JPS59135613A - Magnetic head - Google Patents
Magnetic headInfo
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- JPS59135613A JPS59135613A JP920583A JP920583A JPS59135613A JP S59135613 A JPS59135613 A JP S59135613A JP 920583 A JP920583 A JP 920583A JP 920583 A JP920583 A JP 920583A JP S59135613 A JPS59135613 A JP S59135613A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は磁気ヘッドに関する。 さらに詳しくは、非晶
質磁性合金薄膜を有する磁気ヘッドに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Background of the Invention Technical Field The present invention relates to a magnetic head. More specifically, the present invention relates to a magnetic head having an amorphous magnetic alloy thin film.
先行技術とその問題点 高い飽和磁化と高い透磁率を示すことから。Prior art and its problems Because it exhibits high saturation magnetization and high magnetic permeability.
非晶質磁性合金の薄板が磁気ヘッド材料として注目を集
めている。Amorphous magnetic alloy thin plates are attracting attention as magnetic head materials.
非晶質磁性合金薄板から、トラックl]のせまい磁気ヘ
ッド、例えばビデオ用の録画、録再ないしT’i N”
川の回転ヘッド、あるいは電a機用磁気ヘッド、’Jを
形成するには、CO系の非晶質磁性合金の薄板をそのま
ま用いるか、あるいはその複数枚を積層して、数十pL
m以丁、特に20〜30ILm程度の厚さのトラックr
lとして、所定の形状としたコア!i体をギャップを介
しつきあわせて作製している。A narrow magnetic head with a track l] made of an amorphous magnetic alloy thin plate, for example, for video recording, recording or reproducing, or T'i N''
To form a rotating head or a magnetic head for an electric machine, 'J, a thin plate of CO-based amorphous magnetic alloy can be used as it is, or a plurality of sheets can be laminated to form a tens of pL.
track r with a thickness of approximately 20 to 30 m, especially about 20 to 30 lm
A core with a predetermined shape as l! The i-body is made by butting each other through a gap.
しかし、このようにして作製されるビデオ用等のヘッド
は、厚さがきわめて薄いため強度的に上方でなく、機械
的加工時に変形し、加f後の寸度精度が悪いという不都
合がある。However, heads for videos and the like manufactured in this manner have disadvantages in that they are extremely thin and therefore not strong, deform during mechanical processing, and have poor dimensional accuracy after fusing.
また、非晶質磁性合金の薄板は高弾性であるため、ビデ
オ用の磁気記録媒体との高速しゅう動にともない変形し
、ヘッドアームのバランスをくずして回転走行性が不良
となる。Furthermore, since the thin plate of amorphous magnetic alloy has high elasticity, it deforms as it slides at high speed with the video magnetic recording medium, causing the head arm to become unbalanced and resulting in poor rotational running performance.
このような不都合を解消するためには、所定の基体−に
に、スパッタリングにより非晶質磁性合金の薄膜を形成
してコア半休とし、これから磁気ヘッドを形成すること
が考えられる。 そして、このように形成した磁気ヘッ
ドでは、上記したような不都合は解消する。In order to eliminate such inconveniences, it is conceivable to form a thin film of an amorphous magnetic alloy by sputtering on a predetermined substrate to form a half-core core, and then form a magnetic head from this. In the magnetic head formed in this manner, the above-mentioned disadvantages are eliminated.
しかし、アルミナ等の通常のノ、(体」−に、CO系の
非晶質磁性合金薄膜を被着して磁気ヘッドとするときに
は、コア半休の形状加工や、いわゆるアジマス構造とす
るためのギャップ面の研削加圧、研摩油下等の加工性が
悪い。However, when making a magnetic head by depositing a CO-based amorphous magnetic alloy thin film on a normal material such as alumina, it is necessary to process the shape of the core half-way or create a gap to create a so-called azimuth structure. Processability is poor, such as surface grinding under pressure and polishing oil.
また、基体と薄膜との密着強度が低く、薄膜被着の際の
被着強度が低く、また熱処理の際に剥離したりする不都
合がある。 さらに、形状加工に際して 薄膜が剥離し
て、製造の歩留りも悪い。Further, there are disadvantages in that the adhesion strength between the substrate and the thin film is low, the adhesion strength when the thin film is applied is low, and it may peel off during heat treatment. Furthermore, the thin film peels off during shape processing, resulting in poor manufacturing yields.
そして、 被着時や熱処理時に加わる歪のため、特性が
劣化する不都合もある。There is also the disadvantage that the characteristics deteriorate due to strain applied during adhesion and heat treatment.
II 発明の目的
本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、加工性が良好で、しかも基体と薄
膜との密着強度が高く、製造歩留りが高く、製造時の特
性劣化の少ない磁気ヘッドを提供することにある。II. Purpose of the Invention The present invention was made in view of the above-mentioned circumstances, and its main purpose is to provide good processability, high adhesion strength between the substrate and the thin film, high manufacturing yield, and high manufacturing speed. The object of the present invention is to provide a magnetic head with less deterioration in characteristics.
このような[−1的は、以下の本発明によって達成され
る。Such [-1 objective is achieved by the present invention described below.
すなわち本発明は、
線膨張係数80〜l 30.X 10 =7deg−’
のカラス基板上に、非晶質磁性合金の薄膜を形成してな
ることを特徴とする磁気ヘッドである。That is, the present invention has a linear expansion coefficient of 80 to 30. X 10 =7deg-'
This magnetic head is characterized by forming a thin film of an amorphous magnetic alloy on a glass substrate.
■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。■Specific structure of the invention Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.
本発明において、非晶質磁性合金の薄膜を形成する基体
はガラスである。 このため、加r性は良好である。In the present invention, the substrate on which the amorphous magnetic alloy thin film is formed is glass. Therefore, the additivity is good.
そして、ガラスの線膨張係数(25°C)は、80〜1
30X10””deg−’である。The linear expansion coefficient (25°C) of glass is 80 to 1
It is 30×10""deg-'.
m、 oat張係数が80 X I O−0−7de’
未満となると、薄膜被着の際の密着強度が低くなり、ま
た、被着の際の歪によって特性が劣化する。m, oat tension coefficient is 80 X I O-0-7de'
If it is less than that, the adhesion strength during thin film deposition will be low, and the characteristics will deteriorate due to distortion during deposition.
−・方、130 X 10−0−7de’をこえると、
熱処理時に剥離が生じたり、歪が発生して特性劣化が生
じる。 さらに、」−記範囲外では、形状加Inの際の
剥離も大きくなり、歩留りが低下する。-・If you exceed 130 x 10-0-7 de',
During heat treatment, peeling occurs or distortion occurs, resulting in property deterioration. Furthermore, outside the range indicated by ``-'', peeling during shaping In will also increase, resulting in a decrease in yield.
このような物性をもつガラスとしては、特にフリントガ
ラス系が好適であり、このうち、KF2 、LLF2
、LF4 、F2 、SF2.5F13、KzF2等の
ソーダガラス、鉛ガラスなどが好ましい。Flint glass is particularly suitable as a glass having such physical properties, and among these, KF2, LLF2
, LF4, F2, SF2.5F13, KzF2, soda glass, lead glass, etc. are preferred.
ある。be.
このようなガラス基体の厚さについては特に制限はない
が、通常、0.1〜51Ilffl程度とする。 なお
、基体形状については、公知のコア半休の形状とすれば
よい。There is no particular restriction on the thickness of such a glass substrate, but it is usually about 0.1 to 51 lffl. The shape of the base may be a known half-core shape.
このような基体−1−に形成される磁性の薄膜は、実質
的に長範囲の規則性をもたない非晶質状態にあるもので
ある。The magnetic thin film formed on such a substrate -1- is in an amorphous state with substantially no long-range regularity.
非晶質磁性合金薄膜のM1成に−)いては特に制限はな
いが、特に、下記式で示されるものであることがf+Y
ましい。There is no particular restriction on the M1 composition of the amorphous magnetic alloy thin film, but in particular, f+Y is expressed by the following formula.
Delicious.
式
%式%
−1−足代1こおいて、Tは、COまたはCOと他の遷
移金属元素の1挿具」二との組み合わせを表わす。Where T represents CO or a combination of CO and another transition metal element.
すなわち、TはCo q−独からなってもよく、またC
Oと他の遷移金属元素とからなってもよい。That is, T may consist of Co q-G, or C
It may also consist of O and another transition metal element.
Tが、COと他の遷移金属元素とからなる場合、他の遷
移金属元素としては、Fe、Ni。When T consists of CO and other transition metal elements, the other transition metal elements include Fe and Ni.
Cr 、 M o 、 W 、 V 、 N b 、
T a 、 T i 、 Z r。Cr, Mo, W, V, Nb,
T a , T i , Z r.
Hf、Mn、Pt 、Ru、Rh、Pd、Os。Hf, Mn, Pt, Ru, Rh, Pd, Os.
Ir等の1種以上をその具体例として挙げることができ
るが、これらの総計は、38at%以下であることが好
ましい。One or more types such as Ir can be cited as specific examples, but the total amount thereof is preferably 38 at% or less.
このようなT中の添加元素のうち、好ましい1例として
は、Ruがある。 Ruは、耐高速摩耗性を向」ニさせ
、またメタルテープ(合金磁性粉を用いる塗布型テープ
)使用の際の出力低下を防止させる点で大きな効果をも
つ。Among such additive elements in T, one preferable example is Ru. Ru has a great effect in improving high-speed abrasion resistance and preventing a decrease in output when using metal tape (coated tape using alloy magnetic powder).
この場合、Ru添加着は、8at%以下、特に0.5〜
6at%、より女子ましくは1〜5at%であることが
好ましい。In this case, the Ru additive is 8 at% or less, especially 0.5 to
It is preferably 6 at%, more preferably 1 to 5 at%.
好ましい他の元素としては、Crがある。Another preferred element is Cr.
Crの添加により、高温高湿下における耐高速摩耗性と
保存性とが格段と向」ニする。By adding Cr, high-speed wear resistance and storage stability under high temperature and high humidity conditions are significantly improved.
この場合、Cr添加量は、8at%以下、特に0.5〜
6at%、より好ましくは0.5〜5at%であること
が好ましい。In this case, the amount of Cr added is 8 at% or less, especially 0.5 to
It is preferably 6 at%, more preferably 0.5 to 5 at%.
この他、Cr以外+71VIB族、VB族、TVB族元
素、 M o 、 W 、 V 、 N b 、 T
a 、 T i 、 Zr、Hfの1種以上の添加も好
ましい。 これらの添加により、高温高湿下での耐高速
摩耗性が向上する。In addition, +71 VIB group, VB group, TVB group elements other than Cr, M o , W , V , N b , T
It is also preferable to add one or more of a, Ti, Zr, and Hf. These additions improve high-speed wear resistance under high temperature and high humidity conditions.
この場合、これらの添加には、5at%以下、特に0.
1〜2at%であることが好ましい。In this case, these additions include up to 5 at%, especially 0.
It is preferably 1 to 2 at%.
そして、Ru、より好ましくはRu十Cr、さらに好ま
しくはRu+Cr+(他のIVB〜■B族元素)を含む
ときには、より一層好ましい結果をうる。。Further, when Ru, more preferably Ru+Cr, and even more preferably Ru+Cr+ (other IVB to IVB group elements) are included, even more favorable results can be obtained. .
さらに、他の添加元素としては、Feを含むことができ
る。 Fe添加は、磁歪を低下させる。Furthermore, other additive elements may include Fe. Addition of Fe reduces magnetostriction.
この場合、Fe添加量は6at%以下、特に0.1〜6
at%、より好ましくは2〜5at%であることが好ま
しい。In this case, the amount of Fe added is 6 at% or less, especially 0.1 to 6 at%.
It is preferable that it is at%, more preferably 2 to 5 at%.
さらにまた、Niが含まれていてもよい。Furthermore, Ni may be included.
NrはCOを置換して、材料コストを低減させるが、そ
の榛加量は1oat%以下であることが好ましい。Nr replaces CO and reduces material cost, but the amount added is preferably 1 oat% or less.
加えて、M nも好適な添加元素である。In addition, Mn is also a suitable additive element.
一方、又はガラス化元素の1挿具りである。On the other hand, or one insert of vitrification elements.
ガラス化元素としては、 B、Si、P、C。Vitrification elements include B, Si, P, and C.
AI等があり、これらの1種以上いずれであってもよい
が、特に、B、またはStおよびBを必須成分とするこ
とが好ましい。There are AI, etc., and any one or more of these may be used, but it is particularly preferable to use B or St and B as essential components.
この場合、Bが10〜35at%、必要に応じSiが6
at%以下となると、耐摩耗性が向−卜し、好ましい結
果をうる。In this case, B is 10 to 35 at%, and if necessary, Si is 6
When the content is at % or less, wear resistance is improved and favorable results are obtained.
そして、Si/(Si+B)の原子比がOまたは0.2
以下、特に0.05〜0.15となると、より一層好ま
しい結果をうる。And the atomic ratio of Si/(Si+B) is O or 0.2
Below, especially when it is 0.05 to 0.15, even more favorable results can be obtained.
なお、P、C,AI等が、さらに含有される場合、これ
らは0.5at%以下であることが好ましい。In addition, when P, C, AI, etc. are further contained, it is preferable that these are 0.5 at% or less.
このような薄膜は、基体上に、通常、0.1〜100g
m、好ましくは0.1〜30gmの厚さに形成される。Such a thin film is typically deposited on a substrate in an amount of 0.1 to 100 g.
m, preferably 0.1 to 30 gm.
このような基体」−に、非晶質磁性合金薄膜を形成する
には、気相被着法1通常、スパッタリングに従う。In order to form an amorphous magnetic alloy thin film on such a substrate, a vapor phase deposition method 1 is usually used, typically by sputtering.
用いるスパッタリングとしては、衝撃イオンにより、タ
ーゲットをスパッタし、通常、数eV〜約100eV程
度の遅動エネルギーにてタ−ゲラi・物質を蒸散させる
公知のスパッタリングはいずれも使用可能である。Any known sputtering method may be used, in which a target is sputtered using bombarded ions, and the target material is evaporated with a slow energy of several eV to approximately 100 eV.
従って、Ar等の不活性ガス雰囲気中で、異常グロー放
電によるAr等のイオンによって、ターゲットをスパッ
タするプラズマ法を用いても、ターゲットにAr、Kr
、Xe等のイオンビームを照射して行うイオンビーム法
を用いてもよい。Therefore, even if a plasma method is used in which the target is sputtered with ions such as Ar caused by abnormal glow discharge in an inert gas atmosphere such as Ar,
An ion beam method in which ion beams such as , Xe, etc. are irradiated may be used.
プラズマ法によるときには、いわゆるRFスパッタであ
っても、また、いわゆるDCスパッタであってもよく、
その装置構成も2極、4極等いずれであってもよい。
さらには、いわゆるマグネトロンスパッタを用いてもよ
い。 また場合によっては、いわゆる反応性スパッタに
よることもできる。 さらに、イオンビーム法としては
、種々の方式に従うことができる。When using a plasma method, it may be so-called RF sputtering or so-called DC sputtering,
The device configuration may be either 2-pole, 4-pole, etc.
Furthermore, so-called magnetron sputtering may be used. In some cases, so-called reactive sputtering may also be used. Furthermore, various methods can be used as the ion beam method.
用いるターゲットとしては、通常の場合は、対応する組
成のfJ合金を用いればよい。In normal cases, an fJ alloy with a corresponding composition may be used as the target.
なお、動作圧力、プレート電圧、プレート電流、極間間
隙等には特別の制限はなく、これら1
は、条件に応じ、任意の値に設定することができる。Note that there are no particular restrictions on the operating pressure, plate voltage, plate current, gap between electrodes, etc., and these 1 can be set to arbitrary values depending on the conditions.
このような場合、ノ、(体の一面−1−には下地層を形
成し、この下地層上に非晶質磁性合金薄膜を形成しても
よい。 また、非晶質磁性合金薄膜lに」一層保護層を
形成してもよい。In such a case, an underlayer may be formed on one surface of the body (1), and an amorphous magnetic alloy thin film may be formed on this underlayer. ”An additional protective layer may be formed.
さらに、非晶質磁性合金薄膜と、非磁性の薄膜を交互に
積層することもできる。Furthermore, amorphous magnetic alloy thin films and non-magnetic thin films can be alternately laminated.
このように非晶質磁性合金薄膜3.3′を形成した基体
2.2′は、第1図および第2図に示されるように、所
定の形状に加工され、1字、C字状等のコア半体1.1
′とされ、前部ギヤ・ンプ部4および後部ギャップ部に
て、5i02等のギャップ材40を介してつきあわされ
て磁気ヘッド とされる。 この場合、少なくとも前部
ギャップ部の突きあわせ面は、薄膜形成面の法線から傾
斜させて、いわゆるアジマス角をつけることが好ましい
。The substrate 2.2' on which the amorphous magnetic alloy thin film 3.3' is formed is processed into a predetermined shape, such as a 1-shape, a C-shape, etc., as shown in FIGS. 1 and 2. Core half of 1.1
', and are brought together at the front gear pump section 4 and the rear gap section via a gap material 40 such as 5i02 to form a magnetic head. In this case, it is preferable that at least the abutting surfaces of the front gap portion be inclined from the normal to the thin film forming surface to form a so-called azimuth angle.
なお、コア半体l、1′の薄膜3.3′上には、さらに
、基体?、2′と同種の材質がらな2
る保護体5を接着することもできる。Furthermore, on the thin films 3 and 3' of the core halves l and 1', there is further a substrate? , 2' can also be bonded with a protector 5 made of the same material.
このような場合、薄膜形成後には、必要に応じて、無磁
場中あるいは静磁場ないし回転磁場中での熱処理を施す
ことが好ましい。In such a case, after forming the thin film, it is preferable to perform heat treatment in a non-magnetic field or in a static magnetic field or a rotating magnetic field, if necessary.
次いで研削により所定の形状とし、また必要に応じ所定
膜厚となるように研削を行い、さらに必要に応じ研摩を
行いコア半休とする。Next, it is ground into a predetermined shape, and if necessary, it is ground to a predetermined thickness, and if necessary, it is further polished to make the core semi-dry.
そして、捲線8を施し、上記のようにつきあわせ、その
他必要な加工を行い、支持体9に固着されて、磁気ヘッ
ドが作製される。Then, winding 8 is applied, alignment is performed as described above, and other necessary processing is performed, and the magnetic head is fixed to a support 9 to produce a magnetic head.
なお、上記の熱処理は、形状加−L後、捲線前に施して
もよい。Note that the above heat treatment may be performed after the shape processing L and before winding.
■ 発明の具体的作用効果
このような磁気ヘッドは、ビデオ用の録画、録再、音声
用等の回転ヘッド、あるいは電算機用磁気ヘッド等とし
てきわめて有用である。(2) Specific effects of the invention Such a magnetic head is extremely useful as a rotary head for video recording, recording/playback, audio, etc., or a magnetic head for computers.
そして、本発明の磁気ヘッドは、所定の線膨張係数をも
つガラス基体を用いるので、加工性が良好で、コア半休
とする際の形状加工や、ギャップ突きあわせ面を薄膜形
成面の法線から傾斜させてアジマス角をつけるための研
削加工や、その後の研摩加工においても、損傷が少ない
。Since the magnetic head of the present invention uses a glass substrate with a predetermined coefficient of linear expansion, it has good workability, and the shape processing when making the core half-open, and the gap abutting surface from the normal to the thin film forming surface. There is little damage even during the grinding process to tilt and set the azimuth angle, and the subsequent polishing process.
また、基体と薄膜との密着強度が高く、薄膜被着時の被
着強度が高く、また熱処理による剥離はきわめて少ない
。 さらに、形状加工時の剥離もきわめて少なく、製造
歩留りはきわめて高い。Further, the adhesion strength between the substrate and the thin film is high, the adhesion strength when the thin film is applied is high, and peeling due to heat treatment is extremely small. Furthermore, there is very little peeling during shaping, and the manufacturing yield is extremely high.
そして、被着時や熱処理時の歪の発生が少ないので、特
性劣化も少ない。In addition, since less distortion occurs during adhesion and heat treatment, there is less deterioration of characteristics.
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。(2) Specific Examples of the Invention Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown and the present invention will be explained in more detail.
実施例
2■厚、2インチ角のKF2ガラス基体(86X l
O−0−7de’ 、Hv = 480) 、石英ガラ
ス−7−1
基体(5X10 deg 、 Hv=500)およ
びアルミナ基体(67X l O−0−7de’、 l
(v = 1500)1−に、下記表1に示される組成
の非晶質磁性合金の薄膜を30Ij、m厚に形成した。Example 2 ■ Thick, 2 inch square KF2 glass substrate (86X l
O-0-7de', Hv = 480), quartz glass-7-1 substrate (5X10 deg, Hv = 500) and alumina substrate (67X l O-0-7de', l
(v = 1500) 1-, a thin film of an amorphous magnetic alloy having the composition shown in Table 1 below was formed to a thickness of 30 Ij and m.
薄膜の形成は、スパッタリングによって行った。The thin film was formed by sputtering.
この場合、ターゲットとじては、対応する組成の合金の
鋳造体を用い、動作アルゴン圧5 、5 X l 0−
3Torr、プレート電圧2KV、投入電力4 W/
crn′にて、RFマグネトロンスパッタリングを行っ
た。In this case, a cast alloy of the corresponding composition is used as the target, and the operating argon pressure is 5.
3Torr, plate voltage 2KV, input power 4W/
RF magnetron sputtering was performed at crn'.
次に、これを2X2mmに切断して、計180個のチッ
プを作製したのち、研削および研摩し、第1図および第
2図に示されるようなコア半体l、1 を得、これを3
50°Cにて回転磁界中で熱処理したのち、0.3μm
の前部ギャップ材 5i02を介してつきあわせ、所定
の倦線8を施し、磁気ヘッドを作製した。 なお、アジ
マス角は6°とした。Next, this was cut into 2 x 2 mm to make a total of 180 chips, which were then ground and polished to obtain a core half l,1 as shown in Figs. 1 and 2.
0.3 μm after heat treatment in a rotating magnetic field at 50°C
They were brought together via a front gap material 5i02, and a predetermined contour line 8 was applied to produce a magnetic head. Note that the azimuth angle was 6°.
次いで、各磁気ヘッドを8mmビデオ方式のデツキに搭
載し、以下の1)〜3)の測定を行なった。Next, each magnetic head was mounted on an 8 mm video deck, and the following measurements 1) to 3) were performed.
1) 製造歩留り 計160個のコア半休のうちの不良品数を算出した。1) Manufacturing yield The number of defective products out of a total of 160 cores was calculated.
2) 摩耗量
25℃、50%RHおよび40℃、70%RHにて、メ
タルテープを500時間走行させて、走行後の摩耗量(
gm)を表面粗さ計で測定した。2) Wear amount The metal tape was run for 500 hours at 25°C, 50% RH and 40°C, 70% RH, and the wear amount after running (
gm) was measured using a surface roughness meter.
3) 保存性
70°C195%RHにて、240時間保存したのち、
保存前と保存後との0.5MHz15MHzのf特劣化
(dB)を測定した。3) Storage property After storing for 240 hours at 70°C and 195%RH,
The f-characteristic deterioration (dB) at 0.5 MHz and 15 MHz before and after storage was measured.
これらの結果を表1に示す。These results are shown in Table 1.
表1に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。From the results shown in Table 1, the effects of the present invention are clear.
第1図および第2図は、本発明の磁気ヘッドの構造の1
例を示す図であり、このうち、第1図が斜視図、第2図
が拡大部分正面図である。
】、1′・・・・・・・・・コア半体
2.2′・・・・・・・・・基体
3.3′・・・・・・・・・非晶質磁性合金薄膜出願人
東京電気化学工業株式会社
代理人 弁理士 石 井 陽 −
8
84−1 and 2 show one example of the structure of the magnetic head of the present invention.
1 is a perspective view, and FIG. 2 is an enlarged partial front view. ], 1'...Core half 2.2'...Substrate 3.3'...Amorphous magnetic alloy thin film application Person Tokyo Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Representative Patent Attorney Yo Ishii - 8 84-
Claims (1)
ラス基板上に、非晶質磁性合金の薄膜を形成I7てなる
ことを特徴とする磁気ヘッド。 2、非晶質磁性合金薄nりの厚さが0.1〜100gm
である特許請求の範囲第1項に記載の磁気ヘッド。 3、非晶質磁性合金が下記式で示される組成をもつ特許
請求の範囲第1項または第2項に記載の磁気ヘッド。 式 (」二足式において、Tは、COlまたはC。 と他の遷移金属元素の1挿具」−との組合わせを表わし
、 Xは、ガラス化元素の1挿具−Lを表わす。 X+y=100at%であり、 このうち、yは5〜35at%である。)[Claims] 1. A magnetic head characterized by forming a thin film of an amorphous magnetic alloy on a glass substrate having an expansion coefficient of 80 to 130Xlo-7deg-'. 2. Thickness of thin amorphous magnetic alloy is 0.1 to 100 gm
A magnetic head according to claim 1. 3. The magnetic head according to claim 1 or 2, wherein the amorphous magnetic alloy has a composition represented by the following formula. In the two-legged formula, T represents a combination of COI or C and one suffix of another transition metal element - and X represents one suffix of a vitrifying element -L. X+y = 100 at%, of which y is 5 to 35 at%.)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP920583A JPS59135613A (en) | 1983-01-21 | 1983-01-21 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP920583A JPS59135613A (en) | 1983-01-21 | 1983-01-21 | Magnetic head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59135613A true JPS59135613A (en) | 1984-08-03 |
Family
ID=11713970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP920583A Pending JPS59135613A (en) | 1983-01-21 | 1983-01-21 | Magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59135613A (en) |
-
1983
- 1983-01-21 JP JP920583A patent/JPS59135613A/en active Pending
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