JPS59135618A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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Publication number
JPS59135618A
JPS59135618A JP893483A JP893483A JPS59135618A JP S59135618 A JPS59135618 A JP S59135618A JP 893483 A JP893483 A JP 893483A JP 893483 A JP893483 A JP 893483A JP S59135618 A JPS59135618 A JP S59135618A
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JP
Japan
Prior art keywords
intermediate layer
magnetic
magnetic head
linear expansion
coefft
Prior art date
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Pending
Application number
JP893483A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Ooya
大矢 一雄
Norio Ishijima
石島 矩男
Takahiro Yamamoto
隆洋 山本
Yoshimasa Oyanagi
大柳 佳正
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP893483A priority Critical patent/JPS59135618A/en
Publication of JPS59135618A publication Critical patent/JPS59135618A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/147Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the wear resistance and to reduce the output reduction in a high frequency region by laminating plural thin films of an amorphous magnetic alloy with a nonmagnetic intermediate layer having a specified coefft. of linear expansion in-between. CONSTITUTION:Plural thin films of an amophous magnetic alloy are laminated with a nonmagnetic intermediate layer in-between. The coefft. of linear expansion of the material forming the intermediate layer is 30-130X10<-1>deg<-7> at 25 deg.C. The coefft. of linear expansion is that measured when the material is in an ordinary bulk state. In case where the coefft. of linear expansion is not within said range, the adhesive strength of the intermediate layer to the magnetic layers is reduced, so the layers are stripped after long-term use, and the tracking accuracy is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 工 発明の背景 技術分野 本発明は磁気ヘッドに関する。 さらに詳しくは、非晶
質磁性合金薄膜を有する磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to a magnetic head. More specifically, the present invention relates to a magnetic head having an amorphous magnetic alloy thin film.

先行技術とその問題点 高い飽和磁化と高い透磁率を示すことから、非晶質磁性
合金の薄板が磁気ヘッド材料として注目を集めている。
Prior art and its problems Thin sheets of amorphous magnetic alloys have attracted attention as magnetic head materials because they exhibit high saturation magnetization and high magnetic permeability.

非晶質磁性合金薄板から、トラック+11のせまい磁気
ヘッド、例えばビデオ用の録画、録再ないし音声用の回
転ヘッド、あるいは電算機用磁気ヘッド等を形成するに
は、CO系の非晶質磁性合金の薄板をそのまま用いるか
、あるいはその複数枚を積層して、数十μ5m以下、特
に20〜30gm程度の厚さのトラック巾として、所定
の形状としたコア半休をギャップを介しつきあわせて作
製している。
In order to form a narrow magnetic head with +11 tracks from an amorphous magnetic alloy thin plate, such as a rotary head for video recording, recording/playback or audio, or a magnetic head for a computer, CO-based amorphous magnetic material is used. A thin alloy plate is used as it is, or multiple sheets thereof are laminated to create a track width of several tens of micrometers or less, especially about 20 to 30 gm, and half-core cores in a predetermined shape are made by butting them together through a gap. are doing.

しかし、このようにして作製されるビデオ用等のヘッド
は、厚さがきわめて薄いため強度的に1・分でなく、機
械的却下時に変形し、加工後の一、J度精度が悪いとい
う不都合がある。
However, the video heads produced in this way are extremely thin, so they have the disadvantage of not being strong enough, deforming when mechanically rejected, and having poor accuracy after machining. There is.

また、非晶質磁性合金の薄板は高弾性であるため、ビデ
オ用の磁気記録媒体との高速しゅう動にともない変形し
、ヘッドアームのバランスをくずして回転走行性が不良
となる。
Furthermore, since the thin plate of amorphous magnetic alloy has high elasticity, it deforms as it slides at high speed with the video magnetic recording medium, causing the head arm to become unbalanced and resulting in poor rotational running performance.

このような不都合を解消するためには、所定の基体上に
、スパッタリングにより非晶質磁性合金の薄膜を形成し
てコア半休とし、これから磁気ヘッドを形成することが
考えられる。 そして、このように形成した磁気ヘッド
では、」−記したような不都合は解消する。
In order to eliminate such inconveniences, it is conceivable to form a thin film of an amorphous magnetic alloy by sputtering on a predetermined substrate to form a half-core core, and then form a magnetic head from this. In the magnetic head formed in this way, the disadvantages mentioned above are eliminated.

しかし、このように形成される磁気ヘッドでは、ml厚
耗性に欠けるという欠点がある。
However, the magnetic head formed in this manner has a drawback of lacking in ml thickness resistance.

また、うず電流相が無視できず、高周波域での出力低下
が大きいという欠点がある。
Further, there is a drawback that the eddy current phase cannot be ignored and the output decreases significantly in the high frequency range.

このような場合、磁性薄膜を分割して、分割された複数
の磁性薄膜間に非磁性の薄膜中間層を介在させれば、こ
のような不都合は改善される。
In such cases, such inconveniences can be alleviated by dividing the magnetic thin film and interposing a nonmagnetic thin film intermediate layer between the plurality of divided magnetic thin films.

しかし、通常の中間層、例えば5i02等では、媒体を
長期間しゆう動させると、中間層と磁性薄膜間に剥離が
生じ、トラック精度が低下したり、その他各種の不都合
が生じる。
However, with a normal intermediate layer, such as 5i02, when the medium is moved for a long period of time, separation occurs between the intermediate layer and the magnetic thin film, resulting in a decrease in tracking accuracy and various other problems.

II  発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる1]的は、耐摩耗性が向−1−シ、高周波
域での出力低下が少なく、媒体との長期間に亘るしゅう
動径もトラック精度の良好な磁気ヘッドを提供すること
にある。
II. OBJECTS OF THE INVENTION The present invention was developed in view of the above-mentioned circumstances, and its main objectives are (1) to improve wear resistance, to reduce output drop in the high frequency range, and to improve interaction with media. The object of the present invention is to provide a magnetic head with good tracking accuracy over a long period of time.

このような目的は、下記の本発明によって達成される。Such objects are achieved by the invention described below.

すなわち本発明は、 複数の非晶質磁性合金薄膜を非磁性の中間層を介して積
層してなる積層体を基体」二に有し、中間層を形成する
材質の線膨張係数が 30〜130 X I O−0−
7de’であることを特徴とする磁気ヘッドである。
That is, the present invention has a laminate formed by laminating a plurality of amorphous magnetic alloy thin films with a non-magnetic intermediate layer interposed therebetween as a base body, and the material forming the intermediate layer has a coefficient of linear expansion of 30 to 130. X I O-0-
7de'.

■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。■Specific structure of the invention Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明における薄膜は、磁性を有し、実質的に長範囲の
規則性をもたない非晶質状態にある。
The thin film in the present invention has magnetic properties and is in an amorphous state with substantially no long-range regularity.

非晶質磁性合金薄膜の組成については特に制限はないが
、特に、下記式で示されるものであることが好ましい。
Although there is no particular restriction on the composition of the amorphous magnetic alloy thin film, it is particularly preferable that it be represented by the following formula.

式 4二部式において、Tは、COまたはCOと他の遷移金
属元素の1種以上との組み合わせを表わす。
In the two-part formula 4, T represents CO or a combination of CO and one or more other transition metal elements.

すなわち、TはCo単独からなってもよく、またCOと
他の遷移金属元素とからなってもよい。
That is, T may consist of Co alone, or may consist of CO and another transition metal element.

Tが、Coと他の遷移金属元素とからなる場合、他の遷
移金属元素としては、Fe、Ni。
When T consists of Co and other transition metal elements, the other transition metal elements include Fe and Ni.

Cr 、 M o 、 W 、 V 、 N b 、 
T a 、 T i 、 Z rHf、Mn、Pt、R
u、Rh、Pd、Os。
Cr, Mo, W, V, Nb,
T a , T i , Z rHf, Mn, Pt, R
u, Rh, Pd, Os.

Ir等の1挿具」二をその具体例として挙げることがで
きるが、これらの総計は、38at%以下であることが
好ましい。
Specific examples include Ir and the like, but the total amount thereof is preferably 38 at% or less.

このようなT中の添加元素のうち、好ましい1例として
は、Ruがある。  Ruは、耐高速摩耗性を向上させ
、またメタルテープ(合金磁性粉を用いる塗布型テープ
)使用の際の出力低下を防止させる点で大きな効果をも
つ。
Among such additive elements in T, one preferable example is Ru. Ru has a great effect in improving high-speed wear resistance and preventing a decrease in output when using metal tape (coated tape using alloy magnetic powder).

なお、Ruを、 他の白金族元素、 例えばPt、Rh
等にかえたときには、このような効果は実現しない。
Note that Ru can be replaced with other platinum group elements, such as Pt, Rh
etc., such an effect will not be achieved.

この場合、Ru添加量は、8at%以下、特に0.5〜
6at%、より好ましくは1〜5at%であることが好
ましい。
In this case, the amount of Ru added is 8 at% or less, especially 0.5 to
It is preferably 6 at%, more preferably 1 to 5 at%.

好ましい他の元素としては、Crがある。Another preferred element is Cr.

Crの添加により、高温高湿下における耐高速摩耗性と
保存性とが格段と向」ニする。
By adding Cr, high-speed wear resistance and storage stability under high temperature and high humidity conditions are significantly improved.

この場合、Cr添加喰は、8at%以下、特に0.5〜
6at%、より好ましくは0.5〜5at%であること
が好ましい。
In this case, the Cr addition content is 8 at% or less, especially 0.5 to 0.
It is preferably 6 at%, more preferably 0.5 to 5 at%.

コノ他、Cr以外+7)VTR族、VB族、TVB族元
素、 M o 、 W 、 V 、 N b 、 T 
a 、 T i 。
Kono et al., other than Cr+7) VTR group, VB group, TVB group elements, Mo, W, V, Nb, T
a, Ti.

Zr、Hfの1挿具−1;の添加も好ましい。 これら
の添加により、高温高湿下での耐高速摩耗性が向」−す
る。
It is also preferable to add Zr and Hf. These additions improve high-speed wear resistance under high temperature and high humidity conditions.

この場合、これらの添加量は、5at%以下、特に0.
1〜2at%であることが好ましい。
In this case, the amount of these additions is 5 at% or less, especially 0.
It is preferably 1 to 2 at%.

そして、R11、より好ましくはRu+Cr、さらに好
ましくはRu+Cr+ (他のrVB〜■B族元素)を
含むときには、より一層好ましい結果をうる。
Further, when R11, more preferably Ru+Cr, and still more preferably Ru+Cr+ (other rVB to {circumflex over (IV) group elements)] is included, even more favorable results can be obtained.

さらに、他の添加元素としては、Feを含むことができ
る。 Fe添加は、磁歪を低下させる。
Furthermore, other additive elements may include Fe. Addition of Fe reduces magnetostriction.

この場合、Fe添加量は6at%以下、特に0.1〜6
at%、より好ましくは2〜5at%であることが好ま
しい。
In this case, the amount of Fe added is 6 at% or less, especially 0.1 to 6 at%.
It is preferable that it is at%, more preferably 2 to 5 at%.

さらにまた、Niが含まれていてもよい。Furthermore, Ni may be included.

NiはCoを置換して、材料コストを低減させるが、そ
の添加量は10at%以下であることかに了ましい。
Although Ni replaces Co and reduces material cost, it is understood that the amount added should be 10 at% or less.

加えて、Mnも好適な添加元素である。In addition, Mn is also a suitable additive element.

一方、Xはガラス化元素の1挿具」二である。On the other hand, X is a vitrification element.

ガラス化元素としては、 B、Si、I’、C。Vitrification elements include B, Si, I', and C.

A1等があり、これらの1挿具」二いずれであってもよ
いが、特に、B、またはSiおよびBを必須成分とする
ことが好ましい。
There are A1, etc., and any of these inserts may be used, but it is particularly preferable to use B or Si and B as essential components.

この場合、Bが10〜35at%、必要に応じSiが6
at%以下となると、耐摩耗性が向」ニし、好ましい結
果をうる。
In this case, B is 10 to 35 at%, and if necessary, Si is 6
When the content is at % or less, the wear resistance is improved and favorable results are obtained.

ソシテ、Si/(Si+B)(7)原子比がoまたは0
.2以下、特に0.05〜0.15となると、より一層
好ましい結果をうる。
Si/(Si+B) (7) atomic ratio is o or 0
.. When it is 2 or less, especially 0.05 to 0.15, even more favorable results can be obtained.

なお、P、C,A1等が、さらに含有される場合、これ
らは0.5at%以下であることが好ましい。
In addition, when P, C, A1, etc. are further contained, it is preferable that these are 0.5 at% or less.

このような薄膜は、基体]−に、通常、0.1〜100
gm、好ましくは0.1〜30pLm+7)厚さに形成
される。
Such a thin film usually has a thickness of 0.1 to 100
gm, preferably 0.1 to 30 pLm+7) thickness.

このような磁性薄膜は、その複数層が、非磁性の中間層
を介して積層される。
In such a magnetic thin film, a plurality of layers are laminated with a nonmagnetic intermediate layer interposed therebetween.

本発明において、中間層を形成する材質の線膨張係数は
 3O−130X10−’deg−7(25°C)でな
ければならない。 この場合、線膨張係数は、材質を、
通常のバルク状態としたときのそれである。
In the present invention, the material forming the intermediate layer must have a linear expansion coefficient of 3O-130X10-'deg-7 (25°C). In this case, the coefficient of linear expansion is
This is when it is in the normal bulk state.

線膨張係数がl 30 X 10−7deg −1をこ
えたり、30 X 10 ”7deg−’未満となルト
、中間層と磁性層の接着強度が低下して、長期に亘る使
用によって層間の剥離が生じ、トラッキング精度が低下
する。
If the coefficient of linear expansion exceeds l30 x 10-7deg-1 or becomes less than 30 x 10'7deg-', the adhesive strength between the intermediate layer and the magnetic layer decreases, resulting in delamination between the layers after long-term use. This results in a decrease in tracking accuracy.

さらに、中間層を形成する材質の通常のバルク状態での
ビッカース硬度Hvは、2000Kg/ m m’以下
であることが好ましい。
Further, it is preferable that the material forming the intermediate layer has a Vickers hardness Hv of 2000 Kg/mm' or less in a normal bulk state.

Hvが2000未満となると、コア突きあわせ面での研
削後の薄膜端面の平面度が悪くなり、実効ギャップがひ
ろがり、特に高周波領域での出力低下が大きくなるから
である。
This is because if Hv is less than 2,000, the flatness of the thin film end face after grinding at the core abutting surface becomes poor, the effective gap widens, and the output decreases particularly in the high frequency region becomes large.

この場合、Hvが、  400〜1500Kg/m m
’となると、より一層好ましい。 これは、耐摩耗性が
向上し、高周波域での出力低下が小さくなるからである
In this case, Hv is 400-1500Kg/m m
' is even more preferable. This is because the wear resistance is improved and the drop in output in the high frequency range is reduced.

このような物性を示す材質としては、各種無機物があり
これらのうち1、特に好適なものとしては、酸化アルミ
、酸化チタン、醇化マグネシウム等、あるいはこれらの
複合材料や、各種ガラス質などがある。
Materials exhibiting such physical properties include various inorganic substances, and particularly preferred ones include aluminum oxide, titanium oxide, magnesium liquefaction, composite materials thereof, and various types of glass.

このような中間層は、30〜100OAの厚さとするこ
とが好ましい。 これにより、うず電流積が減少し、高
周波領域での出力低下はきわめて小さくなる。
Such an intermediate layer preferably has a thickness of 30 to 100 OA. As a result, the eddy current product decreases, and the drop in output in the high frequency range becomes extremely small.

1 1−記のような磁性薄膜と中間層とは、互いに積層され
て、積層体を形成する。
1. The magnetic thin film and intermediate layer as described in 1-1- are stacked on each other to form a laminate.

この場合、磁性薄膜は、一般に、1〜3層程度とされる
In this case, the magnetic thin film generally has about 1 to 3 layers.

そして、積層体の全体の厚さは0.1〜1100p−、
(Ifましくは、0.1〜30gm程度とされる。
The total thickness of the laminate is 0.1 to 1100 p-,
(If preferred, it is about 0.1 to 30 gm.

用いる基体としては、通常、非磁性のものを用いる。The substrate used is usually non-magnetic.

この場合、)、(体の材質には特にlit限はない。In this case, there is no particular limit on the material of the body.

従って、各種酸化物、炭化物、ケイ化物、窒化物、ガラ
ス等はいずれも好適に使用できる。
Therefore, any of various oxides, carbides, silicides, nitrides, glasses, etc. can be suitably used.

そして、基体材質は、非晶質磁性合金薄膜の物性と、加
二「性、媒体とのしゅう動性などを考慮して適宜選択し
て用いればよい。
The substrate material may be appropriately selected and used in consideration of the physical properties of the amorphous magnetic alloy thin film, magnetic properties, sliding properties with the medium, etc.

このような基体の厚さについては、特に制限はないが、
通常、0.1〜5mm程度とする。
There are no particular restrictions on the thickness of such a substrate, but
Usually, it is about 0.1 to 5 mm.

このような基体−1−に、非晶質磁性合金薄膜と非磁性
の中間層との積層体を形成するには、気相被着法、通常
、スパッタリングに従う。
To form a laminate of an amorphous magnetic alloy thin film and a nonmagnetic intermediate layer on such a substrate -1-, a vapor phase deposition method, usually sputtering, is used.

2 用いるスパッタリングとしては、衝撃イオンにより、タ
ーゲットをスパッタし、通常、数eV〜約100eV程
度の運動エネルギーにてターゲット物質を蒸散させる公
知のスパッタリングはいずれも使用可能である。
2 As the sputtering method used, any known sputtering method can be used in which a target is sputtered by bombarded ions, and the target material is usually evaporated with a kinetic energy of several eV to about 100 eV.

従って、Ar等の不活性ガス雰囲気中で、異常グロー放
電によるAr等のイオンによって、ターゲットをスパッ
タするプラズマ法を用いても、ターゲットにAr、Kr
、Xe等のイオンビームを照射して行うイオンビーム法
を用いてもよい。
Therefore, even if a plasma method is used in which the target is sputtered with ions such as Ar caused by abnormal glow discharge in an inert gas atmosphere such as Ar,
An ion beam method in which ion beams such as , Xe, etc. are irradiated may be used.

プラズマ法によるときには、いわゆるRFスパッタであ
っても、また、いわゆるDCスパッタであってもよく、
その装置構成も2極、4極等いずれであってもよい。 
さらには、いわゆるマグネトロンスパッタを用いてもよ
い。 また場合によっては、いわゆる反応性スパッタに
よることもできる。 さらに、イオンビーム法としては
1種々の方式に従うことができる。
When using a plasma method, it may be so-called RF sputtering or so-called DC sputtering,
The device configuration may be either 2-pole, 4-pole, etc.
Furthermore, so-called magnetron sputtering may be used. In some cases, so-called reactive sputtering may also be used. Furthermore, various methods can be used as the ion beam method.

用いるターゲラ]・とじては、通常の場合は、対応する
組成のものを用いればよい。
[Tagera to be used] - In normal cases, one with a corresponding composition may be used.

なお、動作圧力、プレート電圧、プレート電流、極間間
隙等には特別の制限はなく、これらは、条件に応じ、任
意の値に設定することができる。
Note that there are no particular restrictions on the operating pressure, plate voltage, plate current, gap between electrodes, etc., and these can be set to arbitrary values depending on the conditions.

このような場合、基体の一面上には下地層を形成し、こ
の下地層−1−に非晶質磁性合金薄膜と非磁性の中間層
との積層体を形成してもよい。
In such a case, an underlayer may be formed on one surface of the substrate, and a laminate of an amorphous magnetic alloy thin film and a nonmagnetic intermediate layer may be formed on this underlayer -1-.

また、非晶質磁性合金薄膜と非磁性の中間層との積層体
の−Lに、」一層保護層を形成してもよい。
Furthermore, a protective layer may be formed on -L of the laminate of the amorphous magnetic alloy thin film and the nonmagnetic intermediate layer.

このように、非晶質磁性合金薄膜と非磁性の中間層との
積層体3.3′を形成した基体2.2′は、 第1図お
よび第2図に示されるように、所定の形状に加工され、
工学、C字状等のコア半体l、1′ときれ、前部ギヤ・
ンプ部4および後部ギャップ部にて、5i02等のギャ
ップ材40を介してつきあわされて磁気ヘッドとされる
。 この場合、少なくとも前部ギャップ部の突きあわせ
面は、薄膜形成面の法線から傾斜させて、いわゆるアジ
マス角をつけることがkTましい。
In this way, the base body 2.2' on which the laminate 3.3' of the amorphous magnetic alloy thin film and the non-magnetic intermediate layer is formed has a predetermined shape as shown in FIGS. Processed into
Engineering, C-shaped core halves l, 1' and broken, front gear.
The pump section 4 and the rear gap section are brought together via a gap material 40 such as 5i02 to form a magnetic head. In this case, it is preferable that at least the abutting surfaces of the front gap portion be inclined from the normal line of the thin film forming surface to form a so-called azimuth angle.

なお、コア半体1.1′の薄膜と中間層との積層体3.
3′上には、さらに、基体2.2′と同種の材質からな
る保護体5を接着することもできる。
Note that the core half 1.1' is a laminate of a thin film and an intermediate layer 3.
Furthermore, a protective body 5 made of the same material as the base body 2.2' can be adhered onto the base body 2.2'.

このような場合、薄膜形成後には、必要に応じて、無磁
場中あるいは静磁場ないし回転磁場中での熱処理を施す
ことが好ましい。
In such a case, after forming the thin film, it is preferable to perform heat treatment in a non-magnetic field or in a static magnetic field or a rotating magnetic field, if necessary.

次いで研削により所定の形状とし、また必要に応し所定
膜厚となるように研削を行い、さらに必要に応じ研摩を
行いコア半休とする。
Next, it is ground into a predetermined shape, and if necessary, it is ground to a predetermined thickness, and if necessary, it is further polished to make the core semi-dry.

そして、捲線8を施し、」:記のようにつきあわぜ、そ
の他必要な加工を行い、支持体9に固着されて、磁気ヘ
ッドが作製される。
Then, winding 8 is applied, winding is performed as shown below, and other necessary processing is performed, and the magnetic head is fixed to a support 9 to produce a magnetic head.

なお、−1−記の熱処理は、形状加工後、捲線前に施し
てもよい。
Note that the heat treatment described in -1- may be performed after shape processing and before winding.

■ 発明の具体的作用効果 このような磁気ヘッドは、ビデオ用の録画、5 録再、音j44川等の回転ヘッド、あるいは電算機用磁
気ヘッド等どしてきわめてイ1用である。
(2) Specific effects of the invention Such a magnetic head is extremely useful for video recording, recording/playback, rotating heads for audio equipment, magnetic heads for computers, and the like.

そして、本発明の磁気ヘッドでは、耐摩耗性がきわめて
高くなる。
The magnetic head of the present invention has extremely high wear resistance.

また、うず電流積がきわめて小さくなる結果、高周波域
での出力低下はきわめて小さくなる。
Furthermore, as a result of the eddy current product becoming extremely small, the output drop in the high frequency range becomes extremely small.

さらに、媒体と長期に亘ってしゅう動させても、層間の
剥離はきわめて少なく、トララック精度の低下などの不
都合はきわめて少ない。
Furthermore, even if it is slid over a long period of time with a medium, there is very little separation between layers, and there are very few problems such as a decrease in tracking accuracy.

そして、突きあわせ面のモ面度の低下はきわめて少なく
、実効ギャップがひろがって、高周波領域での出力低下
が生じることもない。
Further, the decrease in the surface roughness of the abutting surfaces is extremely small, and the effective gap does not widen to cause a decrease in output in the high frequency range.

■ 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
(2) Specific Examples of the Invention Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown and the present invention will be explained in more detail.

実施例 2■厚のアルミナ基板上に、下記表1に示される組成の
各非品質磁性合金の薄膜を30pm 6 厚に形成した。
Example 2 A thin film of each non-quality magnetic alloy having the composition shown in Table 1 below was formed to a thickness of 30 pm 6 on an alumina substrate having a thickness of 30 pm.

これとは別に、磁性層の総計の厚さを、30pLmに保
持して、 その1X3部分に、それぞれ、200A厚の
Al2O3(67X10−7deg−’)からなる中間
層を介在させた。
Separately, the total thickness of the magnetic layer was maintained at 30 pLm, and an intermediate layer made of Al2O3 (67X10-7deg-') with a thickness of 200A was interposed in each 1X3 portion thereof.

また、 中間層を、 KF2ガラス(86×100−7
de −’) 、 BK 7ガラス(77×10″7d
eg −1) 、 T i 02 (90X 10−0
−7de’)にかえたものを作製した。
In addition, the intermediate layer is made of KF2 glass (86 x 100-7
de-'), BK 7 glass (77 x 10''7d
eg -1), T i 02 (90X 10-0
-7de') was produced.

さらに、比較のため、中間層を、SiO2(4X 10
−7deg−’)にかえたものを作製した。
Furthermore, for comparison, the intermediate layer was made of SiO2 (4X 10
-7deg-') was produced.

これら各薄膜の形成は、スパッタリングによって行った
Each of these thin films was formed by sputtering.

この場合、ターゲットとじては、対応する組成のものを
用い、動作アルゴン圧  5.5×10 =Torr、
プレート電圧 2KV、投入電力4  W/crn’に
て、RFマグネ]・ロンスパッタリングを行った。
In this case, a target with a corresponding composition is used, and the operating argon pressure is 5.5×10 = Torr.
RF magnetron sputtering was performed at a plate voltage of 2 KV and input power of 4 W/crn'.

次に、これを研削および研摩し、第1図および第2図に
示されるようなコア半体l、1′をイ11、これを0.
31Lmの前部ギャップ材 5i02を介してつきあわ
せ、所定の捲線8を施し、磁気ヘッドを作製した。 な
お、アジマス角は6°とした。
Next, this is ground and polished to form core halves l, 1' as shown in FIGS. 1 and 2.
They were brought together via a front gap material 5i02 of 31 Lm, and a predetermined winding 8 was applied to produce a magnetic head. Note that the azimuth angle was 6°.

次いで、各磁気ヘッドを8mmビデオ方式のデツキに搭
載し、以下の1)〜3)の測定を行なった。
Next, each magnetic head was mounted on an 8 mm video deck, and the following measurements 1) to 3) were performed.

1)   )ラック精度 25°C150%RHにて、メタルテープを、3 、7
5 m1secで500時間走行させた 後のトラック
精度を測定した。 この場合、Oは±Igm以下、×は
±5pm以」−であることを示す。
1)) Rack accuracy 25°C, 150%RH, metal tape 3,7
Track accuracy was measured after running for 500 hours at 5 ml sec. In this case, O indicates ±Igm or less, and × indicates ±5pm or less.

2) 摩耗量 25°C150%RHにて、メタルテープを時間走行さ
せて、走行後の庁耗量(用 m)を表面粗さ計で測定した。
2) Amount of Wear The metal tape was run for a period of time at 25° C. and 150% RH, and the amount of wear (in m) after running was measured using a surface roughness meter.

3) 保存性 70℃、95%RHニーC1240時間保存したのち、
保存前と保存後との0.5MHz15MHzのf特劣化
(dB)を測定した。
3) Storage property After storage at 70°C and 95% RH for 40 hours,
The f-characteristic deterioration (dB) at 0.5 MHz and 15 MHz before and after storage was measured.

これらの結果を表1に示す。These results are shown in Table 1.

表1に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。
From the results shown in Table 1, the effects of the present invention are clear.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は、本発明の磁気ヘッドの構造の1
例を示す図であり、このうち、第1図が斜視図、第2図
が拡大部分正面図である。 ■、1′・・・・・・・・・コア半休 2.2′・・・・・・・・・基体 3.3′・・・・・・・・・非晶質磁性合金薄膜と非磁
性の中間層との積層体 出願人 東京電気化学工業株式会社 代理人  弁理士 石 井 陽 − 1
1 and 2 show one example of the structure of the magnetic head of the present invention.
1 is a perspective view, and FIG. 2 is an enlarged partial front view. ■, 1'...Core half-open 2.2'...Base 3.3'...Amorphous magnetic alloy thin film and non-crystalline Laminated body with magnetic intermediate layer Applicant Tokyo Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Representative Patent attorney Yo Ishii - 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、複数の非晶質磁性合金薄膜を非磁性の中間層を介し
て積層してなる積層体を基体上に有し、中間層を形成す
る材質の線膨張係数が30〜130 X 10−0−7
de”であることを特徴とする磁気ヘッド。 2、中間層を形成する材質のビッカース硬度が2000
Kg/mrn’以下である特許請求の範囲第1項に記載
の磁気ヘッド。 3 、 ビッカース硬度が400〜1500Kg/m 
m’である特許請求の範囲第2項に記載の磁気ヘッド。 4、中間層の厚さが、30〜100OAである特許請求
の範囲第1項ないし第3項に記載の磁気ヘッド。 5、積層体の厚さが、0..1〜1100pLである特
許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の磁
気ヘッド。 6、非晶質磁性合金が下記式で示される組成をもつ特許
請求の範囲第1頑ないし第5項のいずれかに記載の磁気
ヘッド。 式 (上記式において、Tは、CoまたはCoと他の遷移金
属元素の1種以上との組合わせを表わし、 Xは、ガラス化元素の1挿具」二を表わす。 x+y=100at%であり、 このうち、yは5〜35at%である。)
[Claims] 1. A laminate formed by laminating a plurality of amorphous magnetic alloy thin films with a non-magnetic intermediate layer interposed therebetween is provided on a substrate, and the linear expansion coefficient of the material forming the intermediate layer is 30. ~130 x 10-0-7
2. The material forming the intermediate layer has a Vickers hardness of 2000.
2. The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head is below Kg/mrn'. 3. Vickers hardness is 400-1500Kg/m
The magnetic head according to claim 2, which is m'. 4. The magnetic head according to claims 1 to 3, wherein the intermediate layer has a thickness of 30 to 100 OA. 5. The thickness of the laminate is 0. .. The magnetic head according to any one of claims 1 to 4, wherein the magnetic head has a particle size of 1 to 1100 pL. 6. A magnetic head according to any one of claims 1 to 5, wherein the amorphous magnetic alloy has a composition represented by the following formula. Formula (In the above formula, T represents Co or a combination of Co and one or more other transition metal elements, and X represents a vitrification element. x + y = 100 at% , Among these, y is 5 to 35 at%.)
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