JPS5913921A - モノクロメ−タ− - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、 （ａ）入射スリット、 （ｂ）光軸の分散意向で入射光束が波長に応じて異なる
角で現われる光束へと分散される、光軸上に位置した分
散点を有する第１の分散要素、（（２）前記分散点を有
する第２の分散要素、（ｄ）第１の分散要素と第２の分
散要素との間の光路内に位置ｌ−だ平面−」二に入射ス
リットのスペクトル分散実像を発生させるための第１の
像光学装置、かつ （ｅ）該面−トに配置された中間スリットよりなる、可
変波長を有するモノクロメータ−に関する。

モノクロメータ−の場合、スペクトル分散すべき光束は
、入射スリットに入る。光束は、入射スリットから分散
要素、例えば回折格子又はプリズムに向かう。分散要素
は、入射光線を波長の１つの機能として分散させる。こ
の光線は、波長の１つの機能として異なる方向に向かう
。

入射スリットの像は、スペクトル分散光束を用いて像光
学装置によって発生される。この入射スリットの像は、
相応してスペクトル分散され、かつスペクトルを形成す
る。固定の射出スリットは、このスペクトルの平面内に
配置されており、この平面を通じて一定波長の射出スリ
ット放射線は、モノクロメータ−から現われる。現われ
る光線の波長を変えるために、光学要素は回転される。

この光学要素は、例えばプリズムモノクロメータ−中の
リトロ−型鏡であることができるか又は回折格子モノク
ロメータ−中の回折格子であることができる。直線的波
長又は波数目盛を得るだめに、回転は、所望の波長の定
められた機能に応じて実施されなければならない。回折
格子スペクトロメーターの場合、例えば回転は、正弦機
能に応じて実施される。

このような非直線的駆動は、複雑でありかつ高価である
。

スペクトル範囲を数回走査すべき場合には、回転可能な
光学要素をその初期位置に戻す必要がある。このような
波長範囲の周期的走査の頻度は、その初期位置に戻すこ
とによって大きく制限されている。

所望の光線以外に望ましくない波長（迷光）の光線も実
際に射出スリットを通じて現われる。

この迷光成分を減少させるために、ダブルモノクロメー
タ−は、公知である。このようなダブルモノクロメータ
−は、光線が入射スリットから向けられる第１の分散要
素よりなる。第１の分散要素及び像光学装置は、スペク
トルを中間スリットの平面内に発生させる。従って、こ
の中間スリットは、一定の所望の波長の光線を透過する
にすぎないが、この場合この光線は、一定の迷光成分に
よって重ねられている。中間スリットは、第２の分散要
素を有する第２のモノクロメータ−の場合の入射スリッ
トを表わす。

第２の分散要素によって再び分散される光線は、スペク
トルとして射出スリットの面内に収束さね、る。この射
出スリットは、中間スリットとしてこの同じ波長のスペ
クトル光線から透過する。

この場合にも、迷光は、成分の散乱及び欠陥によって発
生しうる。しかし、実質的に所望の波長の光線だけを中
間スリットを介して前段モノクロメータ−から主モノク
ロメータ−へ通す場合には、迷光は、既に小さい入射部
分の小部分を表わしうるにすぎない。この場合にも、波
長は、光学構成部材を変位させることによって調節され
、この場合前段モノクロメータ−及び主モノクロメータ
−の構成部材は、同期的に所望の波長で変位されなけれ
ばならない。

本発明の目的は、分散要素がケーシングに固定されてい
る、可変波長を有するモノクロメータ−を得ることであ
る。

殊に、このモノクロメータ−は、ス被りトルの迅速な周
期的走査を行なうことができる。迷光は、前段モノクロ
メータ−及び主モノクロメータ−において同期的に変位
されなければならない光学構成部材なしにダブルモノク
ロメータ−の場合のように抑制されることができる。

本発明によれば、この目的は、 （ｆ）第１の分散要素の分散点が第２の像光学装置によ
って第２の分散要素の分散点に結像され、（ｇ）中間ス
リットが波長を変えるために横に可動であり、 （ｌ〕）第２の分散要素が該分散要素が第１の分散要素
によって分散されかつ第２の光学装置にょって分散点に
向かって１つの単一波長光束に変わる光束を実質的に再
び組合せる程度に配置されていることによって達成され
る。

ダブルモノクロメータ−の場合、主モノクロメータ−は
、前段モノクロメータ−の光線ヲスペクトル分散させ、
本発明の場合、第１の分散要素によってスペクトル分散
された光線の通路は、不変の光線ビームに再び組合され
る。ス被りトルは、入射スリン］・のスペクトル分散実
像の平面内で横に可動する中間スリットによって走査さ
れる。常用のモノクロメータ−の場合の横に可動する射
出スリットとけ異なり、モノクロメータ−から現われる
光束の形状は、中間スリットの横移動によって影響を蒙
らない。射出スリットを波長を走査するために常用のモ
ノクロメータ−中で発生したスペクトルにわたって移動
させる場合には、問題が存在する。それというのも、射
出スリットは、像光学系によって検知器に結像されるか
らである。

更に、本発明の他の実施態様は、特許請求の範囲第２項
〜第１８項のいずれか１項に記載されている。

次に、本発明の実施態様を添付図面に関連してさらに詳
細に記載する。

１０は、光源を表わし、この光源は、凹面鏡１２によっ
て入射スリット１４上に結像される。

光束の軸光線１６は、点１８で凹面格子として形成され
た第１の分散要素に衝突する。第１の分散要素２０は、
波長の１つの機能として発散光束２２を発生させる。２
４及び２６は、異なる波長に関連した光束の軸光線を表
わす。凹面格子として形成された第１の分散要素２０は
、入射スリット１４のスペクトル分散実像を平面２８内
に発生させる。回転可能なディスク３゜は、この平面２
８内に配置されている。

ディスク３０は、第２図に詳説されている。

３２は、ディスク３０の回転軸を表わす。ディスク３０
は、螺旋スロット３４を有する。このスロット３４の一
部は、平面２８内で発生したスペクトル３６にわたって
拡がり、したがって中間スリット３８を形成する。

点１８は、光軸上に配置された分散要素２０の分散点を
表わし、この分散点で入射光束は、波長に応じて異なる
角で現われる光束、例えば２４及び２６に分散される。

凹面鏡４０は、この分散点１８を凹面格子として形成さ
れた第２の分散要素４４の分散点４２に結像する。

分散点４２に集束する集束光線４６は、第２の分散要素
４４によって単一波長光線４８に組合される。凹面鏡４
０及び凹面格子（第２の分散要素５４）は、像平面２δ
を平面５０に結像する。射出スリット５２は、平面５０
内に配置されている。

入射スリット１４は、十分に狭い光源によって代えるこ
ともできる。この場合、光源それ自体は、本発明の範囲
内でゝゝ入射スリット“とし゛て役立つ。

好ましい実施態様の場合、ディスク３０は、一定の回転
速度で時計廻り方向に駆動される。

次に、中間スリット３８として役立つ螺旋スロット３４
の一部は、固定スペクトル３６にわたつて左から右へ移
動し、次に左へ跳ね戻り、その結果スペクトルは、第２
図で左から右−・迅速に連続的に走査される。スロット
３４は、ディスク３０の回転角のインクレメントが等し
いことにより中間スリット３８を等しい波長のインクレ
メントに相当する距離によって入射スリット１４のスペ
クトル分散像３６に対して変位する程度に螺旋形に形成
されている。螺旋スロット３４の幅は、実質的に不変の
スペクトルスリット 度にこの螺旋スロットに渚って変化する。こうして、ス
ペクトルは、不変のスペクトル形で次第に直線的に走査
される。走査は、勿論波長の代りに波数が次第に直線的
に変化する程度に実施することもできる。

中間スリット３８を形成するスロツｌ−３４の一部は、
僅かに湾曲している。螺旋の曲率は、ディスク３０の中
心に向って増大する。スペクトル形のスリット曲率は、
左から右へ増大し、スリットは、左へ凸に湾曲している
。これは、少なくとも本質的にスリット像の形状に相当
する。公知のように、格子は、湾曲したスリット像を生
じ、曲率は、波長とともに増大し、凸側は、スペクトル
の短波端に向けられている。スペクトルが短い波長を左
に有しかつ長い波長を右に有する場合には、スリット像
は、左へ凸に湾曲されており、その曲率は、右へ増大す
る。

このスリット像の曲率は、真直な入射スリンｉ・で得ら
れる。このスリット像の曲率は、入射スリットの僅かな
曲率によって１つの方向又はその他の方向に向って変化
することができる。それによって、スリット曲率と、中
間スリット３８を形成する螺旋スリット３４の一部の曲
率との光学的適合を達成することができる。第１の分散
要素２０を形成する格子によって発生される曲率は、第
２の分散要素４４を形成する格子によって少なくとも部
分的に補正されており、したがってほぼ波長から独立し
た真直なスリット像は発生される。

前記したモノクロメータ−は、同時にダブルモノクロメ
ータ−の機能を有し、かつ相応して少ない迷光を有する
。このモノクロメータ−は、ダブルモノクロメータ−の
全ての特徴を示し、すなわちそれは、入射スリット１４
、第１の分散要素２０、中間スリット３６、第２の分散
要素４４及び射出スリット５２を有する。

迷光の減少は、全部のダブルモノクロメータ−の場合と
同様に説明することができる。

第１の分散要素２０上の妨害中心（粉塵、表面の不規則
性）に帰因して、所定の波長の光線が中間スリット３８
を通過するだけでなく、他の波長の光線の小部分（迷光
）もこの中間スリットを通過する。次に、光線は、第２
の分散要素４４に衝突する。この第２の分散要素は、所
望の波長の光線を射出スリット５２に向けるが、他の波
長の部分は主に射出スリット５２のスリット開口の外に
向ける。従って、中間スリット３８を通過した迷光の小
部分、すなわち第２の分散要素４４上の分散中心で光軸
に清って分散される部分だけが再び射出スリット５２を
通過する。従って、残留迷光は、小部分の小部分である
。

分散要素２０及び４４は、ＩＪ　）ロー望鏡を有するプ
リズムによって形成することもできる。

格子の場合、分散点１８及び４２は実像点である。プリ
ズムの場合、分散点は虚像点である。

螺旋スロット３４の幅は、一定のスペクトルスリット幅
の代りに一定の信号が検知器で得られる程度に、すなわ
ち光束と検知器感度との積が一定になる程度にプログラ
ミングすることもできる。これは、小さい動的範囲を有
する検知器の場合に必要とされる。

本発明による型のモノクロメータ−は、普通の格子モノ
クロメータ−の前段モノクロメータ−と同様にプリズム
を分散要素として用いる実施態様に役立つことができる
。更に、その主な機能は、望ましくない格子次数を抑制
することである。

刊行物に公知のフィルターに比して、このような前段モ
ノクロメータ−は、フィルターの使用に関連した問題、
例えば百・ξ−セントラインの段差又は高い試料吸光で
の迷光による段差が回避されるという利点を提供する。

普通のプリズム前段モノクロメータ−に比して、光学構
成部材（ＩＪ　ｌ−ロー警鐘）を回転させる必要がない
という利点が存在する。

格子モノクロメータ−としての実施態様の場合、常用の
格子モノクロメータ−に比して、波長範囲を著しく迅速
に周期的に走査することができるという利点が存在する
。従って、このような格子モノクロメータ−は、例えば
液体クロマトグラフィーのだめの検知器に使用すること
ができる。

望ましくない格子次数を抑制するのに必要とされるフィ
ルターを直接にディスク３０上に配置すると、フィルタ
ーを交換する際の記録の場合に段差は回避される。２つ
のフィルター間の境界線は、中間スリットとして作用す
る区分を横切って変位され、したがって連続的移動が達
成される。

第３図の実施態様の場合、５４は、平面格子の形の第１
の分散要素を表わし、５６は、平面格子の形の第２の分
散要素を表わす。格子として形成された２つの分散要素
は、同軸で裏面を向けながら平行に配置されている。第
１の分散要素５４は、入射光束５８を波長の１つの機能
としてスペクトル分散発散光束６０に分散させ、この発
散光束の光束６２及び６４は、それらの軸光線６２及び
６４によって図示されている。

この分散は、光軸上に配置された分散点６６で行なわれ
る。凹面鏡６８の形の第１の像光学装置は、入射スリン
）７０の実像を平面７２で発生させ、この場合この面は
、実質的に第３図に図示した配置の中心平面である。同
時に、凹面鏡６８は、分散点を無限遠に結像する。それ
故に、光束６２及び６４の軸光線は平行である。

第２の凹面鏡７４は、平行発散光束６２，６牛を第２の
分散要素５６の分散点７６上へと向ける。それ故に、光
束６２及び６４の軸光線が示すように、第１の分散要素
５４の分散点６６は、２つの凹面鏡６８及び７４によっ
て第２の分散要素の分散点７６上に結像される。２つの
凹面鏡６８及び７４は一緒になって、本発明の範囲内で
ゝゝ第２の像光学装置“を形成する。

第２の分散要素５６は、第１の分散要素５４が凹面鏡６
８に対して配置されているのと同様に凹面鏡７４に対し
て配置されている。光束６２の軸光線は、光束６４の軸
光線よりも分散要素５４の格子法線に対して小さい角で
出発し、かつ凹面鏡６８及び７４での複反射によって光
束６４の軸光線は相応して、光束６４の軸光線よりも格
子法線に対して小さい角で分散要素５６に衝突すること
が認められる。配置は、完全に対称である：分散要素５
４及び５６を形成する２つの格子は、中心平面７２に対
して対称でありかつ平行である。２つの凹面鏡６８及び
７生は、互いに向い合ってこの中心平面７２に対して対
称的に配置されている。互いに向い合った２つの凹面鏡
６８及び７４は、凹面鏡６８及び７４の頂点を結ぶ直線
７８に対して反対方向に傾斜している。

凹面鏡６８の光軸は、直線７８に対して逆時計廻り方向
に回転されている。凹面鏡７４の光軸は、直線７８に対
して時計廻り方向に回転されている。直線７８は、中心
平面７２に対して垂直である。凹面鏡間のスペクトル発
散光束６２．６４は、この直線７８に対して平行である
。

入射スリット７０のスペクトル分散実像は、既述したよ
うに実質的に中心平面７２内に位置している。従って、
第１の分散要素５４によって分散されかつ第２の光学装
置６８．７４によって第２の分散要素５６の分散点７６
上に向けられる光束６２．６４は、単一波長光束８ｏに
再び組合される。

第２の分散要素５６で発散光束６２．６４を再び組合せ
ることによって発生される光束８０の光路内で、入射ス
リット７０のもう１つの像は、中心平面７２に対してこ
の入射スリット７０と対称の凹面鏡７６によって発生さ
れる。射出スリット８２は、このもう１つの像の平面内
に配置されている。

中心平面７２内でディスク８４は、軸８６を中心に回転
する。ディスク８４は、螺旋スリン１−　（図示されて
ない）を装備している。ディスク８４−の形状及び入射
スリット７０の像（この像は、中心平面７２内で発生さ
れかつスペクトル分散されている）に対するこのディス
クの配置は、第１図及び第２図の実施態様の記載と同じ
であり、それ故に詳細に図示かつ記載されてない。同様
に、螺旋スロットの一部によって形成された中間スリッ
トは、入射スリット７０のスペクトル分散像にわたって
周期的に掃引する。

フィルターは、望ましくない格子次数を除去するために
装備されている。このフィルターは、第１図及び第２図
に関連した記載と同様に回転ディスク８４上に取付ける
ことができる。しかし、特に好捷しい配置は、第５図に
図示されている。

第５図は、実質的に第３図に相当する。しかし、光束６
２の軸光線だけでなく全光束は、結像のより良好な説明
のために図示されている。

第５図の実施態様の場合、Ａ、Ｂ及びＣによって示され
る固定フィルター８８は、スペクトル発散光束６２．６
４の光路内に配置されているにのフィルター８８は、望
１しくない格子次数の抑制を生じる。固定フィルター８
８をその他の常用のフィルターホイールの代りに使用す
ることができる。それというのも、走査スペクトルは、
常用のモノクロメータ−とは異なり中心平面７２内で静
止しているからである。

フィルター８８は、実質的に中心平面７２内に配置する
ことができる。フィルター８８は、第５図に図示したよ
うに面、すなわち中心平面７２の付近ではあるがそれか
ら一定の距離をもって配置されており、この中心平面内
で第１の像光学装置、すなわち実質的に凹面鏡６８は、
入射スリン）７０のスペク］・ル分散実像を発生する。

それによって、１つのフィルターから次のフィルターへ
の移行は、スペクトルを走査する場合にさらに連続的で
ある。

第４図の実施態様は、原理的に第３図の実施態様と同じ
ものである。相当する要素は、相互に同じ数字で表わさ
れている。中心平面７２の左側で、第４図の配置は、第
３図の配置に完全に適合する。この場合、スペクトルは
、入射スリット７０のスペクトル分散像として実質的に
中心平面７２内で発生され、かつ第２図の方法と同様に
螺旋スロットを有するディスク８４によって走査される
。第３図の場合も第４図の場合も、第２の分散要素５６
は、第１の分散要素５４が第１の凹面鏡６８に対して配
置されているのと同様に第２の凹面鏡７４に対して配置
されている。しかし、第４図の場合、互いに向い合った
２つの凹面鏡６８及び７４は、直線７８に対して同じ方
向に傾斜している。凹面鏡７４の光軸も直線７８に対し
て逆時計廻シ方向に回転されている。

この配置は、光学的に少なからず有利である。

それというのも、この配置は、像の誤差、例えば入射ス
リット７０の像平面の傾斜位置を補正するからである。

第５図及び第４図の実施態様の場合、分散要素５４及び
５６は、平面格子として形成することの代りに凹面格子
として形成することもできる。この場合、２つの凹面鏡
６８及び７４は、異なる焦点距離を有するであろう。

【図面の簡単な説明】

第１図は、光束がその光軸によって図示されている場合
の本発明によるモノクロメータ−の光路を示す光路図、
第２図は、中間スリットを形成する螺旋スロットを有す
る第１図のモノクロメータ−に利用されたディスクを示
す平面図、第３図は、第２の実施態様の場合の本発明に
よるモノクロメータ−の光路を示す光路図、第４図は、
第３の実施態様の場合の本発明によるモノクロメータ−
の光路を示す光路図、かつ第５図は、高い次数を抑制す
るだめのフィルターの好ましい配置を有する、第３図と
同様のモノクロメータ−の光路を示す光路図である。 １４．７０・・・入射スリット、１６．５８・・・入射
光束、１８．４２．６６．７６・・・分散点、２０，５
４・・・第１の分散要素、２２．６０・・・発散光束、
２８．７２・・・平面、３０・・・回転ディスク、３４
・・・螺旋スロット、３６・・・スペクトル分散像、３
８・・・中間スリツ）、４，０．７４・・・第２の凹面
鏡、４−４．５６・・第２の分散要素、４６・・・光束
、４−８　、８０・・・単一波長光束、５０・・像平面
、５２、δ２・・・射出スリット、６２．６４・・平行
発散光束、６８・・・第１の凹面鏡、７８・・・直線、
８８・・・固定フィルター

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　　（ａ、）入射スリット（１４；７０）、（ｂ）
   光軸の分散意向で入射光束（１６；５８）が波長に応じ
   て異なる角で現われる光束（２２；６０）へと分散され
   る、光軸上に配置された分散点（１８；６６）を有する
   第１の分散要素（２０；５４）、 （ｃ）前記分散点（４２；７６）を有する第２の分散要
   素（４４；５６）、 （ｄ）第１の分散要素と第２の分散要素（それぞれ２０
   及び４４；それぞれ５４及び５６）との間の光路内に位
   置した平面（２８；７２）上に入射スリン）（１４；７
   ０）のスペクトル分散実像を発生させるだめの第１の像
   光学装置（２０；６８）及び （８）該平面上に配置された中間スリット（３８）より
   なる、可変波長を有するモノクロメータ−において、 （ｆ）第１の分散要素の分散点（１８；６６）が第２の
   像光学装置（４０；６８；７４）によって第２の分散要
   素（４４；５６）の分散点（４２；　７６　）に結像さ
   れ、 （ｇ）中間スリン）（３８）が波長を変えるために横に
   可動であり、 （→第２の分散要素（４４；５６）が該分散要素が第１
   の分散要素（２０；　５４）によって分散されかつ第２
   の光学装置（４０；６８；７４）によって分散点（４２
   ；７６）に向かって１つの単一波長光束（４８；８０）
   に変わる光束（４６）を実質的に再び組合せる程度に配
   置されていることを特徴とする、モノクロメータ−８ ２２つの分散要素（２０；　４０；　５４；５６）が実
   質的に同一である、特許請求の範囲第１項記載のモノク
   ロメータ−０ ３，２つの分散要素（２０；４４）が凹面回折格子であ
   り、その際第１の分散要素（２０）の凹面形状が入射ス
   リン）（１４）の像を発生させるための像光学装置とし
   て役立つ、特許請求の範囲第２項記載のモノクロメータ
   −８屯　第２の光学装置（４０）が凹面鏡によって形成
   されている、特許請求の範囲第３項記載のモノクロメー
   タ−０ ５射出スリンｌ　（５２；　８２　）が入射スリン１　
   （１４；　７０　）の像の像平面（５０）内で発散光束
   （２２；　６０　）を再び組合せることによって第２の
   分散要素（４４；５６）から発生される光束（４８；８
   ０）の光路内に配置されている、特許請求の範囲第１項
   〜第４項のいずれか１項に記載のモノクロメータ−０６
   、（ａ）２つの分散要素（５４；５６）が格子であり、 （ｂ）第１の像光学装置が第１の凹面鏡（６８）よりな
   り、かつ （Ｃ）第２の像光学装置が第１の凹面鏡（６８）及び第
   ２の凹面鏡（７４）よりなる、特許請求の範囲第１項記
   載のモノクロメータ−０７（ａ）第１の凹面鏡（６８）
   が第１の分散要素（５４）の分散点（６６）を無限遠に
   結像し、同時に入射スリン）（７０）を面（７２）に結
   像し、かつ （ｂ）第２の凹面鏡（７４）が平行発散光束（６２；６
   ４）を第２の分散要素（５６）の分散点（７６）に向け
   る、特許請求の範囲第６項記載のモノクロメータ−０ ８、第２の分散要素（５６）が第１の分散要素の場合と
   同様に第２の凹面鏡（７４）に対して実質的に配置され
   ている、特許請求の範囲第７項記載のモノクロメータ−
   ８ ９（ａ）格子として形成された２つの分散要素（５４；
   　５６　）が互いに裏面を向けて配置されており、かつ （０互いに向い合った２つの凹面鏡（６８；７４）が凹
   面鏡の頂点を結ぶ直線（７８）に対して反対方向に傾斜
   している、特許請求の範囲第７項又は第８項に記載のモ
   ノクロメータＱ １０　　格子が平面格子である、特許請求の範囲第９項
   記載のモノクロメータ−６ １１、（ａ）２つの格子が中心面（７２）に対して対称
   かつ平行であり、 （ｂ）２つの凹面鏡（６８；７４）がこの中心面（７２
   ）に対して対称であり、その際２つの凹面鏡（６８；７
   ４）の頂点を結ぶ直線（７８）がこの中心面（７２）に
   対して垂直に通り、 （ｃ）スペクトル分散光束（６２；６４）が凹面鏡（６
   ８；７４）間のこの直線に対して平行であり、かつ （ｄ）　入射スリット（７０）のスペクトル分散実像が
   実質的に中心面（７２）に位置している、特許請求の範
   囲第９項又は第１０項に記載のモノクロメータ−８ １２、互いに向い合った２つの凹面鏡（６８；７４）が
   直線（７８）に対して同じ方向に傾斜している、特許請
   求の範囲第８項記載のモノクロメータ−０ ■３　　中間スリン）（３８）が回転可能なディスク（
   ３０）に螺旋形で設けられたスロット（３４）の一部に
   よって形成されている、特許請求の範囲第１項〜第１２
   項のいずれか］項に記載のモノクロメータ−８ ■４．　　スロツ）　（３４）が、ディスクの回転角の
   インクレメントに等しいことにより中間スリン）（３８
   ）を等しい波長のインクレメントに相当する距離によっ
   て入射スリット（１４）のスペクトル分散像（３６）に
   対して変位する程度に螺旋形に形成されている、特許請
   求の範囲第１３項記載のモノクロメータ−０■５　　螺
   旋スロツ）（３４）の幅が実質的に不変のスペクトルス
   リット幅を全部の走査波長範囲にわたって達成される程
   度にこの螺旋スロットに清って変化する、特許請求の範
   囲第１３項又は第１４項に記載のモノクロメータ−８１
   ６、分散要素（２０；４４）が格子であり、その際ディ
   スク（３０）が妨害回折次数を抑制するだめのフィルタ
   ーを有する、特許請求の範囲第１３項〜第１５項のいず
   れか１項に記載のモノクロメータ−８ １７、分散要素が格子であり、その際望斗しくない回折
   次数を抑制するための固定フィルター（８８）がスペク
   トル分散光束の光路内に配置されている、特許請求の範
   囲第１項〜第１６項のいずれか１項に記載のモノクロメ
   ータ−〇 ］８．　　フィルターが平面（７２）に接近して配置さ
   れているが、それとの一定間隔を保持しながら配置され
   ており、この一定間隔内で第１の像光学装置（６８）が
   入射スリンｌ−（７０）のスペクトル分散実像を発生さ
   せる、特許請求の範囲第１７項記載のモノクロメータ−
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