JPS5913620A - シリカゲルの製造法 - Google Patents
シリカゲルの製造法Info
- Publication number
- JPS5913620A JPS5913620A JP11847982A JP11847982A JPS5913620A JP S5913620 A JPS5913620 A JP S5913620A JP 11847982 A JP11847982 A JP 11847982A JP 11847982 A JP11847982 A JP 11847982A JP S5913620 A JPS5913620 A JP S5913620A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica gel
- reaction
- water content
- mineral acid
- surface area
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/152—Preparation of hydrogels
- C01B33/154—Preparation of hydrogels by acidic treatment of aqueous silicate solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルカリ珪酸塩と鉱酸との反応によりシリカゲ
ルをイ;する方法に関するものである。
ルをイ;する方法に関するものである。
ンリカゲルノ化学式fi 61102 ・x1%0(x
=0.1−0.3)と表わすことができ、構造的にはホ
ワイトカーボンと同じくゲル状シリカとして分類される
。ホワイトカーボンは超微粉子のコロイド状シリカゲル
の一種で主に合成ゴム等の補強充填材を目的としたもの
が神品化されており、シリカゲルとは区別きれている。
=0.1−0.3)と表わすことができ、構造的にはホ
ワイトカーボンと同じくゲル状シリカとして分類される
。ホワイトカーボンは超微粉子のコロイド状シリカゲル
の一種で主に合成ゴム等の補強充填材を目的としたもの
が神品化されており、シリカゲルとは区別きれている。
シリカゲルの代表的製造法はホワイトカーボンの湿式法
と同じくアルカリ珪酸塩の酸分解であジ、先づ珪酸ゾル
としてゼリー状のものが得られ、これを数時間熟成させ
ることによってヒドロゲルが生成する。このヒドロゲル
中には副生じた可溶性塩が多量に含寸れるため適当に粗
粉砕し、水洗して完全に洗い流す必要がある。
と同じくアルカリ珪酸塩の酸分解であジ、先づ珪酸ゾル
としてゼリー状のものが得られ、これを数時間熟成させ
ることによってヒドロゲルが生成する。このヒドロゲル
中には副生じた可溶性塩が多量に含寸れるため適当に粗
粉砕し、水洗して完全に洗い流す必要がある。
生成したヒドロゲルは水分を通常80重1に%前後含み
、このヒドロゲル中の水分は沖過によυ分離することが
不可能である。従って、ヒドロゲル中の水分を除去する
ためには多大の乾燥エネルギーを要していたものである
。
、このヒドロゲル中の水分は沖過によυ分離することが
不可能である。従って、ヒドロゲル中の水分を除去する
ためには多大の乾燥エネルギーを要していたものである
。
かかる反応の例としては、例えば特公昭56−2172
6号があり、その実施例において5i02 flk度口
5.3fμの珪曹と、比重1.050の硫酸を使用し、
5102の最終濃度50〜+oor/lでシリカを製造
している。この場合最終製品1 kfを得るのに除去さ
せねばならない水の童は4 kfとなっている。また、
同様に特開昭51−136841号においては、Sin
。
6号があり、その実施例において5i02 flk度口
5.3fμの珪曹と、比重1.050の硫酸を使用し、
5102の最終濃度50〜+oor/lでシリカを製造
している。この場合最終製品1 kfを得るのに除去さ
せねばならない水の童は4 kfとなっている。また、
同様に特開昭51−136841号においては、Sin
。
濃度9.52%の珪1と濃度】1.4%の硫酸を使用し
、反応最終時の810.濃度を8%となるように1べ合
している。この場合のウェットケーキ中の水分は86え
と77っている。このように従来、アル−カリ珪峨堪の
鉱酸分解においては比較的希薄浴液中でおこなわれてお
り、装置が大型化する欠点を弔すると同時に、反応、副
生物である可溶性塩類銭1現もイ11薄済液となりこれ
を回収する場合K 多大6.エネルギーを便する。
、反応最終時の810.濃度を8%となるように1べ合
している。この場合のウェットケーキ中の水分は86え
と77っている。このように従来、アル−カリ珪峨堪の
鉱酸分解においては比較的希薄浴液中でおこなわれてお
り、装置が大型化する欠点を弔すると同時に、反応、副
生物である可溶性塩類銭1現もイ11薄済液となりこれ
を回収する場合K 多大6.エネルギーを便する。
擾た、従来の方法によりシリカゲルを得る場合、^((
述した如(S]02を洗浄(7た後のウェットケーキの
水分は80車量′y;程度となるものである。かかる大
量に水分を含有した71ツカゲルを乾燥して製品とする
ためには多大の熱エネルギーを映すものであった。特に
酸性側で反応をやiつだ場合にはゾル・クルの混合物と
なり、このまま水洗を行ったのではゾルが洗浄水と共に
流出するため好ましくなく、リノクルブ方式で洗浄する
場合には洗浄水金てがゲル中に含せれることとなり極め
て水分量の多いゲルとなるものである。従って、このよ
うな場合には、得られた混合物の熟成ケ兼ねて2時間以
上+2J混合をイテなわなけれはならない。このように
従来法では、熟成混合のエネルギー、水分蒸発のエネル
ギーは多大のものであり問題の多いものであった。
述した如(S]02を洗浄(7た後のウェットケーキの
水分は80車量′y;程度となるものである。かかる大
量に水分を含有した71ツカゲルを乾燥して製品とする
ためには多大の熱エネルギーを映すものであった。特に
酸性側で反応をやiつだ場合にはゾル・クルの混合物と
なり、このまま水洗を行ったのではゾルが洗浄水と共に
流出するため好ましくなく、リノクルブ方式で洗浄する
場合には洗浄水金てがゲル中に含せれることとなり極め
て水分量の多いゲルとなるものである。従って、このよ
うな場合には、得られた混合物の熟成ケ兼ねて2時間以
上+2J混合をイテなわなけれはならない。このように
従来法では、熟成混合のエネルギー、水分蒸発のエネル
ギーは多大のものであり問題の多いものであった。
また、シリカゲルは柚々の用途に供さ21ており、そI
Lぞれの用途に合った所望の物性が装求されている。例
えば、両層用では他層性、屈折率が、顔料用としてはチ
クノドoピックな性質、見掛比重が、また、ゴム、プラ
スチックの充填材としては当然のことながら物理的強度
の向上が重視され、乾燥剤用としては比表1j檀が物性
の尺度となっている。このように、神々の用途に応じて
装求される物性はそれぞれ異なるが、前記した物性以外
に粉体として代表的な物性の尺度としては比表面積が挙
げられ、用途、グレードにより幅広い範囲の、も0が安
水されるものである。この比表面積及び前記した各物性
全支配する因子としては、次のようなものがある。
Lぞれの用途に合った所望の物性が装求されている。例
えば、両層用では他層性、屈折率が、顔料用としてはチ
クノドoピックな性質、見掛比重が、また、ゴム、プラ
スチックの充填材としては当然のことながら物理的強度
の向上が重視され、乾燥剤用としては比表1j檀が物性
の尺度となっている。このように、神々の用途に応じて
装求される物性はそれぞれ異なるが、前記した物性以外
に粉体として代表的な物性の尺度としては比表面積が挙
げられ、用途、グレードにより幅広い範囲の、も0が安
水されるものである。この比表面積及び前記した各物性
全支配する因子としては、次のようなものがある。
(イ)反応液中のSl・J2#度
(ロ)反応温度、反応pH
(ハ) 中和速度
(に)1を解質が共存する場合としない場合(ホ) 咀
m値の濃度と種類 (へ)攪拌強度 (ト) 熟成偏度 例えば、比六面撰は、(ロ)の反応温11J−1反応時
pHにより犬さく巻なる傾向を有し、酸性領域では高い
比表面積を有するシリカゲルが、壕だ、アルカリ性領域
では低い比表m1稙を有するシリカゲルが得らJ1易い
ものであった。しかし、厳密には、従来の方法において
は、反応時のpHが同一であっても反応時の810□濃
度によって大幅に比表面積が変化するため、実際には、
特定の比表面積を有するシリカゲルを得るのは、必ずし
も容易なものではなかった。
m値の濃度と種類 (へ)攪拌強度 (ト) 熟成偏度 例えば、比六面撰は、(ロ)の反応温11J−1反応時
pHにより犬さく巻なる傾向を有し、酸性領域では高い
比表面積を有するシリカゲルが、壕だ、アルカリ性領域
では低い比表m1稙を有するシリカゲルが得らJ1易い
ものであった。しかし、厳密には、従来の方法において
は、反応時のpHが同一であっても反応時の810□濃
度によって大幅に比表面積が変化するため、実際には、
特定の比表面積を有するシリカゲルを得るのは、必ずし
も容易なものではなかった。
本発明者らはこれら従来法の問題点全解決すべく鋭意検
討した結果、怠外にも反応液中の8102濃度を15j
ij量%以上に保ったときには、これら問題点が一挙に
解決されることを見出し本発明に到達したものであるつ
すなわち本発明は、5102#度か15重量比以上にな
るようにアルカリ珪酸塩と鉱酸を配合、反応させること
を%徴とするシリカゲルの製造法である。
討した結果、怠外にも反応液中の8102濃度を15j
ij量%以上に保ったときには、これら問題点が一挙に
解決されることを見出し本発明に到達したものであるつ
すなわち本発明は、5102#度か15重量比以上にな
るようにアルカリ珪酸塩と鉱酸を配合、反応させること
を%徴とするシリカゲルの製造法である。
本発明においては、鉱酸及びアルカリ珪酸塩を反応時の
液中の5it)2磯展が少なくとも15垂駿%以上にな
るように調合するものでf/)す、より好ましくは20
M量%以上に調合する。また、上限は時にないが、あま
りに高濃度とした場合には後述するように均一な連杵が
困靜となるため、攪拌装置によっても差はあるが一般的
には5o恵iX以下が好棟しい。この場合の調合方法と
しては、種々の態様が可能であり、!/、酸あるいはア
ルカリ珪酸塩のいずれも水にて希釈調節し得るものであ
るが、鉱酸として濃硫酸を使用する場合には硫酸の方を
希釈する方が希釈熱を予め除くことができるため、反応
温m−の調節が容易となり好ましい。
液中の5it)2磯展が少なくとも15垂駿%以上にな
るように調合するものでf/)す、より好ましくは20
M量%以上に調合する。また、上限は時にないが、あま
りに高濃度とした場合には後述するように均一な連杵が
困靜となるため、攪拌装置によっても差はあるが一般的
には5o恵iX以下が好棟しい。この場合の調合方法と
しては、種々の態様が可能であり、!/、酸あるいはア
ルカリ珪酸塩のいずれも水にて希釈調節し得るものであ
るが、鉱酸として濃硫酸を使用する場合には硫酸の方を
希釈する方が希釈熱を予め除くことができるため、反応
温m−の調節が容易となり好ましい。
本発明において用いられるアルカリ珪酸−としては珪酸
ナトリ1クム、珪酸カリウム、珪酸リチウム等が挙げら
ハるが、一般的にeユ安価な珪酸ナトリウムが用いられ
る。また鉱酸としでは硫酸、塩酸、硝酸及びリン酸等が
挙けら才1、最も一般的には硫酸が用いられる。
ナトリ1クム、珪酸カリウム、珪酸リチウム等が挙げら
ハるが、一般的にeユ安価な珪酸ナトリウムが用いられ
る。また鉱酸としでは硫酸、塩酸、硝酸及びリン酸等が
挙けら才1、最も一般的には硫酸が用いられる。
次に本発明における反応の経過について詳述する。
アルカリ金属珪酸塩と鉱酸1sio2濃度が15M斂%
以上で設定pHになるように原料で仕込むと全体は氷塊
状のかた凍りとなる。これを攪拌するとかた凍りがほぐ
れ、ミゾレ状となって攪拌羽根に付着して餅状の粘着性
を不すようになる。さらに攪拌を続けると水分が浸出し
てきてさらさらの液状態となる。この時点で反応を完了
し11〆過、水洗、乾燥を行なえばよく、かかる条件F
では反応は約1時間で完了し、Y1紳過、水洗により得
られたヒドロゲルは含水率が60%以下と低いものが得
られる。このように、本発明によれば、/1(1過性、
洗浄性とも極めて良好であり、洗浄水も少量で十分であ
る。この理由については必ずしも明確ではないが、使用
する原料#度が高いためシリカゲルの晶出時ゾルを経由
しないか、または経由しても極めて短時間で終了するた
めと考えられる。すなわち、鉱酸とアルカリ珪酸塩が接
触した瞬間に反応、が終了し、シリカが遊離するため水
分子が殆ど関与せずに反応が完結し、シリカゲルが晶出
するためと考えられる。
以上で設定pHになるように原料で仕込むと全体は氷塊
状のかた凍りとなる。これを攪拌するとかた凍りがほぐ
れ、ミゾレ状となって攪拌羽根に付着して餅状の粘着性
を不すようになる。さらに攪拌を続けると水分が浸出し
てきてさらさらの液状態となる。この時点で反応を完了
し11〆過、水洗、乾燥を行なえばよく、かかる条件F
では反応は約1時間で完了し、Y1紳過、水洗により得
られたヒドロゲルは含水率が60%以下と低いものが得
られる。このように、本発明によれば、/1(1過性、
洗浄性とも極めて良好であり、洗浄水も少量で十分であ
る。この理由については必ずしも明確ではないが、使用
する原料#度が高いためシリカゲルの晶出時ゾルを経由
しないか、または経由しても極めて短時間で終了するた
めと考えられる。すなわち、鉱酸とアルカリ珪酸塩が接
触した瞬間に反応、が終了し、シリカが遊離するため水
分子が殆ど関与せずに反応が完結し、シリカゲルが晶出
するためと考えられる。
本発明方法によれば従来法と異なり、シリカゲル中の水
分が浸出するために博過処理ができるため含水率を極め
て低くすることができるとともにアルカリ珪酸塩原料に
由来するA1、Fθ等の金属不純物も母液側に移行させ
ることができるもので極めて純粋なシリカゲルが得られ
るものである。このため、不純物を極度に嫌うセラミッ
クス原料としても用い得るものである。本発明のように
810.濃度15N景%以上での反応ではゾル化の期間
が非常に短いため反応物は瞬時に固化し、従来法の如き
緩徐攪拌では十分混合が行なわれず、目的のシIJ )
)ゲルが得られない。従って本発明を良好におこなうた
めには、固化した中間反応物を十分解砕して反応を完結
させるべく強力な剪断力を与える混合機を用いることが
必要であり、例えは捏和機、ダフリレロールスクリュー
ミキサー、高速ミキサー等の強力な撹拌装置か推奨され
る。
分が浸出するために博過処理ができるため含水率を極め
て低くすることができるとともにアルカリ珪酸塩原料に
由来するA1、Fθ等の金属不純物も母液側に移行させ
ることができるもので極めて純粋なシリカゲルが得られ
るものである。このため、不純物を極度に嫌うセラミッ
クス原料としても用い得るものである。本発明のように
810.濃度15N景%以上での反応ではゾル化の期間
が非常に短いため反応物は瞬時に固化し、従来法の如き
緩徐攪拌では十分混合が行なわれず、目的のシIJ )
)ゲルが得られない。従って本発明を良好におこなうた
めには、固化した中間反応物を十分解砕して反応を完結
させるべく強力な剪断力を与える混合機を用いることが
必要であり、例えは捏和機、ダフリレロールスクリュー
ミキサー、高速ミキサー等の強力な撹拌装置か推奨され
る。
このように本発明によれは、反応、物中の水分が悴めて
低いためにコンパクトな混曾I幾を用いることがb」能
で、従来のシリカケルの製法のごとき大型の反応装置t
’r用いることから解放され、θと遇することによっ
て低水分のシリカゲルが得らノするので乾燥エネルギー
も従来法に比較し、174以下にすることができるもの
である。ちなみに従来法、すなわち、反応液の5107
濃度15軍量%未滴の希薄溶液での反応でシリカゲルを
得る場合の乾燥エネルギーを示すと、前記した如く熟成
及びゲルの脱水乾燥の和となり、製品シリカゲル10(
lokgを得るために必要な蒸気量は化学プロセス集成
(株式会社東京化学同人発行)によれば255tもの美
大な緻となっている。この仙は効率等の問題もあり、厳
密なものではないが、いずれにしてもシリカゲル100
0kgを得るためには従来法の場合4000kF以上の
水を蒸発させねばならないのに対し、本発明によれば蒸
発水量は1000に9程展と従来法の1/4以−■・で
十分であり、極めて工業的に有利なものとなる。
低いためにコンパクトな混曾I幾を用いることがb」能
で、従来のシリカケルの製法のごとき大型の反応装置t
’r用いることから解放され、θと遇することによっ
て低水分のシリカゲルが得らノするので乾燥エネルギー
も従来法に比較し、174以下にすることができるもの
である。ちなみに従来法、すなわち、反応液の5107
濃度15軍量%未滴の希薄溶液での反応でシリカゲルを
得る場合の乾燥エネルギーを示すと、前記した如く熟成
及びゲルの脱水乾燥の和となり、製品シリカゲル10(
lokgを得るために必要な蒸気量は化学プロセス集成
(株式会社東京化学同人発行)によれば255tもの美
大な緻となっている。この仙は効率等の問題もあり、厳
密なものではないが、いずれにしてもシリカゲル100
0kgを得るためには従来法の場合4000kF以上の
水を蒸発させねばならないのに対し、本発明によれば蒸
発水量は1000に9程展と従来法の1/4以−■・で
十分であり、極めて工業的に有利なものとなる。
さらに、反ル6液の5i(J2濃度〒15車策比以上と
した場合には、得られるシリカケルの比表面積はその製
置によらず、鉱酸、アルカリ珪酸塩の(A≦加方法によ
って多少異なるものの、反応温度、反応pHにより8易
に制御できる。例えば、比表面積500rrVf以上の
シリカケルを得るためには反応温度60℃以下で反応終
了時のpH13,5以下にすればよい。この時の反応の
状態は鉱酸にアルカリ珪酸塩を添加するのと、アルカリ
珪I[4に鉱酸を添加するのと、アルカリ珪酸塩と鉱酸
を同時に添加するのと微妙に異なっている。鉱酸にアル
カリ珪酸塩を冷加する場合は反応初期は非常に粘性が高
いが、目的pHに到達し約10分間ぐらい混練すると粘
性〃;低ドしてくる。一方、アルカリ珪酸塩に鉱酸を添
加すると反応初期から目的pHに到達[7、約10分間
ぐらい混練しても粘性に変化はない。又、アルカリ珪酸
塩と鉱酸を同時に添加する方法は目的pHによつ−Cそ
の粘性は大幅に異なり、−概に言えないが、アルカリ性
の方が酸性の場合より粘性は高くなる。又、本発明で特
徴的なのは、同−比表面積を得るために反尾、終r時の
pHを同一にしても鉱酸にアルカリ珪酸i4を冷加する
場合とアルカリ珪酸塩に鉱酸を礒JFaするのと見掛比
重が大幅に異なってくる。例えば98%の硫酸に珪曽(
iJ10229%。
した場合には、得られるシリカケルの比表面積はその製
置によらず、鉱酸、アルカリ珪酸塩の(A≦加方法によ
って多少異なるものの、反応温度、反応pHにより8易
に制御できる。例えば、比表面積500rrVf以上の
シリカケルを得るためには反応温度60℃以下で反応終
了時のpH13,5以下にすればよい。この時の反応の
状態は鉱酸にアルカリ珪酸塩を添加するのと、アルカリ
珪I[4に鉱酸を添加するのと、アルカリ珪酸塩と鉱酸
を同時に添加するのと微妙に異なっている。鉱酸にアル
カリ珪酸塩を冷加する場合は反応初期は非常に粘性が高
いが、目的pHに到達し約10分間ぐらい混練すると粘
性〃;低ドしてくる。一方、アルカリ珪酸塩に鉱酸を添
加すると反応初期から目的pHに到達[7、約10分間
ぐらい混練しても粘性に変化はない。又、アルカリ珪酸
塩と鉱酸を同時に添加する方法は目的pHによつ−Cそ
の粘性は大幅に異なり、−概に言えないが、アルカリ性
の方が酸性の場合より粘性は高くなる。又、本発明で特
徴的なのは、同−比表面積を得るために反尾、終r時の
pHを同一にしても鉱酸にアルカリ珪酸i4を冷加する
場合とアルカリ珪酸塩に鉱酸を礒JFaするのと見掛比
重が大幅に異なってくる。例えば98%の硫酸に珪曽(
iJ10229%。
N〜09%うを為加し、反応最終時pHf 3.5にな
るようにして製造しだシリカゲルを沖過、洗浄、乾燥後
平均粒子径目、0μに粉砕したものは見掛比重0.60
と重質なシリカゲルが得られ為が、珪四(Si0229
%、Na209%)に98%硫酸を〆5加し反応最終時
pH13,5になるようにして製造したシリカゲルを前
記と同様の操作をおこなった場合の見掛比重は0.15
と軽質なシリカゲルが得られる。また、硫酸と珪曹の同
時添加においては酸性側で重質のものが、アルカリ側で
軽質のものが得られる。
るようにして製造しだシリカゲルを沖過、洗浄、乾燥後
平均粒子径目、0μに粉砕したものは見掛比重0.60
と重質なシリカゲルが得られ為が、珪四(Si0229
%、Na209%)に98%硫酸を〆5加し反応最終時
pH13,5になるようにして製造したシリカゲルを前
記と同様の操作をおこなった場合の見掛比重は0.15
と軽質なシリカゲルが得られる。また、硫酸と珪曹の同
時添加においては酸性側で重質のものが、アルカリ側で
軽質のものが得られる。
従って、シリカゲルの使用目的によって添加方法を選択
し、種々の品質の、シリカゲルの製造がb」能である。
し、種々の品質の、シリカゲルの製造がb」能である。
本発明方法に上り得られる7りカゲルは粉砕によシホワ
イトカーボン並の粒度にまですることも可能であり、吸
着剤、乾燥剤、歯磨用基材は勿論、ゴム、プラスチック
の充填剤、塗料、インキの増粘剤、紙のつや消し剤等従
来シリカゲル及びホワイトカーボンが用いられている分
野のすべてに供すことができるものである。
イトカーボン並の粒度にまですることも可能であり、吸
着剤、乾燥剤、歯磨用基材は勿論、ゴム、プラスチック
の充填剤、塗料、インキの増粘剤、紙のつや消し剤等従
来シリカゲル及びホワイトカーボンが用いられている分
野のすべてに供すことができるものである。
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例l
Sin2濃度が24〜26重片免になるように2tのニ
ーダ−(翼は2型)に98%硫酸3oopを仕込み、攪
拌しつつ珪酸す) IJウム(S i 02/Na20
モル比3.1、Sin、濃度29重量%)溶液をtoo
rZ分の速さで添加し、反、応温度35℃、60℃、1
00℃のそれぞれについて、反応物のpHが設定値付近
になった時珪酸ナトIJウムの添加を終了し、10分間
よく混合したのち、pHを再測定し反応物を取シ出し遠
心分離磯で分離、洗浄し、105℃にて乾燥をおこない
シリカ医ルを得た。各反応温度、pH及びbio2痕度
の各条件下での生成シリカゲルの比表面積、ケーキの含
有水分及び見掛比重を測足し第1表に示すとともに、反
応I)Hと比表面積の関係を第1図に不す。なお、見掛
比重はシリカゲルの平均粒子径が11μになるように粉
砕した時の値である。(以−ト、見掛比重は全てこのよ
うにして測定した値である。ン 実施例2 実施例1と同じニーダ−1珪酸ナトリウムおよび10牡
用い、添加順序をかえて反応温度60℃にて7リカゲル
を製造した。除却方法は、珪INナトリウム溶液150
Of’をニーダーに仕込み、攪拌しながら硫酸を152
/分の速さで添加した。その後の操作は実施例1と同様
にしてpこなった。この結果を第1懺に示すとともに、
反応pHと比表面積の関係を第1図に示す。
ーダ−(翼は2型)に98%硫酸3oopを仕込み、攪
拌しつつ珪酸す) IJウム(S i 02/Na20
モル比3.1、Sin、濃度29重量%)溶液をtoo
rZ分の速さで添加し、反、応温度35℃、60℃、1
00℃のそれぞれについて、反応物のpHが設定値付近
になった時珪酸ナトIJウムの添加を終了し、10分間
よく混合したのち、pHを再測定し反応物を取シ出し遠
心分離磯で分離、洗浄し、105℃にて乾燥をおこない
シリカ医ルを得た。各反応温度、pH及びbio2痕度
の各条件下での生成シリカゲルの比表面積、ケーキの含
有水分及び見掛比重を測足し第1表に示すとともに、反
応I)Hと比表面積の関係を第1図に不す。なお、見掛
比重はシリカゲルの平均粒子径が11μになるように粉
砕した時の値である。(以−ト、見掛比重は全てこのよ
うにして測定した値である。ン 実施例2 実施例1と同じニーダ−1珪酸ナトリウムおよび10牡
用い、添加順序をかえて反応温度60℃にて7リカゲル
を製造した。除却方法は、珪INナトリウム溶液150
Of’をニーダーに仕込み、攪拌しながら硫酸を152
/分の速さで添加した。その後の操作は実施例1と同様
にしてpこなった。この結果を第1懺に示すとともに、
反応pHと比表面積の関係を第1図に示す。
第1表
実施例3
硫酸のかわりに35完塩酸を用いる以外は実施例1(!
−同様にしてシリカゲルを得た。この結果を第2表に示
す。
−同様にしてシリカゲルを得た。この結果を第2表に示
す。
実施例4
実hIJJ例1と同じ硫酸、珪酸ナトリウムを用い連続
式ニーダ−(ジャケット付)に連続的に供給して反応温
度60℃にて反応をおこなったのち実施例】と同様にし
てシリカゲルを得たつ この結果金弟3表に示す。また
、反応pHと比表1II+積との関係を第1図に示す。
式ニーダ−(ジャケット付)に連続的に供給して反応温
度60℃にて反応をおこなったのち実施例】と同様にし
てシリカゲルを得たつ この結果金弟3表に示す。また
、反応pHと比表1II+積との関係を第1図に示す。
実施例5
反応終了後のSiO2嬢度金15.18.20.23重
重%となるように濃f叱岐を予め希釈したものを用いる
以外は実施例1及び2と同様の操作によりシリカゲルを
得た。得られたシリカケルの比表面積及びケーキ水分を
測定し、この結果を第4表に2ドす。まだ、反尾、時/
リカ濃丸と比表面積との関係ケ第2図に汀くず。
重%となるように濃f叱岐を予め希釈したものを用いる
以外は実施例1及び2と同様の操作によりシリカゲルを
得た。得られたシリカケルの比表面積及びケーキ水分を
測定し、この結果を第4表に2ドす。まだ、反尾、時/
リカ濃丸と比表面積との関係ケ第2図に汀くず。
第4表
比較例I
濃#30%のH,5o41000fを5tビーカーに取
り攪拌しながら珪@ (810*/f(agoモル比3
.1.SiO2磯度14if量%)を3Of15+の速
さでpH1,0となるまで添加し、反応源[60Cで反
応をおこなった。
り攪拌しながら珪@ (810*/f(agoモル比3
.1.SiO2磯度14if量%)を3Of15+の速
さでpH1,0となるまで添加し、反応源[60Cで反
応をおこなった。
このときのSiO2嬢度は8.OM量%であった。添加
終了後70℃で12時間熟成して硬いゲルを作り、粗粉
砕して2哩篩を通過させたゲルについてo9+過、洗浄
、乾燥粉砕して7す力ゲルを得た。このものの比表[m
抗は600rr?/f、ケーキ水分は85%であった。
終了後70℃で12時間熟成して硬いゲルを作り、粗粉
砕して2哩篩を通過させたゲルについてo9+過、洗浄
、乾燥粉砕して7す力ゲルを得た。このものの比表[m
抗は600rr?/f、ケーキ水分は85%であった。
比較例2
比較例1と同じ方法で反応pH1,5,4,8のそれぞ
れについて反応時のSiO□濃度が1.0.5.10、
+31H@%になる様に硫酸及び珪曹をそtLぞれ濃度
調整したものを使用し比較例1と同じ様にしてシリカゲ
ルを得た。このものの比表面積及びケーキ水分を測定し
た結果を第5表に示す。なお、pH調節のため一部苛性
ソーダを使用し、反応温度は35℃と60℃で行なった
。
れについて反応時のSiO□濃度が1.0.5.10、
+31H@%になる様に硫酸及び珪曹をそtLぞれ濃度
調整したものを使用し比較例1と同じ様にしてシリカゲ
ルを得た。このものの比表面積及びケーキ水分を測定し
た結果を第5表に示す。なお、pH調節のため一部苛性
ソーダを使用し、反応温度は35℃と60℃で行なった
。
この結果を第5表に示すとともに、反応時シリカ#に度
と比表面積の関係を第3図に示す。
と比表面積の関係を第3図に示す。
比較例5
珪@ (SiO,/lJa、Oモル比3.1、Sin、
濃度14重重%) 3000fを5tビーカーに取シ攪
押しながらH2BO3を102/分の速さで添加し、反
応温度60℃で反応をおこなった。なお、この時の反応
pHは1.5.4.8となる様に調節すると同時に反応
時のSiO2濃度も1.0.5、l0113重童%にl
6様硫酸の濃度を変えた。pH8で製造したものはゲル
化を行なう心安がないので、そのまま挿過、洗浄、乾燥
粉砕して比表面積を測定した。他は比較例1と同様の操
作をおこなった。この結果を第5表に示すとともに、反
応時シリカ濃度と比表面積の関係を第5図に示す。
濃度14重重%) 3000fを5tビーカーに取シ攪
押しながらH2BO3を102/分の速さで添加し、反
応温度60℃で反応をおこなった。なお、この時の反応
pHは1.5.4.8となる様に調節すると同時に反応
時のSiO2濃度も1.0.5、l0113重童%にl
6様硫酸の濃度を変えた。pH8で製造したものはゲル
化を行なう心安がないので、そのまま挿過、洗浄、乾燥
粉砕して比表面積を測定した。他は比較例1と同様の操
作をおこなった。この結果を第5表に示すとともに、反
応時シリカ濃度と比表面積の関係を第5図に示す。
第5表
実施例6、比較例4
実施例5及び比較例2.3のうちの一部の試料について
洗浄試験をおこなった。試験方法はブフナーロートに属
性Ylv紙を敷き、一定量のシリカゲルを取り、次に定
量の洗浄水を加えて真空直通し105℃で乾燥してシリ
カゲル中のNaの分析をおこない洗浄水量と/リカゲル
中のNa2含有率の関係ケ求め、第4図に示した。なお
、洗浄水量は乾燥シリカゲルに対する比率で示した。
洗浄試験をおこなった。試験方法はブフナーロートに属
性Ylv紙を敷き、一定量のシリカゲルを取り、次に定
量の洗浄水を加えて真空直通し105℃で乾燥してシリ
カゲル中のNaの分析をおこない洗浄水量と/リカゲル
中のNa2含有率の関係ケ求め、第4図に示した。なお
、洗浄水量は乾燥シリカゲルに対する比率で示した。
以上の実施例、比較例の結果を示す第1〜4図の谷記号
は次の製造歪性によるものである。
は次の製造歪性によるものである。
第1図
第2図
第3図
第4図
第1図は本発明方法における灰地、pHと比表面積の関
係を示すクラブである。 第2図は本発明方法における反応時ノリ力濃度ど比表1
用績の関係をボナグラフである。 第3図は従来法における反Lb時シリカ嬢度と比表面積
の関係を下すグラフである。 第4図は本発明方法および従来法での洗浄水量とシリカ
ゲル中のNa2O含有率を示すグラフである。 特許出願人 セントラル硝子株式会社反 応 P
H 第2図 反応的シリカ濃度 (%)
係を示すクラブである。 第2図は本発明方法における反応時ノリ力濃度ど比表1
用績の関係をボナグラフである。 第3図は従来法における反Lb時シリカ嬢度と比表面積
の関係を下すグラフである。 第4図は本発明方法および従来法での洗浄水量とシリカ
ゲル中のNa2O含有率を示すグラフである。 特許出願人 セントラル硝子株式会社反 応 P
H 第2図 反応的シリカ濃度 (%)
Claims (1)
- 5io2DKが15M量%以上になるように、アルカリ
珪酸塩と鉱酸を配合、反応させることを特徴とするシリ
カゲルの製造法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11847982A JPS5913620A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | シリカゲルの製造法 |
GB08318437A GB2125780B (en) | 1982-07-09 | 1983-07-07 | Process of preparing silica gel having desired physical properties |
DE19833324740 DE3324740C2 (de) | 1982-07-09 | 1983-07-08 | Verfahren zur Darstellung von Kieselsäuregel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11847982A JPS5913620A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | シリカゲルの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5913620A true JPS5913620A (ja) | 1984-01-24 |
JPS636484B2 JPS636484B2 (ja) | 1988-02-10 |
Family
ID=14737687
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11847982A Granted JPS5913620A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | シリカゲルの製造法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5913620A (ja) |
DE (1) | DE3324740C2 (ja) |
GB (1) | GB2125780B (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0514347U (ja) * | 1991-04-24 | 1993-02-23 | 松下電工株式会社 | 建築板取付け装置 |
US5191355A (en) * | 1989-06-29 | 1993-03-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Device for adjusting the heat-generating time of a thermal printer head |
WO2005050770A1 (en) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Akzo Nobel N.V. | Composition |
JP2006008754A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Nippon Chem Ind Co Ltd | シリカゲル粉末、絶縁性向上剤組成物及び絶縁性樹脂組成物 |
JP2010513200A (ja) * | 2006-12-22 | 2010-04-30 | ロディア オペレーションズ | 高速ブレンダーを使用した沈降シリカの新規な製造方法 |
JP2014210678A (ja) * | 2013-04-18 | 2014-11-13 | 富士化学株式会社 | シリカの製造方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60105609A (ja) * | 1983-03-04 | 1985-06-11 | Taki Chem Co Ltd | 歯磨用シリカ基剤及びその製造方法 |
GB8610118D0 (en) * | 1986-04-25 | 1986-05-29 | Unilever Plc | Manufacture of silica gels |
US5215733A (en) * | 1986-04-25 | 1993-06-01 | Unilever Patent Holdings B.V. | Manufacture of silica gels using shear to reduce the particle size prior to washing with a hydrocyclone |
WO1997002194A1 (en) * | 1995-06-30 | 1997-01-23 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Protection of sealed packages from water condensation |
CN114538452B (zh) * | 2022-03-15 | 2022-10-25 | 金三江(肇庆)硅材料股份有限公司 | 一种粒径分布窄的二氧化硅湿凝胶及其制备方法和应用 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5434719A (en) * | 1977-08-24 | 1979-03-14 | Hitachi Ltd | Character input device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2483868A (en) * | 1945-08-01 | 1949-10-04 | Int Minerals & Chem Corp | Method of preparing silica gel which involves atomizing sodium silicate into acid |
DE1299617B (de) * | 1965-01-13 | 1969-07-24 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von feinverteiltem gefaelltem Siliciumdioxid |
-
1982
- 1982-07-09 JP JP11847982A patent/JPS5913620A/ja active Granted
-
1983
- 1983-07-07 GB GB08318437A patent/GB2125780B/en not_active Expired
- 1983-07-08 DE DE19833324740 patent/DE3324740C2/de not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5434719A (en) * | 1977-08-24 | 1979-03-14 | Hitachi Ltd | Character input device |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5191355A (en) * | 1989-06-29 | 1993-03-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Device for adjusting the heat-generating time of a thermal printer head |
JPH0514347U (ja) * | 1991-04-24 | 1993-02-23 | 松下電工株式会社 | 建築板取付け装置 |
WO2005050770A1 (en) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Akzo Nobel N.V. | Composition |
JP2006008754A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Nippon Chem Ind Co Ltd | シリカゲル粉末、絶縁性向上剤組成物及び絶縁性樹脂組成物 |
JP2010513200A (ja) * | 2006-12-22 | 2010-04-30 | ロディア オペレーションズ | 高速ブレンダーを使用した沈降シリカの新規な製造方法 |
JP2014210678A (ja) * | 2013-04-18 | 2014-11-13 | 富士化学株式会社 | シリカの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2125780B (en) | 1985-09-18 |
DE3324740A1 (de) | 1984-01-26 |
GB8318437D0 (en) | 1983-08-10 |
JPS636484B2 (ja) | 1988-02-10 |
DE3324740C2 (de) | 1986-10-09 |
GB2125780A (en) | 1984-03-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101520553B1 (ko) | 침전 실리카의 제조 방법 | |
JPS5913620A (ja) | シリカゲルの製造法 | |
NO315645B1 (no) | Fremgangsmåte for fremstilling av fellingskiselsyre | |
US2535036A (en) | Manufacture of finely divided silica | |
JPS60221315A (ja) | 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法 | |
US5647903A (en) | Microporous high structure precipitated silicas and methods | |
KR101559897B1 (ko) | 미세하게 분할된 침강 실리카의 제조방법 | |
US20090022646A1 (en) | Process for hydrothermal production of sodium silicate solutions and precipitated silicas | |
JPH05503065A (ja) | 結晶二珪酸ナトリウムの熱水製造方法 | |
JPH0331642B2 (ja) | ||
JPH0660011B2 (ja) | 球体状のシリカ、その製造法及びエラストマーの補強への使用 | |
JPH06115926A (ja) | P型ゼオライトを製造する方法 | |
JP7069604B2 (ja) | 沈降シリカの製造法 | |
US20130068139A1 (en) | Silica gel comprising guanidine carbonate | |
JPS6345115A (ja) | 珪酸カルシウムの製造方法 | |
KR20200030618A (ko) | 고온 스폴링 단계를 포함하는 침강 실리카의 제조 방법 | |
US4296000A (en) | Adsorbents for polyol purification | |
DE19727893A1 (de) | Verfahren zur Herstellung synthetischer Schichtsilikate des Hectorit-Typs | |
JP3894518B2 (ja) | 鱗片状の低結晶性シリカとその製造方法 | |
US2230909A (en) | Process of making alkali subsilicates | |
JPS598617A (ja) | アルミノ珪酸塩 | |
JPH09314538A (ja) | 粘土含有ペーストの製造方法 | |
CA1207978A (en) | Sodium tripolyphosphate with a high rate of hydration and a sprayable slurry containing same | |
JPS58156527A (ja) | 無定形アルミノケイ酸塩の製造方法 | |
CN117338607B (zh) | 一种牙膏用无定形二氧化硅磨擦剂的制备方法及应用 |