JPS59135620A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

Info

Publication number
JPS59135620A
JPS59135620A JP968783A JP968783A JPS59135620A JP S59135620 A JPS59135620 A JP S59135620A JP 968783 A JP968783 A JP 968783A JP 968783 A JP968783 A JP 968783A JP S59135620 A JPS59135620 A JP S59135620A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
intermediate layer
magnetic
magnetic head
thin film
thin films
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP968783A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Ooya
大矢 一雄
Norio Ishijima
石島 矩男
Takahiro Yamamoto
隆洋 山本
Yoshimasa Oyanagi
大柳 佳正
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP968783A priority Critical patent/JPS59135620A/en
Publication of JPS59135620A publication Critical patent/JPS59135620A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/147Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the wear resistance and to reduce the output reduction in a high frequency region by laminating plural thin films of an amorphous magnetic Co-Zr alloy with a nonmetallic intermediate layer having specified Vickers hardness in-between. CONSTITUTION:Plural thin films of an amorphous magnetic alloy represented by a formula TxXy are laminated with a nonmagnetic intermediate layer in- between. The Vickers hardness Hv (100g DPH load) of the material forming the intermediate layer is 400-2,000kg/mm.<2>. In case of >2,000kg/mm.<2> hardness Hv, the edge planeness of the thin films on a face to be butted is deteriorated, and the output is reduced in a high frequency region. In case of <400kgmm.<2>hardness Hv, the wear resistance is deteriorated, and the output reduction in the high- frequency region is increased. In the formula, T is Co or a combination of Co with one or more kinds of transition metallic elements others than Co and Zr, X is Zr or a combination of Zr with one or more kinds of other vitrifying elements, x+y=100atom%, and y is 5-35atom%.

Description

【発明の詳細な説明】 ■ 発明の背景 技術分野 本発明は磁気ヘッドに関する。 さらに詳しくは、非晶
質磁性合金薄膜を有する磁気ヘッドに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Background of the Invention Technical Field The present invention relates to a magnetic head. More specifically, the present invention relates to a magnetic head having an amorphous magnetic alloy thin film.

先行技術とその問題点 高い飽和磁化と高い透磁率を示すことから、非晶質磁性
合金の薄板が磁気ヘッド材料として注目を集めている。
Prior art and its problems Thin sheets of amorphous magnetic alloys have attracted attention as magnetic head materials because they exhibit high saturation magnetization and high magnetic permeability.

非晶質磁性合金薄板から、トラック11]のせまい磁気
ヘッド、例えばビデオ用の録画、録再ないし音声用の回
転ヘッド、あるいは電算機用磁気へ・ンド等を形成する
には、Co系の非晶質磁性合金の薄板をそのまま用いる
か、あるいはその複数枚を積層して、数十ルm以下、特
に20〜30gm程度の厚さのトラック巾として、所定
の形状としたコア半休をギャップを介しつきあわせて作
製している。
To form a narrow magnetic head with track 11 from an amorphous magnetic alloy thin plate, such as a rotary head for video recording, recording/playback, or audio, or a magnetic head for a computer, a Co-based non-alloy is used. A thin plate of a crystalline magnetic alloy is used as it is, or a plurality of sheets thereof are laminated to form a track width of several tens of meters or less, especially about 20 to 30 gm, and a core semicircle is formed into a predetermined shape through a gap. They are manufactured together.

しかし、このようにして作製されるビデオ用等のヘッド
は、厚さがきわめて薄いため強度的に十分でなく、機械
的加工時に変形し1加工後の寸度精度が悪いという不都
合がある。
However, heads for videos and the like manufactured in this manner are extremely thin and therefore do not have sufficient strength, and are deformed during mechanical processing, resulting in poor dimensional accuracy after one processing.

また、非晶質磁性合金の薄板は高弾性であるため、ビデ
オ用の磁気記録媒体との高速しゅう動にともない変形し
、ヘッドアームのバランスをくずして回転走行性が不良
となる。
Furthermore, since the thin plate of amorphous magnetic alloy has high elasticity, it deforms as it slides at high speed with the video magnetic recording medium, causing the head arm to become unbalanced and resulting in poor rotational running performance.

このような不都合を解消するためには、所定の基体上に
、スパッタリングにより非晶質磁性合金の薄膜を形成し
てコア半休とし、これから磁気ヘッドを形J戊すること
が考えられる。 そして、このように形成した磁気ヘッ
ドでは、」−記したような不都合は解消する。
In order to eliminate such inconveniences, it is conceivable to form a thin film of an amorphous magnetic alloy on a predetermined substrate by sputtering to form a half-core core, and then form a magnetic head from this. In the magnetic head formed in this way, the disadvantages mentioned above are eliminated.

ところで、スパッタリングによって形成した非晶質磁性
合金薄膜の一例としては、 Co−Zr系のものが知ら
れている。
Incidentally, as an example of an amorphous magnetic alloy thin film formed by sputtering, a Co--Zr based film is known.

しかし、このように形成されるCo−Zr系の磁性薄膜
を有する磁気ヘッドでは、耐摩耗性に欠けるという欠点
がある。
However, a magnetic head having a Co--Zr based magnetic thin film formed in this manner has a drawback of lacking wear resistance.

また、うず電流相が無視できず、高周波域での出力低下
が大きいという欠点がある。
Further, there is a drawback that the eddy current phase cannot be ignored and the output decreases significantly in the high frequency range.

さらに、コア゛f:体の形状加工の際、突き合わせ面に
位訪する薄膜の端面の平面度が悪化し、突き合わせに際
し、実効ギヤツブ巾が広がってしまい、このためにも特
に高周波域での出力が低下するという欠点がある。
Furthermore, when processing the shape of the core f: body, the flatness of the end face of the thin film that is placed on the butting surface deteriorates, and the effective gear width increases during butting, which also reduces the output, especially in the high frequency range. It has the disadvantage that it decreases.

II  発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、耐摩耗性が向上し、高周波域での
出力低下が少ない Co−Zr系の非晶質磁性合金薄膜
を有する磁気ヘッドを提供することにある。
II. OBJECTS OF THE INVENTION The present invention was made in view of the above-mentioned circumstances, and its main purpose is to improve wear resistance and reduce output drop in the high frequency range. An object of the present invention is to provide a magnetic head having an alloy thin film.

このような目的は、下記の本発明によって達成される。Such objects are achieved by the invention described below.

すなわち本発明は、 下記式で示される複数の非晶質磁性合金薄膜を、非磁性
の中間層を介して積層してなる積層体を基体−1−に有
し、中間層を形成する材質のビッカース硬度が400〜
2000 K g / m rn’ テあることを特徴
とする磁気ヘッドである。
That is, the present invention has a laminate formed by laminating a plurality of amorphous magnetic alloy thin films represented by the following formula with a non-magnetic intermediate layer interposed therebetween on the base body -1-, and the material forming the intermediate layer is Vickers hardness is 400~
This magnetic head is characterized by having a power of 2000 Kg/mrn'.

式 (上記式中、Tは、Co、またはGoとCoおよびZr
以外の他の遷移金属元素の1挿具−4−との組合わせを
表わし、 Xは、Zr、またはZrと他のガラス化元素の1種以上
との組合わせを表わし、 x+y=100at%であり、 このうち、yは5〜35at%である。)■ 発明の具
体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
Formula (in the above formula, T is Co, or Go, Co and Zr
X represents a combination of Zr, or a combination of Zr and one or more other vitrification elements, x+y=100 at% Yes, and among these, y is 5 to 35 at%. )■ Specific configuration of the invention The specific configuration of the present invention will be explained in detail below.

本発明における薄膜は、磁性を有し、 実質的に長範囲
の規則性をもたない非晶質状態にある。
The thin film in the present invention has magnetic properties and is in an amorphous state with substantially no long-range regularity.

本発明において、基体」−に形成される非晶質磁性合金
の薄膜の組成は、」二部式にて示されるものである。
In the present invention, the composition of the amorphous magnetic alloy thin film formed on the substrate is expressed by a two-part formula.

]−足代において、Tは、COまたはCOと他の遷移金
属元素の1秤量」−との組合わせを表わすすなわち、T
はCo単独からなってもよく、またCOと他の遷移金属
元素とからなってもよい。  。
] - in the foot price, T represents the combination of CO or 1 basis weight of CO and another transition metal element, i.e., T
may consist of Co alone, or may consist of CO and another transition metal element. .

Tが、COと他の遷移金属元素とからなる場合、他の遷
移金属元素としては、Fe、Ni。
When T consists of CO and other transition metal elements, the other transition metal elements include Fe and Ni.

Cr 、 M o 、 W 、 V 、 N b 、 
T a 、 T i 、 Z rHf、Mn、Pt、R
u、Rh、Pd、Os。
Cr, Mo, W, V, Nb,
T a , T i , Z rHf, Mn, Pt, R
u, Rh, Pd, Os.

■r等の1挿具トをその具体例として挙げることができ
るが、これらの総計は、38at%以下であることが好
ましい。
(1) One insert such as r can be cited as a specific example, but the total of these is preferably 38 at% or less.

このようなT中の添加元素のうち、好ましい1例として
は、Ruがある。 Ruは、耐高速摩耗性を向」ニさせ
、またメクルテープ(合金磁性粉を用いる塗布型テープ
)使用の際の出力低下を防止させる点で大きな効果をも
つ。
Among such additive elements in T, one preferable example is Ru. Ru has a great effect in improving high-speed abrasion resistance and preventing a decrease in output when using Meckle tape (coated tape using alloy magnetic powder).

なお、Ruを、他の白金族元素、例えばPt 、Rh等
にかえたときには、このような効果は実現しな0゜ この場合、Ru添加量は、8at%以下、特に0.5〜
6at%、より好ましくは1〜5at%であることが好
ましい。
Note that when Ru is replaced with another platinum group element, such as Pt or Rh, such an effect cannot be achieved.
It is preferably 6 at%, more preferably 1 to 5 at%.

好ましい他の元素どしては、Crがある。Another preferred element is Cr.

Crの添加により、高温高湿下における耐高速摩耗性と
保存性とが格段と向上する。
By adding Cr, high-speed wear resistance and storage stability under high temperature and high humidity conditions are significantly improved.

この場合、Cr添加量は、8at%以下、特に0.5〜
6at%、より好ましくは0.5〜5at%であること
が好ましい。
In this case, the amount of Cr added is 8 at% or less, especially 0.5 to
It is preferably 6 at%, more preferably 0.5 to 5 at%.

この他、Cr以外(7)VIB族、VB族、rVB族元
素、 M o 、 W 、 V 、 N b 、 T 
a 、 T i  。
In addition, other than Cr (7) VIB group, VB group, rVB group elements, Mo, W, V, Nb, T
a, Ti.

Zr、Hfの1種以上の添加も好ましい。 これらの添
加により、高温高湿下での耐高速摩耗性が向」二し、熱
処理後の脆化が減少する。
It is also preferable to add one or more of Zr and Hf. These additions improve high-speed wear resistance under high temperature and high humidity conditions and reduce embrittlement after heat treatment.

この場合、これらの添加量は、5at%以下。In this case, the amount of these additions is 5 at% or less.

特に0.1〜2at%であることが好ましい。In particular, it is preferably 0.1 to 2 at%.

そして、Ru、より好ましくはRu十Cr、さらに々イ
ましくはRu+Cr+(他のIVB〜■B族元素)を含
むときには、より一層好ましい結果をうる。
Further, when Ru, more preferably Ru+Cr, and even more preferably Ru+Cr+ (other IVB to IVB group elements) are included, even more favorable results can be obtained.

さらに、他の添加元素としては、Feを含むことができ
る。 Fe添加は、磁歪を低下させる。
Furthermore, other additive elements may include Fe. Addition of Fe reduces magnetostriction.

この場合、Fe添加量は6at%以下であることが好ま
しい。
In this case, the amount of Fe added is preferably 6 at% or less.

さらにまた、Niが含まれていてもよい。Furthermore, Ni may be included.

NiはCOを置換して、材料コストを低減させるが、そ
の添加量は10at%以下であることが好ましい。
Ni replaces CO and reduces material cost, but the amount added is preferably 10 at % or less.

加えて、Mnも好適な添加元素である。In addition, Mn is also a suitable additive element.

一方、XはZr、またはZrと他のガラス化元素の1挿
具−1ことの組合わせである。
On the other hand, X is Zr or a combination of Zr and another vitrifying element.

この場合、Xは通常Zrのみからなるが、この他、Zr
とB、St等の1種以上とからなってもよい。 B、S
t等を含む場合、これらの総計は10at%以下である
ことが好ましい。
In this case, X usually consists of only Zr, but in addition,
and one or more of B, St, etc. B,S
When t and the like are included, the total amount thereof is preferably 10 at% or less.

そして、Xの含有礒yは、5〜35at%、特に5〜3
0at%、より好ましくは5〜20at%であることが
好ましい。
The content of X is 5 to 35 at%, especially 5 to 3 at%.
It is preferably 0 at%, more preferably 5 to 20 at%.

このような磁性薄膜は、その複数層が、非磁性の中間層
を介して積層される。
In such a magnetic thin film, a plurality of layers are laminated with a nonmagnetic intermediate layer interposed therebetween.

中間層を形成する材質のビッカース硬度Hv(UP)l
荷重100 g)は400〜2000Kg/ m rn
’ )でなければならない。
Vickers hardness Hv (UP) of the material forming the intermediate layer
load 100g) is 400~2000Kg/mrn
' )Must.

この場合、Hvは、用いる材質の通常のバルク状態での
それである。
In this case, Hv is that of the material used in its normal bulk state.

Hvが2000Kg/mm’をこえると、突きあわせ面
での薄膜端面の平面度が悪くなり、実効ギヤツブ巾がひ
ろがり、特に高周波領域での出力が低下する。
When Hv exceeds 2000 Kg/mm', the flatness of the thin film end face at the abutting surface becomes poor, the effective gear width increases, and the output particularly in the high frequency range decreases.

また、Hvが400Kg/mmj未満となると、耐摩耗
性が低下し、高周波域での出力低下が大きくなる。
Moreover, when Hv becomes less than 400 Kg/mmj, wear resistance decreases and output decrease in a high frequency range becomes large.

この場合、Hvは400〜1500 K g / m 
m’であることが好ましい。
In this case, Hv is 400-1500 K g/m
It is preferable that it is m'.

このようなHvを示す材質としては、各種無機物がある
が、特に酸化アルミ、酸化ケイ素、醇化チタン、醇化マ
グネシウム等、あるいはこれらの複合系や、各種ガラス
質などがある。
Materials exhibiting such Hv include various inorganic substances, particularly aluminum oxide, silicon oxide, titanium oxide, magnesium oxide, composite systems thereof, and various types of glass.

このような中間層は、30〜100OAの厚さとするこ
とが好ましい。 これにより、うず電源用が減少し、高
周波領域での出力低下はきわめて小さくなる。
Such an intermediate layer preferably has a thickness of 30 to 100 OA. This reduces the amount of eddy power used, and the drop in output in the high frequency range becomes extremely small.

上記のような磁性薄膜と中間層とは、互いに積層されて
、積層体を形成する。
The magnetic thin film and the intermediate layer as described above are stacked on each other to form a laminate.

この場合、磁性薄膜は、一般に、1〜3層程度とされる
In this case, the magnetic thin film generally has about 1 to 3 layers.

そして、積層体の全体の厚さは0.1〜100 gm、
好ましくは、0.1〜30gm程度とされる。
The total thickness of the laminate is 0.1 to 100 gm,
Preferably, it is about 0.1 to 30 gm.

用いる基体としては、通常、非磁性のものを用いる。The substrate used is usually non-magnetic.

この場合、ノ、(体の材質には特に制限はない。In this case, there are no particular restrictions on the material of the body.

従って、各種酸化物、炭化物、ケイ化物、窒化物、ガラ
ス等はいずれも好適に使用できる。
Therefore, any of various oxides, carbides, silicides, nitrides, glasses, etc. can be suitably used.

そして、基体材質は、非晶質磁性合金薄膜の物性と、加
工性、媒体とのしゆう動性などを考1 慮して適宜選釈して用いればよい。
The substrate material may be selected and used as appropriate, taking into consideration the physical properties of the amorphous magnetic alloy thin film, workability, fluidity with the medium, etc.

このような)、(体の厚さについては、特に制限はない
が、通常、0.1〜5mm程度とする。
Although there is no particular restriction on the thickness of the body, it is usually about 0.1 to 5 mm.

このような基体−1−に、非晶質磁性合金薄膜と非磁性
の中間層との積層体を形成するには、気相被着法、通常
、スパッタリングに従う。
To form a laminate of an amorphous magnetic alloy thin film and a nonmagnetic intermediate layer on such a substrate -1-, a vapor phase deposition method, usually sputtering, is used.

用いるスバ・ンタリングとしては、li ”71イオン
により、ターゲットをスパッタし、通常、数eV〜約1
00eV稈度の運動エネルギーにてターゲ、ト物質を蒸
散させる公知のスパッタリングはいずれも使用可能であ
る。
The sputtering method used is to sputter a target with li''71 ions, usually at several eV to about 1
Any known sputtering method that evaporates the target material with a kinetic energy of 00 eV can be used.

従って、Ar等の不活性ガス雰囲気中で、異常グロー放
電によるp、 r/:、l;のイオンによって、ターゲ
ットをスパッタするプラズマ法を用いても、ターゲット
にAr、Kr、Xe等のイオンビームを照射して行うイ
オンビーム法を用いてもよい。
Therefore, even if a plasma method is used in which the target is sputtered with p, r/:, l; ions generated by abnormal glow discharge in an inert gas atmosphere such as Ar, the target will not be exposed to the ion beam of Ar, Kr, Xe, etc. An ion beam method using irradiation may also be used.

プラズマ法によるときには、いわゆるRFスパッタであ
っても、また、いわゆるDCスパッタであってもよく、
その装置構成も2極、4極2 等いずれであってもよい。 さらには、いわゆるマグネ
トロンスパッタを用いてもよい。 また場合によっては
、いわゆる反応性スパッタによることもできる。 さら
に、イオンビーム法としては、種々の方式に従うことか
できる。
When using a plasma method, it may be so-called RF sputtering or so-called DC sputtering,
The device configuration may be either 2-pole, 4-pole, etc. Furthermore, so-called magnetron sputtering may be used. In some cases, so-called reactive sputtering may also be used. Furthermore, various methods can be used as the ion beam method.

用いるターゲットとしては、通常の場合は、対応するM
1成のものを用いればよい。
In normal cases, the target used is the corresponding M
A one-piece product may be used.

なお、動作圧力、プレーI・電圧、プレート電流、極間
間隙等には特別の制限はなく、これらは、条件に応じ、
任意の値に設定することができる。
There are no special restrictions on operating pressure, plate I/voltage, plate current, gap between electrodes, etc., and these may vary depending on the conditions.
Can be set to any value.

このような場合、基体の一面−にには下地層を形成し、
この下地層上に非晶質磁性合金薄膜と非磁性の中間層と
の積層体を形成してもよい。
In such cases, a base layer is formed on one side of the substrate,
A laminate of an amorphous magnetic alloy thin film and a nonmagnetic intermediate layer may be formed on this underlayer.

また、非晶質磁性合金薄膜と非磁性の中間層との積層体
の上に」二層保護層を形成してもよいこのように、非晶
質磁性合金薄膜と非磁性の中間層との積層体3.3′を
形成した基体2.2′は、 第1図および第2図に示さ
れるように、所定の形状に加工され、1字、C字状等の
コア半体1.1′とされ、前部ギャップ部4および後部
ギャップ部にて、5i02等のギャップ材40を介して
つきあわされて磁気ヘッドとされる。 この場合、少な
くとも前部ギャップ部の突きあわせ面は、簿膜形成面の
法線から傾斜させて、いわゆるアジマス角をつけること
が好ましい。
In addition, a two-layer protective layer may be formed on the laminate of the amorphous magnetic alloy thin film and the nonmagnetic intermediate layer. The base body 2.2' on which the laminate 3.3' is formed is processed into a predetermined shape, as shown in FIGS. ', and are brought together at the front gap portion 4 and the rear gap portion via a gap material 40 such as 5i02 to form a magnetic head. In this case, it is preferable that at least the abutting surfaces of the front gap portion be inclined from the normal to the film forming surface to form a so-called azimuth angle.

なお、コア半体1.1′の薄膜と中間層との積層体3.
3′」−には、さらに、基体2.2′と同種の材質から
なる保護体5を接着することもできる。
Note that the core half 1.1' is a laminate of a thin film and an intermediate layer 3.
Furthermore, a protector 5 made of the same material as the base 2.2' can be bonded to the base 2.2'.

このような場合、薄膜形成後には、必要に応じて、無磁
場中あるいは静磁場ないし回転磁場中での熱処理を施す
ことが好ましい。
In such a case, after forming the thin film, it is preferable to perform heat treatment in a non-magnetic field or in a static magnetic field or a rotating magnetic field, if necessary.

次いで研削により所定の形状とし、また必要に応じ所定
膜厚となるように研削を行い、さらに必要に応じ研摩を
行いコア半休とする。
Next, it is ground into a predetermined shape, and if necessary, it is ground to a predetermined thickness, and if necessary, it is further polished to make the core semi-dry.

そして、捲線8を施し、上記のようにつきあわせ、その
他必要な加工を行い、支持体9に固、71されて、磁気
ヘッドが作製される。
Then, winding 8 is applied, alignment is performed as described above, and other necessary processing is performed, and the magnetic head is fixed 71 to a support 9 to produce a magnetic head.

なお、−1−記の熱処理は、形状加圧後、捲線前に施し
てもよい。
Note that the heat treatment described in -1- may be performed after shape pressing and before winding.

■ 発明の具体的作用効果 このような磁気ヘッドは、ビデオ用の録画、録再、音声
用等の回転ヘッド、あるいは電算機用磁気ヘッド等とし
てきわめて有用である。
(2) Specific effects of the invention Such a magnetic head is extremely useful as a rotary head for video recording, recording/playback, audio, etc., or a magnetic head for computers.

そして、本発明の磁気ヘッドでは、卸摩耗性がきわめて
高くなる。
The magnetic head of the present invention has extremely high wear resistance.

また、  うず電流相がきわめて小5くなる結果、高周
波域での出力低下はきわめて小さくなる。
Furthermore, as the eddy current phase becomes extremely small, the output drop in the high frequency range becomes extremely small.

さらに、ギャップ突き合わせ面に位置する薄膜の端面の
平面性が良好となり、実効ギヤ5.プ+t+のひろがり
が減少するので、これにより高周波域での出力低下はさ
らに減少する。
Furthermore, the flatness of the end face of the thin film located at the gap abutting surface is improved, and the effective gear 5. Since the spread of +t+ is reduced, this further reduces the output drop in the high frequency range.

■ 発明の具体的実施例 以下、未発明の具体的実施例を示し、本発明5 をさらに詳細に説明するや 実施例 2mm厚のアルミナ基板上に、下記表1に示される組成
の各非晶質磁性合金の薄膜を30μm厚に形成した。
■ Specific Examples of the Invention In the following, specific examples that have not yet been invented will be shown, and the present invention 5 will be explained in more detail. A thin film of a magnetic alloy was formed to a thickness of 30 μm.

これとは別に、 磁性層の総計の厚さを、30gmに保
持して、その1/3部分に、それぞれ、2QOA厚のS
iS102(117=1500/mm)、BK7ガラス
()lv=605Kg/mm’)、KF2ガラス(Hv
= 480 K g / mnf)A 1203  (
Hv=500Kg/mm″)からなる中間層を介在させ
た。
Separately, the total thickness of the magnetic layer was kept at 30 gm, and 2QOA thick S was placed on 1/3 of the magnetic layer.
iS102 (117=1500/mm), BK7 glass ()lv=605Kg/mm'), KF2 glass (Hv
= 480 K g / mnf) A 1203 (
An intermediate layer consisting of Hv=500Kg/mm'') was interposed.

また、中間層を、Hv  400Kg/mrn’未満の
M n O2にかえたものを作製した。
Further, a layer was produced in which the intermediate layer was changed to M n O2 having an Hv of less than 400 Kg/mrn'.

薄膜の形成は、スパッタリングによって行った。The thin film was formed by sputtering.

この場合、ターゲットとしては、対応する組成のものを
用い、動作アルゴン圧 6 入電力 4 W/cm’にて、RFマグネトロンスパッ
タリングを行った。
In this case, a target with a corresponding composition was used, and RF magnetron sputtering was performed at an operating argon pressure of 6 and an input power of 4 W/cm'.

次に、これを研削および研摩し、第1図および第2図に
示されるようなコア半体1.1′をlI)、これを0.
3gmの前部ギャップ材 5i02を介してつきあわせ
、所定の捲線8を施し、磁気ヘッドを作製した。 なお
、アジマス角は 6°とした。
This is then ground and polished to form a core half 1.1' as shown in FIGS. 1 and 2).
They were brought together via a 3gm front gap material 5i02, and a predetermined winding 8 was applied to produce a magnetic head. Note that the azimuth angle was 6°.

次いで、各磁気ヘッドを8mmビデオ方式のデツキに搭
載し、以下の1)〜2)の測定を行なった。
Next, each magnetic head was mounted on an 8 mm video deck, and the following measurements 1) and 2) were performed.

l) 摩耗量 25℃、50%RHにて、塗布型のメタルテープを3 
、75 m/seeで200時間走行させて、 走行後
の摩耗量を表面粗さ計で測定した。
l) Amount of wear: At 25°C and 50% RH, apply 3 coated metal tape.
, 75 m/see for 200 hours, and the amount of wear after running was measured using a surface roughness meter.

?) 保存性 40℃、相対湿度90〜95%にて、240時間保存後
、保磁力15000eの塗布型のメタルテープを用いて
自己録再出力を測定して、その出力低下(dB)を測定
した。
? ) Storage property After storage for 240 hours at 40°C and relative humidity of 90-95%, the self-recording/reproducing output was measured using a coated metal tape with a coercive force of 15,000e, and the output drop (dB) was measured. .

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

19 表1に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。
19 From the results shown in Table 1, the effects of the present invention are clear.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は、本発明の磁気ヘッドの構造の1
例を示す図であり、このうち、第1図が斜視図、第2図
が拡大部分正面図である。 1.1′・・・・・・・・・コア半体 2.2′・・・・・・・・・基体 3.3′・・・・・・・・・非晶質磁性合金薄膜と非磁
性の中間層との積層体 出願人 東京電気化学工業株式会社 代理人  弁理士 石 井 陽 −
1 and 2 show one example of the structure of the magnetic head of the present invention.
1 is a perspective view, and FIG. 2 is an enlarged partial front view. 1.1'...Core half 2.2'...Substrate 3.3'...Amorphous magnetic alloy thin film and Laminated product with non-magnetic intermediate layer Applicant Tokyo Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Representative Patent attorney Yo Ishii −

Claims (1)

【特許請求の範囲】 ■、下記式で示される複数の非晶質磁性合金薄膜を、非
磁性の中間層を介して積層してなる積層体を基体」二に
有し、中間層を形成する材質のビッカース硬度が400
〜2000Kg/mrn’であることを特徴とする磁気
ヘッド。 式 (上記式中、Tは、Co、またはCoとCoおよびZr
以外の他の遷移金属元素の1種以上との組合わせを表わ
し、 Xは、Zr、またはZrと他のガラス化元素の1挿置」
−との組合わせを表わし、 x+y=100at%であり、 このうち、yは5〜35at%である。)2、ビッカー
ス硬度が400〜1500Kg/m m’である特許請
求の範囲第1項に記載の磁気ヘッド。 3、中間層の厚さが、30〜100OAである特許請求
の範囲第1項または第2項に記載の磁気ヘッド。 4、積層体の厚さが、0.1〜1100kである特許請
求の範囲第1.g′iないし第3項のいずれかに記載の
磁気ヘッド。
[Claims] (2) A laminate formed by laminating a plurality of amorphous magnetic alloy thin films represented by the following formula with a non-magnetic intermediate layer interposed therebetween is provided on the base 2 to form an intermediate layer. Vickers hardness of material is 400
~2000Kg/mrn'. Formula (in the above formula, T is Co, or Co and Co and Zr
X represents a combination of Zr or one of Zr and another vitrification element.
- represents a combination with x+y=100at%, where y is 5 to 35at%. )2. The magnetic head according to claim 1, having a Vickers hardness of 400 to 1500 Kg/mm'. 3. The magnetic head according to claim 1 or 2, wherein the intermediate layer has a thickness of 30 to 100 OA. 4. Claim 1, wherein the thickness of the laminate is 0.1 to 1100K. The magnetic head according to any one of g'i to 3.
JP968783A 1983-01-24 1983-01-24 Magnetic head Pending JPS59135620A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP968783A JPS59135620A (en) 1983-01-24 1983-01-24 Magnetic head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP968783A JPS59135620A (en) 1983-01-24 1983-01-24 Magnetic head

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59135620A true JPS59135620A (en) 1984-08-03

Family

ID=11727121

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP968783A Pending JPS59135620A (en) 1983-01-24 1983-01-24 Magnetic head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59135620A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2555057B2 (en) Corrosion resistant ferromagnetic film
JPH0451963B2 (en)
JPS59135620A (en) Magnetic head
JPS59135619A (en) Magnetic head
JPS6314406B2 (en)
JPS59135618A (en) Magnetic head
JPS59101025A (en) Magnetic head
JPS59135611A (en) Magnetic head
JPS59135616A (en) Magnetic head
JPS58182129A (en) Magnetic recording medium
JPS59101024A (en) Magnetic head
JPS59135612A (en) Magnetic head
JPS58224425A (en) Magnetic head
JPS59135613A (en) Magnetic head
JPS58224424A (en) Magnetic head
JPS5998317A (en) Magnetic head
JP3001313B2 (en) Magneto-optical recording medium
JPS58158030A (en) Magnetic recording medium
JPS62293511A (en) Magnetic recording medium
JPS592220A (en) Magnetic head
JPS6059729B2 (en) Method for manufacturing magnetic recording media
JPH04335206A (en) Magnetic recording medium
JPH10162338A (en) Metallic thin film type magnetic recording medium
JPH0323968B2 (en)
JPH01143312A (en) Amorphous soft magnetic laminated film