間で完結する。エポキシ化反応終了後、水洗、−
過、減圧蒸留により触媒、溶媒および低沸点物質を除去
すれば目的とするエポキシ化合物が得ら光基の導入蓋を
左右し、多ければ多い種水溶液現像性、感度の点におい
て有利であるが、1分中にエポキシ基の数が15個以上
だとエポキシ化反応の際に反応が進みにくく長時間費し
、同時に副反応が起り易くまた得られる樹脂は粘度が旨
く取り扱いが困難で作業性が低下する。エポキシ基の数
が1.5個以内だと塩基性アミノ基の導入量が少なく希
酸水浴液での現像性が低下し、また同様に感光基の導入
量も少なくなり、架橋密度が低く硬化性が十分でないた
め、解像度、耐溶剤性、耐薬品性の点で満足するものが
得られない。従ってエポキシ基の含有蓋は1分子中に1
,5〜15個程度が好ましい。
また本発明で用いられる中間体原料であるエポキシ化合
物として末端にカルボキシル基を有するポリブタジェン
樹脂と公知のエポキシ樹脂とをエステル化反応させて得
られるエポキシ基を自するポリブタジェン変性エポキシ
樹脂も1史用することができ、例えば特開昭55−13
7125に自己載される如きものである。すなわち、分
子中にカルボキシル基を有するポリブタジェンホモポリ
マーおよび/−またはコポリマーとエポキシ樹脂とを反
応させることによって得られるもの。
物として末端にカルボキシル基を有するポリブタジェン
樹脂と公知のエポキシ樹脂とをエステル化反応させて得
られるエポキシ基を自するポリブタジェン変性エポキシ
樹脂も1史用することができ、例えば特開昭55−13
7125に自己載される如きものである。すなわち、分
子中にカルボキシル基を有するポリブタジェンホモポリ
マーおよび/−またはコポリマーとエポキシ樹脂とを反
応させることによって得られるもの。
またさらにポリブタツエン変性エフj?キシ樹脂として
例えば末端に水酸基を有する。191)ブタノエンホモ
4?リマーおよびコポリマーの日本曲達の商品名Nis
日o PB−G −1000,2000,3000、ア
ーコ社の商品名Po1y −BD −R−45、フイリ
ッグ社の商品名Butarez HT 、グツドリッチ
社の商品名Hycar−HTB。
例えば末端に水酸基を有する。191)ブタノエンホモ
4?リマーおよびコポリマーの日本曲達の商品名Nis
日o PB−G −1000,2000,3000、ア
ーコ社の商品名Po1y −BD −R−45、フイリ
ッグ社の商品名Butarez HT 、グツドリッチ
社の商品名Hycar−HTB。
ゼネラルタイヤ社の商品名TelOgen HT等にノ
イソシアネート化合物であるトリレンジイソシアネート
、ナフチレンジイソシアネート、フェニレンノイソシア
ネート、ソロビレンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレン
ジインシアネート、テトラメチレンツイソ7ア不−ト、
リノンソインシアネート、キノリレンツインシアネート
、イソホロンジインシアイード等を用いてポリゲタジエ
ンホモポリ? −4L Ire コ−% se サマー
1モルに対して2モ# 反応セしめ、さらに得られたウ
レタンプレポリマーの末端インシアネート基と分子中に
水酸基を有するエポキシ樹脂を反応せしめて得られるポ
リプタソエノウレタン変性エボギシ樹脂も使用すること
ができる。
イソシアネート化合物であるトリレンジイソシアネート
、ナフチレンジイソシアネート、フェニレンノイソシア
ネート、ソロビレンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレン
ジインシアネート、テトラメチレンツイソ7ア不−ト、
リノンソインシアネート、キノリレンツインシアネート
、イソホロンジインシアイード等を用いてポリゲタジエ
ンホモポリ? −4L Ire コ−% se サマー
1モルに対して2モ# 反応セしめ、さらに得られたウ
レタンプレポリマーの末端インシアネート基と分子中に
水酸基を有するエポキシ樹脂を反応せしめて得られるポ
リプタソエノウレタン変性エボギシ樹脂も使用すること
ができる。
ここで言う分子中に水酸基を持っエフIヒキシ樹脂とは
下記一般式(1) %式% 族環が水素添加されたものを示し、R6、R7は水素原
子、またはメチル基を示し、nは1以上の数を示す。)
で示されたエポキシ樹脂で1分子当り1以上の水酸基を
有するエポキシ樹脂である。たyし1分子当り水酸基が
4以上になるときは1分子中に水酸基の少ないエポキシ
樹脂あるいはエポキシ基を有する反応性希釈剤を加え、
水酸基濃度を低くすることによりグル化を防ぐのが好ま
しい。
下記一般式(1) %式% 族環が水素添加されたものを示し、R6、R7は水素原
子、またはメチル基を示し、nは1以上の数を示す。)
で示されたエポキシ樹脂で1分子当り1以上の水酸基を
有するエポキシ樹脂である。たyし1分子当り水酸基が
4以上になるときは1分子中に水酸基の少ないエポキシ
樹脂あるいはエポキシ基を有する反応性希釈剤を加え、
水酸基濃度を低くすることによりグル化を防ぐのが好ま
しい。
これらエポキシ樹脂の中で分子中に水酸基を持つビスフ
ェノールAのジグリシジルエーテル型の樹脂または水氷
添加ビスフェノールAのジグリシジルエーテル型の樹脂
を用いるのが特に好ましい。
ェノールAのジグリシジルエーテル型の樹脂または水氷
添加ビスフェノールAのジグリシジルエーテル型の樹脂
を用いるのが特に好ましい。
本発明においてはかかるエポキシ化合物であるエポキシ
化ポリブタジェンまたはポリブタジェン変性エポキシ樹
脂に塩基性アミン化合物を反応させてエポキシ−アミン
付加物を得るが、その際、用いられる塩基性アミン化合
物としては主として第一級または第二級のアミノ基を有
する化合物であり、その例として、例えばa)プロピル
アミン、ブチルアミン、ジエチルアミン、ソプロビルア
ミンのようなモノおよびジアルキルアミン、b)エタノ
ールアミン、プロパノールアミン、ジェタノールアミン
、ゾプロノやンノールアミンのような七ノーおよびノア
ルカノールアミン、C)シクロヘキシルアミン、ピロリ
ジン、モルホリンのような脂環式モノアミン、d)エチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ノエチレント
リアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンl
ンタミン、グロビレンジアミン、ジグロビレントリアミ
ン、ブチレンジアミンのようなポリアルキレンポリアミ
ン、e)N−アミノエタノールアミン、ジエチルエチレ
ンジアミン、ジエチルアミノプロビルアミン、ヒドロキ
シエチルアミノゾロピルアミン、ピペラジン、N−メチ
ルビペラジン、N−アミノエチルピペラジンのようなポ
リアミンなどが挙げられる。
化ポリブタジェンまたはポリブタジェン変性エポキシ樹
脂に塩基性アミン化合物を反応させてエポキシ−アミン
付加物を得るが、その際、用いられる塩基性アミン化合
物としては主として第一級または第二級のアミノ基を有
する化合物であり、その例として、例えばa)プロピル
アミン、ブチルアミン、ジエチルアミン、ソプロビルア
ミンのようなモノおよびジアルキルアミン、b)エタノ
ールアミン、プロパノールアミン、ジェタノールアミン
、ゾプロノやンノールアミンのような七ノーおよびノア
ルカノールアミン、C)シクロヘキシルアミン、ピロリ
ジン、モルホリンのような脂環式モノアミン、d)エチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ノエチレント
リアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンl
ンタミン、グロビレンジアミン、ジグロビレントリアミ
ン、ブチレンジアミンのようなポリアルキレンポリアミ
ン、e)N−アミノエタノールアミン、ジエチルエチレ
ンジアミン、ジエチルアミノプロビルアミン、ヒドロキ
シエチルアミノゾロピルアミン、ピペラジン、N−メチ
ルビペラジン、N−アミノエチルピペラジンのようなポ
リアミンなどが挙げられる。
また芳香族環のもつアミン化合物等と混合しベンゼン核
を樹脂骨格中に導入することにより樹脂のTf を上げ
ることもできる。その例としてはアニリン、N−メチル
アニリン、トルイジノ、ベンジルアミン、m−キシリレ
ンジアミン、メタ7エ二レンジアミン、4−4’−ノア
ミノジフェニルメタン等の芳香族アミンが挙げられる。
を樹脂骨格中に導入することにより樹脂のTf を上げ
ることもできる。その例としてはアニリン、N−メチル
アニリン、トルイジノ、ベンジルアミン、m−キシリレ
ンジアミン、メタ7エ二レンジアミン、4−4’−ノア
ミノジフェニルメタン等の芳香族アミンが挙げられる。
上記のアミン類のうち、反応性、水溶液の現像性、樹脂
性能およびコストの点からエタノールアミン、プロパツ
ールアミン、ジェタノールアミン、ノブロバノールアミ
ン、ジエチルアミノゾロビルアミン等が好ましい。
性能およびコストの点からエタノールアミン、プロパツ
ールアミン、ジェタノールアミン、ノブロバノールアミ
ン、ジエチルアミノゾロビルアミン等が好ましい。
エポキシ化合物と塩基性アミン化合物との反応は窒素等
の不活性ガス雰囲気下でもって行なわれ、反応温度は使
用する塩基性アミン化合物の種類によって異なるが、常
温で混合しただけでも開始するが、反応を完了させるた
めに最終的に犯〜170℃、好ましくは70〜150℃
に加熱するのがよい。
の不活性ガス雰囲気下でもって行なわれ、反応温度は使
用する塩基性アミン化合物の種類によって異なるが、常
温で混合しただけでも開始するが、反応を完了させるた
めに最終的に犯〜170℃、好ましくは70〜150℃
に加熱するのがよい。
反応温度が高ければ反応が速く進むけれども、得られる
エポギシーアミン付加物は着色し易い。″またエポキシ
化合物と反応させる塩基性アミン化合物の址はエポキシ
基1当址当りアミノ基1.0〜1.2当址で行い、1分
子中にエポキシ基が多数台まれる場合はエポキシ基を残
存させても良い。
エポギシーアミン付加物は着色し易い。″またエポキシ
化合物と反応させる塩基性アミン化合物の址はエポキシ
基1当址当りアミノ基1.0〜1.2当址で行い、1分
子中にエポキシ基が多数台まれる場合はエポキシ基を残
存させても良い。
なお、樹脂骨格中に含有されるエポキシ基の数が1.5
(II!i1〜3個程式の場合は水溶液現像性、感朋の
関係上すべてのエポキシ基を塩基性アミン化合物と反応
させるのが望ましい。
(II!i1〜3個程式の場合は水溶液現像性、感朋の
関係上すべてのエポキシ基を塩基性アミン化合物と反応
させるのが望ましい。
本発明において感光基を導入する方法は、第一に前6ピ
の如くエポキシ化合物と塩基性アミン化合物を反応させ
、エポキシ−アミン付加物を得る段階で導入された水酸
基または副生されろ水酸基を利用する方法である。
の如くエポキシ化合物と塩基性アミン化合物を反応させ
、エポキシ−アミン付加物を得る段階で導入された水酸
基または副生されろ水酸基を利用する方法である。
エポキシ−アミン付加物の水酸基に感光基を導入する反
応は、水酸基にカルボニルクロライド基、塩化スルホニ
ル基、スルホン酸基、アルデヒド基、カルがキシル基、
酸無水物基、或はインシアネート基を有し、かつアクリ
ロイル基、アジド基、シンナミリデン酢酸、シアノシン
ナミリデン基、シンナモイル基を有する化合物を反応せ
しめ、水酸基とカルボニルクロライド基、塩化スルホニ
ル基、スルホン酸、アルデヒド基、カルボキシル基或は
酸無水物基、とのエステル化反応または水酸基とインシ
アネート基とのウレタン化反応により結合させて導入す
る。
応は、水酸基にカルボニルクロライド基、塩化スルホニ
ル基、スルホン酸基、アルデヒド基、カルがキシル基、
酸無水物基、或はインシアネート基を有し、かつアクリ
ロイル基、アジド基、シンナミリデン酢酸、シアノシン
ナミリデン基、シンナモイル基を有する化合物を反応せ
しめ、水酸基とカルボニルクロライド基、塩化スルホニ
ル基、スルホン酸、アルデヒド基、カルボキシル基或は
酸無水物基、とのエステル化反応または水酸基とインシ
アネート基とのウレタン化反応により結合させて導入す
る。
これらの反応は一般方法で行われ、そのうちエステル化
反応が最も良く利用される。このエステル化反応の際、
反応を円滑に進めるために溶媒が用いられ、例えばそれ
自身で触媒作用をも備えているピリジンの他、アセトン
、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン
、ツメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ノオ
キサン、テトラヒドロフラン、セロソルブアセテート、
N−メチルピロリドン、ハロダン化炭化水素等を単独で
または併用して用いる事が出来る。溶媒使用社は樹脂に
対し、2〜15倍堵で用いられる。殊K(117脂の溶
解力を考慮した場合、ジメチルホルムアミドの1史用が
41効であって他の溶媒と併用して用いるのが望ましく
、通常使用する全溶媒量の加〜100止址%が用いられ
る。
反応が最も良く利用される。このエステル化反応の際、
反応を円滑に進めるために溶媒が用いられ、例えばそれ
自身で触媒作用をも備えているピリジンの他、アセトン
、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン
、ツメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ノオ
キサン、テトラヒドロフラン、セロソルブアセテート、
N−メチルピロリドン、ハロダン化炭化水素等を単独で
または併用して用いる事が出来る。溶媒使用社は樹脂に
対し、2〜15倍堵で用いられる。殊K(117脂の溶
解力を考慮した場合、ジメチルホルムアミドの1史用が
41効であって他の溶媒と併用して用いるのが望ましく
、通常使用する全溶媒量の加〜100止址%が用いられ
る。
エステル化反応触媒としてビリジ/、ピコリン、ルチゾ
ン、トリエチルアミン、N−Nツメチルペンデルアミン
等の第三級アミンを用いることができる。反応温反、時
間は使用する感光基を有する化合物の反応性官能基によ
って異なるが5〜150℃で2〜15時間である。
ン、トリエチルアミン、N−Nツメチルペンデルアミン
等の第三級アミンを用いることができる。反応温反、時
間は使用する感光基を有する化合物の反応性官能基によ
って異なるが5〜150℃で2〜15時間である。
−またウレタン化反応による場合は、前記エステル化反
応で用いられる中でインシアネート基と非反応性の溶媒
が使用され、30〜80℃で1〜6時間行われる。
応で用いられる中でインシアネート基と非反応性の溶媒
が使用され、30〜80℃で1〜6時間行われる。
エポキシ−アミン付加物と感光基を有する化合物との反
応割合は、エポキシ−アミン付加物の水酸基を感光基を
有する化合物の反応性官能基で必ずしも全部消費する必
要はなく、一部水酸基を残存させても良い。また反応の
際、ハイドロキノン系の車台防止剤が必要に応じて添加
される。通常添加量は樹脂分に対して0.01〜5重址
%である。
応割合は、エポキシ−アミン付加物の水酸基を感光基を
有する化合物の反応性官能基で必ずしも全部消費する必
要はなく、一部水酸基を残存させても良い。また反応の
際、ハイドロキノン系の車台防止剤が必要に応じて添加
される。通常添加量は樹脂分に対して0.01〜5重址
%である。
なお前記の感光基を導入する反応に用いられるシンナモ
イル基を有する化合物の具体例としては、ケイ皮酸、ケ
イ皮酸クロライド、P−フェニレンノアクリル酸クロラ
イド等。シンナミリr7基を有する化合物としてはシン
ナミリデン酢酸、シンナミリデン酢酸クロライド等。シ
アノシンナミリデン基を有する化合物とt〜では、シア
ノシンナミリデン酢酸クロライド等。アクリロイル基を
有する化合物としてはアクリル酸、アクリル酸クロライ
ド、メタアクリル酸グリシツルエステル等であり、また
アクリロイル基を有する化合物として、アクリロイル基
、またはメタアクリロイル基を含有の部分ブロックイソ
シアネート化合物、すなわちポリイソシアネート化合物
の遊離イソシアネート基を部分的に水酸基を含有するア
クリレートまたはメターγクリレ〜トでブロックしたも
のも用いられる。
イル基を有する化合物の具体例としては、ケイ皮酸、ケ
イ皮酸クロライド、P−フェニレンノアクリル酸クロラ
イド等。シンナミリr7基を有する化合物としてはシン
ナミリデン酢酸、シンナミリデン酢酸クロライド等。シ
アノシンナミリデン基を有する化合物とt〜では、シア
ノシンナミリデン酢酸クロライド等。アクリロイル基を
有する化合物としてはアクリル酸、アクリル酸クロライ
ド、メタアクリル酸グリシツルエステル等であり、また
アクリロイル基を有する化合物として、アクリロイル基
、またはメタアクリロイル基を含有の部分ブロックイソ
シアネート化合物、すなわちポリイソシアネート化合物
の遊離イソシアネート基を部分的に水酸基を含有するア
クリレートまたはメターγクリレ〜トでブロックしたも
のも用いられる。
アット゛基を有する化合物としては、アジド安息*m
X P−アソドペンゾイルクロライド、3−アジド″′
無水7タル酸、m−アットベンツアルデヒドホルミル−
1−ナフチルアット、アジドスルホニルベンゾイルクロ
ライド、アジドジフェニルアミンスルホノtν、P−イ
ソシアネートベンゼンスルホニルアノド、2〜クロロ−
5−アットスルホニルフェニルインシアネート等が挙げ
られる。
X P−アソドペンゾイルクロライド、3−アジド″′
無水7タル酸、m−アットベンツアルデヒドホルミル−
1−ナフチルアット、アジドスルホニルベンゾイルクロ
ライド、アジドジフェニルアミンスルホノtν、P−イ
ソシアネートベンゼンスルホニルアノド、2〜クロロ−
5−アットスルホニルフェニルインシアネート等が挙げ
られる。
感光基を尋人する方法として、第二に前記の如く、エポ
キシ化合物と塩基性アミン化合物を反応させエボキンー
アミン付加物を得る場合、第一級アミノ基を有する塩基
性アミン化合物を使用した際、工rle+シーTミン付
加物中に第二級アミン基が残存するためこの第二級アミ
ノ基を利用して感光基を導入する方法である。
キシ化合物と塩基性アミン化合物を反応させエボキンー
アミン付加物を得る場合、第一級アミノ基を有する塩基
性アミン化合物を使用した際、工rle+シーTミン付
加物中に第二級アミン基が残存するためこの第二級アミ
ノ基を利用して感光基を導入する方法である。
エフJセキシーアミン付加物の第二級アミン基に感光基
を導入する方法は、第二級アミン基に不飽オ1基を有す
るグリシツルエステル、グリシツルニーデル類を用いて
第二級アミン基とダリシノル基との反応によって導入す
ることができる。
を導入する方法は、第二級アミン基に不飽オ1基を有す
るグリシツルエステル、グリシツルニーデル類を用いて
第二級アミン基とダリシノル基との反応によって導入す
ることができる。
ここで言うグリシジルエステルとして例えばアクリル酸
グリシゾルエステル、メタアクリル酸グリシジルエステ
ル、ケイ皮板グリシツルエステル、ビニルグリシジルエ
ーテル、アリルグリシツルニーチル吟が挙けられる。
グリシゾルエステル、メタアクリル酸グリシジルエステ
ル、ケイ皮板グリシツルエステル、ビニルグリシジルエ
ーテル、アリルグリシツルニーチル吟が挙けられる。
反応は前記の第一方法と同様の浴媒類を用いて40〜8
0℃で1〜4時間行われる。
0℃で1〜4時間行われる。
エポキシ−アミン付加物と不飽本[1基を1するグリシ
ツル化合物との反応割合は、エフぎキシー了ミン付加物
中の第ニアミノ基とグリシツル基ヲ等モルで行うのが好
ましい。
ツル化合物との反応割合は、エフぎキシー了ミン付加物
中の第ニアミノ基とグリシツル基ヲ等モルで行うのが好
ましい。
前記の如く感光基を有する化合物としては種々あるが、
中でもアクリロイル基を有する化合物の使用が膜の表面
粘着性、111.1薬品性感度の点で有利である。
中でもアクリロイル基を有する化合物の使用が膜の表面
粘着性、111.1薬品性感度の点で有利である。
以上、これらの諸反応によって導入されるアミン基およ
び感光基の導入量は、4?リプタジエン系樹脂骨格とす
るエポキシ化合物中に含有するエポキシ基1当量に対し
、0.2〜1描曽のアミン基を導入し、さらに導入なら
びに副生じた水酸基または第ニアミノ基に対して20〜
100%に感光基を有するように導入される。アミノ基
が0.2当量以下であると、希薄酸水溶液での現像性が
低下する。
び感光基の導入量は、4?リプタジエン系樹脂骨格とす
るエポキシ化合物中に含有するエポキシ基1当量に対し
、0.2〜1描曽のアミン基を導入し、さらに導入なら
びに副生じた水酸基または第ニアミノ基に対して20〜
100%に感光基を有するように導入される。アミノ基
が0.2当量以下であると、希薄酸水溶液での現像性が
低下する。
またアミン基が多い程、希薄酸水溶液での現像性、耐ア
ルカリ性、支持板との密着性が良好となる。
ルカリ性、支持板との密着性が良好となる。
感光基の尋人址が20チ以下であると感度、硬化性が低
下し、感光基が多くなるにつれ感度、硬化性、耐薬品性
、耐溶剤性が良好となる。従ってアミン基および感光基
の導入量は両者の関係を考慮本発明で得られた感光性樹
脂の特徴は、希薄酸水溶液で現像が容易にでき、模れた
耐アルカリ性、支持板との@着性を有し、かつ筒感度の
解像力を有している。
下し、感光基が多くなるにつれ感度、硬化性、耐薬品性
、耐溶剤性が良好となる。従ってアミン基および感光基
の導入量は両者の関係を考慮本発明で得られた感光性樹
脂の特徴は、希薄酸水溶液で現像が容易にでき、模れた
耐アルカリ性、支持板との@着性を有し、かつ筒感度の
解像力を有している。
この理由は分子址分布の巾の狭いポリブタジェン系樹脂
を骨格に有するエポキシ基を利用してアミノ基を尋人し
たこと、またさらに多量の感光基を導入したことにある
。
を骨格に有するエポキシ基を利用してアミノ基を尋人し
たこと、またさらに多量の感光基を導入したことにある
。
本発明の感光性樹脂はそれ自身では窓開が低い場合があ
り、通常使用に当っては光開始剤が加えられ、この光開
始剤としては、例えばベンゾイン、べ/ジインメチルエ
ーテル、ペンシイ/エチルエーテル、ペンゾインイソグ
ロピルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ヒドロキ
シベンゾフェノン、アセトフェノン、ミヒラーズケトン
、2−メチルアントラキノン、クロルアントラキノン、
チオキサントン類、ジフェニルノスルファイド、ジチオ
カーバメート等ジメチル安息香酸等が挙げられる。
り、通常使用に当っては光開始剤が加えられ、この光開
始剤としては、例えばベンゾイン、べ/ジインメチルエ
ーテル、ペンシイ/エチルエーテル、ペンゾインイソグ
ロピルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ヒドロキ
シベンゾフェノン、アセトフェノン、ミヒラーズケトン
、2−メチルアントラキノン、クロルアントラキノン、
チオキサントン類、ジフェニルノスルファイド、ジチオ
カーバメート等ジメチル安息香酸等が挙げられる。
上記の光開始剤は通常単独または2種以上併用して感光
性樹脂に配合して用いるが、光開始剤の中で分子内に樹
脂骨格と反応性の官能基を有する場合は樹脂骨格中に導
入することもできる。また光開始促進剤としてさらにア
ミ/類を上記の光開始剤と併用して用いることもできる
。
性樹脂に配合して用いるが、光開始剤の中で分子内に樹
脂骨格と反応性の官能基を有する場合は樹脂骨格中に導
入することもできる。また光開始促進剤としてさらにア
ミ/類を上記の光開始剤と併用して用いることもできる
。
1m 光、M ;6Eアクリロイル基の場合は、水素を
引抜きできる開始剤を用いるのが好ましく、殊にチオキ
サントン類、またはチオキサントン類と他の開始剤例え
ば2−メチルアントラキノン、ジメチルアミノ安息香酸
等の併用がより効果的である。
引抜きできる開始剤を用いるのが好ましく、殊にチオキ
サントン類、またはチオキサントン類と他の開始剤例え
ば2−メチルアントラキノン、ジメチルアミノ安息香酸
等の併用がより効果的である。
感光基がメタアクリロイル基の場合は、ベンゾインのエ
ーテル類を用いることが好ましい。光開始剤の使用量は
感光性樹脂に対し、0.01〜3o@111チであり、
好ましくは3〜15重量−程度添加される。
ーテル類を用いることが好ましい。光開始剤の使用量は
感光性樹脂に対し、0.01〜3o@111チであり、
好ましくは3〜15重量−程度添加される。
一!だ感光材Hにラノカル架橋の為の有機過酸化物、硬
化促進剤、厘合防止剤、金属、ガラスとのJM fti
性向上のためのシランカップリング剤、ビニルモノマー
、着色剤、充填剤および他のポリマーを混合使用しても
差しつかえないし、残存の二重結合を電子線硬化しても
差しつかえない。また、イUられた感光材料を支持体に
塗布した際表面活着1コトがジ虫すぎるとネガ゛フィル
ムの脣層作業が困難になる場合があり、その場合は感光
性、支持体との接Zh性、現像性、感光硬化後の樹脂の
諸性質を低下させない独類および情の常温で固体の他の
ポリマーを加えると上記粘着性が改善される。好ましい
他のポリマーとしては、スチレン−マレイノ醒共重合体
樹脂とアミン付加物、ポリグリシツルメタアクリレート
(η↑脂とジメチル女息香酸の付加物、ヒドロキシプロ
ピルセルロース、ポリヒドロキシスチレン、石油樹脂或
はエポキシ樹脂の峻水浴液す宅 可溶携誘尋体等がある。
化促進剤、厘合防止剤、金属、ガラスとのJM fti
性向上のためのシランカップリング剤、ビニルモノマー
、着色剤、充填剤および他のポリマーを混合使用しても
差しつかえないし、残存の二重結合を電子線硬化しても
差しつかえない。また、イUられた感光材料を支持体に
塗布した際表面活着1コトがジ虫すぎるとネガ゛フィル
ムの脣層作業が困難になる場合があり、その場合は感光
性、支持体との接Zh性、現像性、感光硬化後の樹脂の
諸性質を低下させない独類および情の常温で固体の他の
ポリマーを加えると上記粘着性が改善される。好ましい
他のポリマーとしては、スチレン−マレイノ醒共重合体
樹脂とアミン付加物、ポリグリシツルメタアクリレート
(η↑脂とジメチル女息香酸の付加物、ヒドロキシプロ
ピルセルロース、ポリヒドロキシスチレン、石油樹脂或
はエポキシ樹脂の峻水浴液す宅 可溶携誘尋体等がある。
かかるポリマーは、感光性樹脂との相溶性が良好であり
、希薄酸水溶液に可溶であることが望ましく、また固体
状ポリマーであることが必要である。かかるポリマーの
添加は感光液粘度調整、形成被膜表面粘着性の改善、現
像性の改良など、用途に応じた目的に合せて使用される
。
、希薄酸水溶液に可溶であることが望ましく、また固体
状ポリマーであることが必要である。かかるポリマーの
添加は感光液粘度調整、形成被膜表面粘着性の改善、現
像性の改良など、用途に応じた目的に合せて使用される
。
本発明によって得られた感光性樹脂は希薄岐水溶液で現
像が容易にでき、優れた耐アルカリ性、缶着性を有し、
かつ高感度で作業性に優れた感光性樹脂である。
像が容易にでき、優れた耐アルカリ性、缶着性を有し、
かつ高感度で作業性に優れた感光性樹脂である。
また現像後加熱あるいは紫外線、電子線による後硬化で
硬化膜の性能を教書することができる。
硬化膜の性能を教書することができる。
これにより耐アルカリ性と同時に耐酸性、耐溶剤性等も
示すようになり、エツチング用等の一時しシストだけで
すく、ソルダーレジストや、フルアrイテイグ法におけ
るメッキ用等の永久レジストとしても使用可能である。
示すようになり、エツチング用等の一時しシストだけで
すく、ソルダーレジストや、フルアrイテイグ法におけ
るメッキ用等の永久レジストとしても使用可能である。
レジスト樹脂としてはプリント配線板関連のエツチング
レノスト、ソルダーレジスト、メツキレシストの他凸版
用レジスト、網点グラビアレジスト、捺染ロール用レジ
スト、ネームプレート用レジスト等の多くの分野で使用
が可能であシ、特に水溶性現像可能なアルミニウム板の
アルカリエツチング用レジストとして有用である。
レノスト、ソルダーレジスト、メツキレシストの他凸版
用レジスト、網点グラビアレジスト、捺染ロール用レジ
スト、ネームプレート用レジスト等の多くの分野で使用
が可能であシ、特に水溶性現像可能なアルミニウム板の
アルカリエツチング用レジストとして有用である。
サラニフオトレ・シストとしての用途だけでなく、オフ
セット印刷版としてのps板、スクリーン印刷用の感光
液やレジストインキあるいは一般印刷インキ、促成コー
ティング用等巾広い分野の感光性樹脂として使用可能で
ある。
セット印刷版としてのps板、スクリーン印刷用の感光
液やレジストインキあるいは一般印刷インキ、促成コー
ティング用等巾広い分野の感光性樹脂として使用可能で
ある。
次に本発明を参考例、実施例、比較例によってさらに具
体的に説明するが、これらは何んら実施例に限定される
ものでない。なお例中、部およびチは重量部および重量
%を示す。
体的に説明するが、これらは何んら実施例に限定される
ものでない。なお例中、部およびチは重量部および重量
%を示す。
参考例1
攪拌機、温度計、滴下装置、窒素導入管を備えた反応フ
ラスコ内にポリブタジェンIJisso −FB −1
000(日本曹達製、商品名、数平均分子量1100.
1.2−ビニル結合91.5係、■、4−トランス結合
8.5チ)100都にトルエン100部を加えて耐>1
fL、これに木酢[21部加えた反応混合液を70℃に
保持して、ゆるく攪拌しながら50 %過酸化水素95
都、硫酸0.7部の混合液を1時間かけて滴下し、滴下
終了後6時間反応を継続した。反応終了後は、水層部を
除き油層部を#留水で中性となるまで水洗し、次いでト
ルエンを減圧蒸留で追い出して数平均分子量1200、
エポキシ樹脂200のエポキシ化列?リプタツエン〔R
−1)を得/C6 参考例2 参考例1と同様にして、t5リプタツエンNi880−
FB −1,000100部にトルエン100部を加え
て溶解し、これに氷酢酸44部加えた反応混合液を70
℃に保持して、ゆるく攪拌しながら50%過酸化水素2
00部、硫酸1.5部の混合液を2時間かけて簡下し、
滴下終了後10時間反応を継続した。反応長了後参考例
1と同様に処理してエポキシ当址114のエポキシ化ポ
リゲタジエン(R−2)を得た。
ラスコ内にポリブタジェンIJisso −FB −1
000(日本曹達製、商品名、数平均分子量1100.
1.2−ビニル結合91.5係、■、4−トランス結合
8.5チ)100都にトルエン100部を加えて耐>1
fL、これに木酢[21部加えた反応混合液を70℃に
保持して、ゆるく攪拌しながら50 %過酸化水素95
都、硫酸0.7部の混合液を1時間かけて滴下し、滴下
終了後6時間反応を継続した。反応終了後は、水層部を
除き油層部を#留水で中性となるまで水洗し、次いでト
ルエンを減圧蒸留で追い出して数平均分子量1200、
エポキシ樹脂200のエポキシ化列?リプタツエン〔R
−1)を得/C6 参考例2 参考例1と同様にして、t5リプタツエンNi880−
FB −1,000100部にトルエン100部を加え
て溶解し、これに氷酢酸44部加えた反応混合液を70
℃に保持して、ゆるく攪拌しながら50%過酸化水素2
00部、硫酸1.5部の混合液を2時間かけて簡下し、
滴下終了後10時間反応を継続した。反応長了後参考例
1と同様に処理してエポキシ当址114のエポキシ化ポ
リゲタジエン(R−2)を得た。
参考例3
参考例1においてポリブタジェンN15so −PB
−1000の代りにzvisso −FB −2000
(日本曹達製、部品名、数平均分子は217o、1,2
−ビニル結合90.3%、1.4−1−ランス結合9.
7 % )を用いる他は全く同様に反応および処理して
数平均分子12300゜〕ρ/ エポキシ当L1#チのエポキシ化ポリブタジェンCR−
3)を得た。
−1000の代りにzvisso −FB −2000
(日本曹達製、部品名、数平均分子は217o、1,2
−ビニル結合90.3%、1.4−1−ランス結合9.
7 % )を用いる他は全く同様に反応および処理して
数平均分子12300゜〕ρ/ エポキシ当L1#チのエポキシ化ポリブタジェンCR−
3)を得た。
参考例4
参考例1においてポリブタジェンN15so−PB−1
,00(R7)代りにポリオイルナ110 (huls
A、 G社jjJ、部品名、故平均分子計1600.
1.4−シス結合74%、1.4.−)ラスト結合部
係、1,2−ビニル結合1悌)を用いる他は全く同様に
反応および処理してエポキシ当11203のエポキシ化
ポリブタジェン〔R−4Jを得た。
,00(R7)代りにポリオイルナ110 (huls
A、 G社jjJ、部品名、故平均分子計1600.
1.4−シス結合74%、1.4.−)ラスト結合部
係、1,2−ビニル結合1悌)を用いる他は全く同様に
反応および処理してエポキシ当11203のエポキシ化
ポリブタジェン〔R−4Jを得た。
参考例5
心拌俵、温度81−1窒糸専人管をψ1「えた反応7ラ
スコ内に分子末端にカルボキシル基を有するポリブタジ
ェンN15so −PBO−1000(日本口達製、商
品名、数平均分子址1550.1.2−ビニル結合90
.7%、1.4−)う7ト結合9.3 q6、酸価59
6 、KoIhrq/y )100部に対してビスフェ
ノールAノグリシノルエーテル型エポキシ樹脂エピコー
ト828 (油化シェルエポキシ社製、商品名、エポキ
シ当′l1190)100部、N、N’−ツメチルペン
ノルアミンo、5gbヲ仕込み、窒素雰囲気下で攪拌し
ながらioo ℃で4時間反応させて酸両0.1以下、
エポキシ当縫485のポリブタジェン変性エポキシ8J
脂CR−5] ’(L:イ!Jた。
スコ内に分子末端にカルボキシル基を有するポリブタジ
ェンN15so −PBO−1000(日本口達製、商
品名、数平均分子址1550.1.2−ビニル結合90
.7%、1.4−)う7ト結合9.3 q6、酸価59
6 、KoIhrq/y )100部に対してビスフェ
ノールAノグリシノルエーテル型エポキシ樹脂エピコー
ト828 (油化シェルエポキシ社製、商品名、エポキ
シ当′l1190)100部、N、N’−ツメチルペン
ノルアミンo、5gbヲ仕込み、窒素雰囲気下で攪拌し
ながらioo ℃で4時間反応させて酸両0.1以下、
エポキシ当縫485のポリブタジェン変性エポキシ8J
脂CR−5] ’(L:イ!Jた。
実施例1
攪拌機、温度計、冷却器、滴下装置、屋累尋入管を備え
た反応フラスコ内に参考例1−C得られ/こ工4?キシ
化ポリプタゾエン(R−1) 100部、ノエタノール
アミン52.5部を仕込み窒素雰囲気下でもって攪拌し
ながら130℃で5時間反応を行ってエポキシ−アミン
付加物を得た。
た反応フラスコ内に参考例1−C得られ/こ工4?キシ
化ポリプタゾエン(R−1) 100部、ノエタノール
アミン52.5部を仕込み窒素雰囲気下でもって攪拌し
ながら130℃で5時間反応を行ってエポキシ−アミン
付加物を得た。
上記で得られたエポキシ−アミン付加物1bOtmにツ
メチルホルムアミド308部、ゾオキサ7615部、ハ
イドロギノン0.5部を加え、反応温度を5〜10℃に
保持してアクリル酸クロライド138.5部を南下装置
から徐々に滴下し、滴下終了後100時間反応行った。
メチルホルムアミド308部、ゾオキサ7615部、ハ
イドロギノン0.5部を加え、反応温度を5〜10℃に
保持してアクリル酸クロライド138.5部を南下装置
から徐々に滴下し、滴下終了後100時間反応行った。
次いで10,000部の水の中に反応液を注加し、30
分101程度撹拌した後、5チ水酸化す) IJウム水
溶/1iHJO部を注加し、さらに1俤炭酸ナトリウム
水浴液5.O00部を注加して樹脂沈殿物を得た。この
沈澱物を再び1%塩酸水溶液中で溶解した後、上記同様
に5%水酸化ナトリウム水溶液、1%の炭酸ナトリウム
水溶液で同様な操作を繰返して沈澱さ止て梢製した。
分101程度撹拌した後、5チ水酸化す) IJウム水
溶/1iHJO部を注加し、さらに1俤炭酸ナトリウム
水浴液5.O00部を注加して樹脂沈殿物を得た。この
沈澱物を再び1%塩酸水溶液中で溶解した後、上記同様
に5%水酸化ナトリウム水溶液、1%の炭酸ナトリウム
水溶液で同様な操作を繰返して沈澱さ止て梢製した。
次に得られた沈殿物を少量の水で洗滌した後、空気乾燥
を行ない、続いてジオキサ71922部加えて良く溶解
してから無水硫酸ナトリウムを76.9部加えて用時間
放置した後、濾過することによって目的とする約10%
濃度の感光性樹脂溶液(S−1)を イ尋 /こ。
を行ない、続いてジオキサ71922部加えて良く溶解
してから無水硫酸ナトリウムを76.9部加えて用時間
放置した後、濾過することによって目的とする約10%
濃度の感光性樹脂溶液(S−1)を イ尋 /こ。
実Mj例2
実施例1においてエポキシ化ポリブタジェンを参考例4
で得られたエポキシ化ポリゲタジエン(R−4]を使用
する他は全く同様にして約10係濃度の感光性樹脂浴液
(S−2)を得た。
で得られたエポキシ化ポリゲタジエン(R−4]を使用
する他は全く同様にして約10係濃度の感光性樹脂浴液
(S−2)を得た。
実施例3
参考例2で得られたエポキシ当1114のエポキシ化ポ
リブタジェン[R−2、:l 100部、ジェタノール
アミン92部を加え、窒素雰囲気下でもって攪拌しなが
ら130℃で7時間反応を行ってエポキシ−アミン付加
物を得た。。
リブタジェン[R−2、:l 100部、ジェタノール
アミン92部を加え、窒素雰囲気下でもって攪拌しなが
ら130℃で7時間反応を行ってエポキシ−アミン付加
物を得た。。
上記で得られたエポキシ−アミン付加物100部にジメ
チルホルムアミド375部、ソオギザン750部、ハイ
ドロキノン0.5部を加え、反応温度を5〜10℃に保
持して、アクリル酸クロライドを191部を徐々に滴下
し、滴下終了後13時間反応を行った。
チルホルムアミド375部、ソオギザン750部、ハイ
ドロキノン0.5部を加え、反応温度を5〜10℃に保
持して、アクリル酸クロライドを191部を徐々に滴下
し、滴下終了後13時間反応を行った。
以下実施例1と同様な方法で後処理して楯装し、ジオキ
サ72100部を用いて溶解して約10 % 渓度の感
光性樹脂溶液(S−3)を得た。
サ72100部を用いて溶解して約10 % 渓度の感
光性樹脂溶液(S−3)を得た。
実施例4
参考例1で得られたエポキシ化ポリブタジェンCR−1
、] 100部にツメチルホルムアミド100部を加え
て均一に溶解してた後、ジメチルアミノ安、け舌岐20
部、ツメチルベンジルアミン2部を仕込み、窒素雰囲気
下で攪拌しながら140〜150℃で1時ij1反応を
行った後、さらにノエタノールアミン40部を加えて1
30℃で3時間反応を行ってエボギシーアミン付加物を
得た。
、] 100部にツメチルホルムアミド100部を加え
て均一に溶解してた後、ジメチルアミノ安、け舌岐20
部、ツメチルベンジルアミン2部を仕込み、窒素雰囲気
下で攪拌しながら140〜150℃で1時ij1反応を
行った後、さらにノエタノールアミン40部を加えて1
30℃で3時間反応を行ってエボギシーアミン付加物を
得た。
次いで賊温をSOCに冷却した後、ジオキサン600部
、ハイドロキノン0.5部を加え、さらに冷却し、反応
温間を5〜10℃に保持して滴下装置itからアクリル
酸クロライド100部を徐々に滴下し、滴下終了後10
時間反応を継続した。
、ハイドロキノン0.5部を加え、さらに冷却し、反応
温間を5〜10℃に保持して滴下装置itからアクリル
酸クロライド100部を徐々に滴下し、滴下終了後10
時間反応を継続した。
次に実施例1と全く同様な方法で後処理して精製し、ジ
オキサン浴剤1600部を用いて溶解して約10%漏t
fの感光性樹脂溶液(S−4)を得た。
オキサン浴剤1600部を用いて溶解して約10%漏t
fの感光性樹脂溶液(S−4)を得た。
実施例5
実施例4で用いた参考例1で得られたエポキシ化+I?
IJブタノエエフR−1]の代りに参考例3でイυら
れた工、j5キシ化ポリブタノエ/[:R−3)(i=
用いた他は実施例4と全く同様にして約10チ濃匿の感
光性樹脂浴*<S〜5)を得た。
IJブタノエエフR−1]の代りに参考例3でイυら
れた工、j5キシ化ポリブタノエ/[:R−3)(i=
用いた他は実施例4と全く同様にして約10チ濃匿の感
光性樹脂浴*<S〜5)を得た。
実施例6
参考例1で得られたエポキシ化ポリブタジェン〔R−1
) 100部Vc4−ヒドロキシベンゾフェノン24部
、ノエタノールアミン40部、ジメチルホルムアミド1
00部とを反応フラスコ内に仕込んで窒素雰囲気下で攪
拌しながら徐々に加温し、150℃で4時間反応を行っ
た。
) 100部Vc4−ヒドロキシベンゾフェノン24部
、ノエタノールアミン40部、ジメチルホルムアミド1
00部とを反応フラスコ内に仕込んで窒素雰囲気下で攪
拌しながら徐々に加温し、150℃で4時間反応を行っ
た。
次いで反応生成物を1tの0.5%の塩酸の中に注加し
、ゆるやかに攪拌しながら10チの水酸化ナトリウムを
徐々に注加して樹脂沈殿物を得た。この沈殿物を水洗し
て100℃で真空乾燥し、次に乾燥した沈殿物をツメチ
ルホルムアミド200部とジオキサ7600部の混合溶
剤に良く溶解した後ハイドロキノンを0.5部加え反応
フラスコ内で5〜10℃に保持し攪拌しながらアクリル
酸クロライド100部を徐々に滴下し、10〜20℃で
10時間反応を行った後、実施例1と同様な方法で後処
理し、約10チ娘朋の感光性樹脂溶液(B−6)を得た
。
、ゆるやかに攪拌しながら10チの水酸化ナトリウムを
徐々に注加して樹脂沈殿物を得た。この沈殿物を水洗し
て100℃で真空乾燥し、次に乾燥した沈殿物をツメチ
ルホルムアミド200部とジオキサ7600部の混合溶
剤に良く溶解した後ハイドロキノンを0.5部加え反応
フラスコ内で5〜10℃に保持し攪拌しながらアクリル
酸クロライド100部を徐々に滴下し、10〜20℃で
10時間反応を行った後、実施例1と同様な方法で後処
理し、約10チ娘朋の感光性樹脂溶液(B−6)を得た
。
実施例7〜実施例8
参考例1で得られたエポキシ化ポリブタジェン[R’−
1]’ 100部にモノエタノールアミンI部を120
℃〜130℃で3時間反応させた後、ジメチルホルムア
ミド100部、グリシツルメタアクリル酸80部、ハイ
ドロキノン0.5部を加え110〜120℃で1時間反
応を行った後、ジオキサン500部を加えてさらに2時
間反応せしめて反応液(A)を得た。
1]’ 100部にモノエタノールアミンI部を120
℃〜130℃で3時間反応させた後、ジメチルホルムア
ミド100部、グリシツルメタアクリル酸80部、ハイ
ドロキノン0.5部を加え110〜120℃で1時間反
応を行った後、ジオキサン500部を加えてさらに2時
間反応せしめて反応液(A)を得た。
次いで実施例1と同様に後処理して約10チ濃度の感光
性樹脂溶液(s−7)を得た。
性樹脂溶液(s−7)を得た。
上記反応段階で得られる反応液[:A] 405部を用
いて攪拌しながらアクリル酸クロライド50部を徐々に
滴下して滴下終了後10時間反応を継続した。
いて攪拌しながらアクリル酸クロライド50部を徐々に
滴下して滴下終了後10時間反応を継続した。
次いで実施例1と同様な方法で後処理し、約10%濃度
の感光性樹脂溶液(El−8)を得た。
の感光性樹脂溶液(El−8)を得た。
実施例9
参考例1で得られたエポキシ化ポリブタジェン[R−1
]100tJKモノエタノールアミン(資)部を120
〜130℃で3時間反応させた後、ジメチルホルムアミ
ド1oo、クリシジルフェニルエーテル83部、ハイド
ロキノン0.5部を加えて130℃で1時間反応を行っ
た後、ジオキサ7500部を加えてさらに2時間反応を
せしめた。
]100tJKモノエタノールアミン(資)部を120
〜130℃で3時間反応させた後、ジメチルホルムアミ
ド1oo、クリシジルフェニルエーテル83部、ハイド
ロキノン0.5部を加えて130℃で1時間反応を行っ
た後、ジオキサ7500部を加えてさらに2時間反応を
せしめた。
次いで得られた反応溶液408部を用いて攪拌しながら
アクリル酸クロライド502を徐々に滴下して滴下終了
後10時間反応を継続した。
アクリル酸クロライド502を徐々に滴下して滴下終了
後10時間反応を継続した。
次に実施例1と同様な方法で後処理し、約用俸濃度の感
光性樹脂溶液(S−9)を得た。
光性樹脂溶液(S−9)を得た。
実施例10〜実施例11
参考例1で得られたエポキシ化ポリブタノエン[R−1
〕200部とジエチルアミノグロビルアミン130部を
窒素雰囲気下でもって150〜160℃で3時間反応せ
しめて反応中間体CB) ’に得た。次に上記の反応中
間体CB3165部にジメチルホルムアミド200部と
ジオキサ7600部の混合溶剤を加えこの反応中間体溶
液を3〜5℃に保持し、攪拌しながらアクリル酸クロラ
イ1100部を徐々に滴下した後、加温して反応温度を
20〜25℃に保って10時間反応を行った。次に実施
例1と同様な方法で後処理し、約10チ濃匿の感光性樹
脂溶液(S−1,0)を得た。
〕200部とジエチルアミノグロビルアミン130部を
窒素雰囲気下でもって150〜160℃で3時間反応せ
しめて反応中間体CB) ’に得た。次に上記の反応中
間体CB3165部にジメチルホルムアミド200部と
ジオキサ7600部の混合溶剤を加えこの反応中間体溶
液を3〜5℃に保持し、攪拌しながらアクリル酸クロラ
イ1100部を徐々に滴下した後、加温して反応温度を
20〜25℃に保って10時間反応を行った。次に実施
例1と同様な方法で後処理し、約10チ濃匿の感光性樹
脂溶液(S−1,0)を得た。
また上記で得られた反応中間体[n)] 165部にグ
リシジルメタアクリル酸71.5部、ジメチルホルムア
ミド100部を加え、攪拌しながら窒素雰囲気下でもっ
て120℃で3時間反応を行った。
リシジルメタアクリル酸71.5部、ジメチルホルムア
ミド100部を加え、攪拌しながら窒素雰囲気下でもっ
て120℃で3時間反応を行った。
次に実施例1と同様な方法で後処理して約10チ濃度の
感光性樹脂溶液(S −1,1)を得た。
感光性樹脂溶液(S −1,1)を得た。
実施例12
参考例3で得られたエポキシ化ポリブタジェン[R−3
) 200部、ジエチルアミノノロピルアミン100部
、P−ヒドロキシベンゾフェノン恥部ヲ反応フラスコ内
に仕込んで窒素〆囲気下で攪拌しなから150℃で3時
間反応を行って中、量体〔声〕を得た。次いで中間体反
応溶液を120℃まで反応液全冷却し、グリシツルメタ
アクリレート122部、ツメチルホルムアミド200部
を加えて120℃で2時間反応した後実施例1と同様に
後処理して約10na度の感光性樹脂溶液(S−12)
を得た。
) 200部、ジエチルアミノノロピルアミン100部
、P−ヒドロキシベンゾフェノン恥部ヲ反応フラスコ内
に仕込んで窒素〆囲気下で攪拌しなから150℃で3時
間反応を行って中、量体〔声〕を得た。次いで中間体反
応溶液を120℃まで反応液全冷却し、グリシツルメタ
アクリレート122部、ツメチルホルムアミド200部
を加えて120℃で2時間反応した後実施例1と同様に
後処理して約10na度の感光性樹脂溶液(S−12)
を得た。
実施例13
ご
実施例12と全く同様にして中間体〔メ〕を得た後、ジ
メチルホルムアミド400部とジオキサン600部ハイ
ドロキノン1.0部を加え5〜10℃に保持し、撹拌し
ながらアクリル酸クロライド200部を徐々に注加し、
10〜20℃で10時間反応を行った後、実施例1と同
様な方法で後処理して約LO%濃度の感光性84脂溶液
(S −13)を得た。
メチルホルムアミド400部とジオキサン600部ハイ
ドロキノン1.0部を加え5〜10℃に保持し、撹拌し
ながらアクリル酸クロライド200部を徐々に注加し、
10〜20℃で10時間反応を行った後、実施例1と同
様な方法で後処理して約LO%濃度の感光性84脂溶液
(S −13)を得た。
実施例14〜実施例15
参考例5で得られたポリブタノエン変性エボギシ樹脂(
R−5) 200部とジエチルアミノグロビルアミン5
4部を窒素雰囲気下でもって150〜160ムアミド1
58部とジオキザン473部の混合浴剤を加えこの反応
中間体溶液を3〜5℃に保持し、J・疏拌しながらアク
リル酸クロライド82部を徐々に滴下した後、加温して
反応温度を20−5℃に保つて10時間反応を行った。
R−5) 200部とジエチルアミノグロビルアミン5
4部を窒素雰囲気下でもって150〜160ムアミド1
58部とジオキザン473部の混合浴剤を加えこの反応
中間体溶液を3〜5℃に保持し、J・疏拌しながらアク
リル酸クロライド82部を徐々に滴下した後、加温して
反応温度を20−5℃に保つて10時間反応を行った。
次に実施例1と同様な方法で後処理して約jO%嬢度の
感光性樹脂溶液(S−14)を得た。
感光性樹脂溶液(S−14)を得た。
また上記で得られた反応中間体〔43127部にグリシ
ツルメタアクリル酸恥部、ジメチルホルムアミド66部
を加え、攪拌しながら窒素雰囲気下でもって120℃で
3時間反応を行った。次に実施例1と同様な方法で後処
理して約10%濃度の感光性樹脂溶液(8−15)を得
た。
ツルメタアクリル酸恥部、ジメチルホルムアミド66部
を加え、攪拌しながら窒素雰囲気下でもって120℃で
3時間反応を行った。次に実施例1と同様な方法で後処
理して約10%濃度の感光性樹脂溶液(8−15)を得
た。
実施例】6
実施例1で得られた10%ジオキサン感光樹脂溶液(8
−1) 100部、ポリグリシツルメタアクリル酸樹脂
のジメチル安息香岐付加物10チテトラヒドロンラン浴
液100部、2,7−ジイツゾロビルチオギサントン0
.75部、クリスタルバイオレット0.05部の粉末と
をよく溶解して感光液(s −16)をA製した。
−1) 100部、ポリグリシツルメタアクリル酸樹脂
のジメチル安息香岐付加物10チテトラヒドロンラン浴
液100部、2,7−ジイツゾロビルチオギサントン0
.75部、クリスタルバイオレット0.05部の粉末と
をよく溶解して感光液(s −16)をA製した。
実施例17
実施例16において10%ジオキサン感光性m脂浴液(
S−1)の代りに実施例12で得られた10%ジオキザ
ン感光性樹脂溶液(S−12)を用いる他は全く同様に
感光液(S−17)を調製した。
S−1)の代りに実施例12で得られた10%ジオキザ
ン感光性樹脂溶液(S−12)を用いる他は全く同様に
感光液(S−17)を調製した。
比較例1
1貼拌機、還流装置、部下装置を備えた三ツ口7ラスコ
を用いて、数平均分子i 1+390 、水酸基価58
.3 KOH〜/2.1,2−ビニル含有量91.1俤
、1,4−トランス含有量8.9チの末端に水酸基を有
す0ポリブタジエングリコールよりなるブタジェノ糸ポ
リマー(日本舒達襄、PBG 1000 ) t、o
oo *lS金ジオキサン1,000 部にm解し、三
ツロフラスコに仕込んだ後、約80℃に加熱した。次い
てメルカノトエチル了ルコール1,050部を攪拌しな
がら1時間で滴下し、滴下終了後80℃で7時間反応を
続けた。
を用いて、数平均分子i 1+390 、水酸基価58
.3 KOH〜/2.1,2−ビニル含有量91.1俤
、1,4−トランス含有量8.9チの末端に水酸基を有
す0ポリブタジエングリコールよりなるブタジェノ糸ポ
リマー(日本舒達襄、PBG 1000 ) t、o
oo *lS金ジオキサン1,000 部にm解し、三
ツロフラスコに仕込んだ後、約80℃に加熱した。次い
てメルカノトエチル了ルコール1,050部を攪拌しな
がら1時間で滴下し、滴下終了後80℃で7時間反応を
続けた。
反応終了後、2naH?の真空度で100 ℃X 2時
間未反応のノルカフ0トエチルアルコールおよびジオキ
サンを除去して1,950部の反応生成物[Re−1]
を得た。この反応生成物(RO−1)の数半均分子址は
2,750 、水酸基価は391 KOHmg/y
であった。
間未反応のノルカフ0トエチルアルコールおよびジオキ
サンを除去して1,950部の反応生成物[Re−1]
を得た。この反応生成物(RO−1)の数半均分子址は
2,750 、水酸基価は391 KOHmg/y
であった。
矢に攪拌槻、還流水分離器滴下装置を備えた三ツロフラ
スコを用いて反応生成物(Ra−1)のメルカゾトエタ
ノール化ポリブタノエン60部、ジオキザン60部、無
水7タル酸加部とを混合し、撹拌しながら加温をして反
応温度115℃〜120℃で2時間反応させた後、加温
を止めてジオキサ7800部とハイドロキノン0.3部
とを加えた。次に液温度を室温まで下げてアクリル酸ク
ロライドの40部を滴下しながら室温で5時間反応を続
けた。反応終了鏝用時間放置してから反応物を101の
ビーカーに移し、1%の水酸化ナトリウム水Hg5tを
加え5時間攪拌を続けた後10%塩酸で中和して樹脂分
を沈殿させた0、この沈殿物を集めよく水洗し、+17
.i所で空気乾燥させ′fc後、沈殿物約80部をハイ
ドロ上2フ0,2部を含むジオキサン800部に溶解し
、30部の鎖酸ナトIJウムを加えて1時間攪拌した後
、濾過してlO%ソオキサン譲度のアルカリ現像型感光
性樹脂醇液(0−1)を得た。
スコを用いて反応生成物(Ra−1)のメルカゾトエタ
ノール化ポリブタノエン60部、ジオキザン60部、無
水7タル酸加部とを混合し、撹拌しながら加温をして反
応温度115℃〜120℃で2時間反応させた後、加温
を止めてジオキサ7800部とハイドロキノン0.3部
とを加えた。次に液温度を室温まで下げてアクリル酸ク
ロライドの40部を滴下しながら室温で5時間反応を続
けた。反応終了鏝用時間放置してから反応物を101の
ビーカーに移し、1%の水酸化ナトリウム水Hg5tを
加え5時間攪拌を続けた後10%塩酸で中和して樹脂分
を沈殿させた0、この沈殿物を集めよく水洗し、+17
.i所で空気乾燥させ′fc後、沈殿物約80部をハイ
ドロ上2フ0,2部を含むジオキサン800部に溶解し
、30部の鎖酸ナトIJウムを加えて1時間攪拌した後
、濾過してlO%ソオキサン譲度のアルカリ現像型感光
性樹脂醇液(0−1)を得た。
比較例2
比較しIJ lで得た(0−1)の感光性樹脂のJO%
ノオキサン溶液100都、 ビニルトルエン/イタコン順ブチルエステル共重合体の
10%ノオキサン溶液50部、ツインノロピルチオキサ
ントン0.8f64J、ジメチルアミノベンゾイル酸イ
ソプDL’ルエステル0.8部、 クリスタルバイオレット0.05 部 以上の成分を均一に混合した感光液(0−2)を得た。
ノオキサン溶液100都、 ビニルトルエン/イタコン順ブチルエステル共重合体の
10%ノオキサン溶液50部、ツインノロピルチオキサ
ントン0.8f64J、ジメチルアミノベンゾイル酸イ
ソプDL’ルエステル0.8部、 クリスタルバイオレット0.05 部 以上の成分を均一に混合した感光液(0−2)を得た。
比較例3
重合[1200のポリビニルアルコール119ヲ100
部のピリノン中に懸濁させ、湯浴上で加熱して溶解した
。さらにピリジン100部を追加して液温を50℃付近
に下げてから、ケイ皮酸クロライドヲ徐々に攪拌しなが
ら加え、この温度で約4時間攪拌を続けた。次に生成し
た粘稠な沈殿物を4倍容のアセトンに溶解し濾過後、こ
れを室温の水に投入して沈殿物を得た。この沈殿物をよ
く水洗し真空乾燥させ、次に沈殿物をジオキサンに良く
溶解し、lO%濃度感光性樹脂溶液(0−3)を得た。
部のピリノン中に懸濁させ、湯浴上で加熱して溶解した
。さらにピリジン100部を追加して液温を50℃付近
に下げてから、ケイ皮酸クロライドヲ徐々に攪拌しなが
ら加え、この温度で約4時間攪拌を続けた。次に生成し
た粘稠な沈殿物を4倍容のアセトンに溶解し濾過後、こ
れを室温の水に投入して沈殿物を得た。この沈殿物をよ
く水洗し真空乾燥させ、次に沈殿物をジオキサンに良く
溶解し、lO%濃度感光性樹脂溶液(0−3)を得た。
試験例
実施例1〜15で得られた各々の10%ジオキサン濃度
感光性樹脂溶液(S−1〜S −35)および比較例1
.3で得られた10%ジオキf/(0−1)、(0−3
)の100部に対して2.7−ジイツゾロピルチオキサ
トン0.57部、クリスタルバイオレット0.05部の
粉末を良く溶解して各々の感光液を調製した。次に該調
製液および実施例16〜17で得られた調製感光液(S
−16〜s −17)、比較例2の調製感光液(0−
2)を各々砂目立てしたポリニスデルフィルム上に乾燥
被膜が2〜3μ厚みになるように塗布し、80℃で1時
間熱風乾燥させて試験片を得た。この各試験片を用いて
次に示す試験法によって酸に対する溶解性、被膜表面粘
着性、感度の試験および測定を行い七の結果を表1に示
した。
感光性樹脂溶液(S−1〜S −35)および比較例1
.3で得られた10%ジオキf/(0−1)、(0−3
)の100部に対して2.7−ジイツゾロピルチオキサ
トン0.57部、クリスタルバイオレット0.05部の
粉末を良く溶解して各々の感光液を調製した。次に該調
製液および実施例16〜17で得られた調製感光液(S
−16〜s −17)、比較例2の調製感光液(0−
2)を各々砂目立てしたポリニスデルフィルム上に乾燥
被膜が2〜3μ厚みになるように塗布し、80℃で1時
間熱風乾燥させて試験片を得た。この各試験片を用いて
次に示す試験法によって酸に対する溶解性、被膜表面粘
着性、感度の試験および測定を行い七の結果を表1に示
した。
また上記の実施例の中から実施例1、実施例16、実M
M例j7と比較例1〜3の調製感光液を用いて、各々砂
目立てした陽極酸化処理したアルミニウム板上または鋼
張り積層板上に乾燥塗膜が2〜3μjv牟になるように
塗布し、80℃で1時間熱風乾燥させて試験片を作製し
、次に示す試験法によって被膜表面粘>li性、レジス
ト画像形成、支持板との製着性、耐アルカリ性、制酸性
、耐溶剤性、耐水性、ハンダIIIIt熱性等の試験を
行った。その結果を表2 K示した。
M例j7と比較例1〜3の調製感光液を用いて、各々砂
目立てした陽極酸化処理したアルミニウム板上または鋼
張り積層板上に乾燥塗膜が2〜3μjv牟になるように
塗布し、80℃で1時間熱風乾燥させて試験片を作製し
、次に示す試験法によって被膜表面粘>li性、レジス
ト画像形成、支持板との製着性、耐アルカリ性、制酸性
、耐溶剤性、耐水性、ハンダIIIIt熱性等の試験を
行った。その結果を表2 K示した。
く試験法〉
1)被膜表面粘着性:各調製感光液を砂目立ポリエステ
ルフィルム、砂目立アルミニウム板、銅張り積層板上に
乾燥被膜が2〜3μ厚さになるように塗布し、80℃で
1時間熱風乾燥させた試験片の形成被膜表面殆指で軽く
触れて表向の粘層性を調べた。
ルフィルム、砂目立アルミニウム板、銅張り積層板上に
乾燥被膜が2〜3μ厚さになるように塗布し、80℃で
1時間熱風乾燥させた試験片の形成被膜表面殆指で軽く
触れて表向の粘層性を調べた。
2)岐に対する溶解性試験:1)項と同様な条件で作製
したポリエステルフィルム試験片を工%塩酸、1%酢酸
水溶液の四℃中に浸漬して+J1膜の溶解性について調
べた。
したポリエステルフィルム試験片を工%塩酸、1%酢酸
水溶液の四℃中に浸漬して+J1膜の溶解性について調
べた。
3)感度および分光感度:各調製感光液を砂目立てした
ポリエステルフィルム上に乾燥破膜が2〜3μの厚さに
なるように80℃で1時間熱風乾燥させた試験片被膜上
に21段1偕の連続調製嬢度Th 有するコダックフオ
ートN112を真空密着し露光および現像 (光源:ケミカルランプ、照射強度1.05mJ/cJ
sec。
ポリエステルフィルム上に乾燥破膜が2〜3μの厚さに
なるように80℃で1時間熱風乾燥させた試験片被膜上
に21段1偕の連続調製嬢度Th 有するコダックフオ
ートN112を真空密着し露光および現像 (光源:ケミカルランプ、照射強度1.05mJ/cJ
sec。
露光時間:真空密着、60秒、
Uij’4!:現像液1チ酢酸、現像時間加秒)を行っ
て、感度(ステップタープレット残存段数、最低固化光
量)、分光感度を11111定した。なお最低固化光量
は式QL =ATt [A :照射強度(m、T/cJ
−sea)、t:MK光時間(SθC)、T:ステップ
タープレット残存段数の最低透光率〕である。
て、感度(ステップタープレット残存段数、最低固化光
量)、分光感度を11111定した。なお最低固化光量
は式QL =ATt [A :照射強度(m、T/cJ
−sea)、t:MK光時間(SθC)、T:ステップ
タープレット残存段数の最低透光率〕である。
なお、比較例1.2は現像液として1%炭酸ナトリウム
水浴液、比較例3はトリクレン溶剤を用いて現1故を行
った。
水浴液、比較例3はトリクレン溶剤を用いて現1故を行
った。
4)支持板との密着性:各調製感光液を砂重量てしたア
ルミニウム、銅張り積層板上に乾燥被膜が2〜:うμ厚
さになるように塗布し、80℃で1時間乾燥させた試験
片にケミカルラング(IIは射’a IJt ] 、0
5 mJ/cr111 sea)を用いて60秒間h’
E光をなした後試験片破膜をゴバン目カットし、セロテ
ープ剥離試験によって評価。
ルミニウム、銅張り積層板上に乾燥被膜が2〜:うμ厚
さになるように塗布し、80℃で1時間乾燥させた試験
片にケミカルラング(IIは射’a IJt ] 、0
5 mJ/cr111 sea)を用いて60秒間h’
E光をなした後試験片破膜をゴバン目カットし、セロテ
ープ剥離試験によって評価。
5)解像度:4)$と同様な条件で熱ノ虱乾保させ、作
製し7た試験片被膜上に網点チャートを缶着させ4)項
と同様な条件で露光した後表2に示した条件で現像を行
って観察した。
製し7た試験片被膜上に網点チャートを缶着させ4)項
と同様な条件で露光した後表2に示した条件で現像を行
って観察した。
耐熱ハンダ性:4)項と同様な条件で作製した露光後の
試験片と露光後さらに180 ℃X 2Q分でポストキ
ュアーした試験片を用いて表2に示した条件で試験を行
った。
試験片と露光後さらに180 ℃X 2Q分でポストキ
ュアーした試験片を用いて表2に示した条件で試験を行
った。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 ポリブタジェン系樹脂を骨格となし、該分子骨格
中に塩基性アミン基を有し、かつ感光基を含有せしめて
なることを特徴とするポリブタノエン系感光性樹脂。 2、 ポリブタツエン系樹脂が数平均分子量200〜2
0,000″′Cあって重合体鎖の40チ以上がブタノ
エン年位からなる特許請求の範囲第1項記載の感光性樹
脂。 3、 ポリブタジェン系樹脂が分子内に少なくとも1.
5個以上のエポキシ基を有する特許請求の範囲第1項記
載の感光性樹脂。 4、 ポリブタジェン系樹脂中に含有するエポキシ基に
塩基性アミン化合物を反応せしめ、得られた反応化合物
にさらに感光基を有し、かつ反応性官能基を有する化合
物を反応せしめてなることを特徴とするポリブタジェン
系感光性樹脂の製造方法。 5、 ポリブタノエン系樹脂を骨格となし、該分子骨格
中に塩基性アミン基を有し、かつ感光基を含有せしめて
なるポリブタジェン系感光性樹脂と光開始剤および/ま
たは添加剤からなる感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1976883A JPS59147346A (ja) | 1983-02-10 | 1983-02-10 | 酸現像ポリブタジエン系感光性樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1976883A JPS59147346A (ja) | 1983-02-10 | 1983-02-10 | 酸現像ポリブタジエン系感光性樹脂 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59147346A true JPS59147346A (ja) | 1984-08-23 |
Family
ID=12008512
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1976883A Pending JPS59147346A (ja) | 1983-02-10 | 1983-02-10 | 酸現像ポリブタジエン系感光性樹脂 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59147346A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH021858A (ja) * | 1988-06-13 | 1990-01-08 | Kansai Paint Co Ltd | 光重合性組成物 |
WO2000028383A1 (fr) * | 1998-11-09 | 2000-05-18 | Clariant International Ltd. | Composition de resine radiosensible |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50123149A (ja) * | 1974-03-15 | 1975-09-27 | ||
JPS5316048A (en) * | 1976-07-29 | 1978-02-14 | Nippon Oil Co Ltd | Cathod-depositing coating composition and its preparation |
JPS5415789A (en) * | 1977-06-17 | 1979-02-05 | Chino Works Ltd | Hourly integrating device for temperature changing stepwise |
JPS55783A (en) * | 1979-05-21 | 1980-01-07 | Toyobo Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPS55784A (en) * | 1979-05-21 | 1980-01-07 | Toyobo Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPS5535373A (en) * | 1978-09-04 | 1980-03-12 | Kansai Paint Co Ltd | Photosensitive resin composition for screen process |
JPS55137125A (en) * | 1979-04-12 | 1980-10-25 | Nippon Soda Co Ltd | Production of polybutadiene-modified epoxy resin |
JPS56151777A (en) * | 1980-04-28 | 1981-11-24 | Nippon Oil Co Ltd | Production of cathode-deposition type electrocoating |
-
1983
- 1983-02-10 JP JP1976883A patent/JPS59147346A/ja active Pending
Patent Citations (8)
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WO2000028383A1 (fr) * | 1998-11-09 | 2000-05-18 | Clariant International Ltd. | Composition de resine radiosensible |
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