JPS592220A - Magnetic head - Google Patents
Magnetic headInfo
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- JPS592220A JPS592220A JP10953882A JP10953882A JPS592220A JP S592220 A JPS592220 A JP S592220A JP 10953882 A JP10953882 A JP 10953882A JP 10953882 A JP10953882 A JP 10953882A JP S592220 A JPS592220 A JP S592220A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は磁気ヘッドに関する。 さらに詳しくは、非晶
質磁性合金薄膜を有する磁気ヘッドに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Background of the Invention Technical Field The present invention relates to a magnetic head. More specifically, the present invention relates to a magnetic head having an amorphous magnetic alloy thin film.
先行技術とその問題点
高い飽和磁化と高い透磁率を示すことがら、非晶質磁性
合金の薄板が磁気ヘッド材料として注目を集めている。Prior art and its problems Thin sheets of amorphous magnetic alloys have attracted attention as magnetic head materials because they exhibit high saturation magnetization and high magnetic permeability.
非晶質磁性合金薄板から、トランク中のせまい磁気ヘッ
ド、例えば、ビデオ用の録画、録再ないし音声用の回転
ヘッド、あるいは電算機用磁気ヘッド等を形成するには
、薄板をそのまま用いるか、あるいはその複数枚を積層
して、数十μm以下、特に20−30μm程度の厚さの
トランク中として、所定の形状としたコア半休をギャッ
プを介しつきあわせて作製している。To form a narrow magnetic head in a trunk, for example, a rotating head for video recording, recording/playback, or audio, or a magnetic head for a computer, from an amorphous magnetic alloy thin sheet, the thin sheet may be used as is, or the thin sheet may be used as is. Alternatively, a plurality of the cores are laminated to form a trunk having a thickness of several tens of micrometers or less, particularly about 20 to 30 micrometers, and half cores of a predetermined shape are brought together through a gap.
しかし、このようにして作製されるビデオ用等の磁気ヘ
ッドは、厚さがきわめて薄いため強度的に十分でなく、
機械的加工時に変形し、高い寸法精度を要求される磁気
ヘッドには適さない。However, the magnetic heads for video and other applications produced in this way are extremely thin and lack sufficient strength.
It deforms during mechanical processing and is not suitable for magnetic heads that require high dimensional accuracy.
また、非晶質磁性合金の薄板は高弾性であるため、ビデ
オ用の磁気記録媒体との高速摺動にともない、変形し、
ヘッドアームのバランスをくずして回転走行性が悪くな
る。In addition, since the thin plate of amorphous magnetic alloy is highly elastic, it deforms when sliding at high speed with the magnetic recording medium for video.
The head arm becomes unbalanced and rotational performance deteriorates.
このような不都合を解消するためには、基体上に5スパ
ツタリングにより非晶質磁性合金の薄膜を形成してコア
半休とし、これから磁気ヘッドを形成することが考えら
れる。In order to eliminate such inconveniences, it is conceivable to form a thin film of an amorphous magnetic alloy on the substrate by sputtering to form a half-core core, and then form a magnetic head from this.
そして、このような磁気ヘッドを用いれば。And if you use such a magnetic head.
上記したような不都合は解消する。The above-mentioned inconveniences will be resolved.
しかし5通常の組成の非晶質磁性合金薄膜を形成すると
きには、磁気記録媒体との高速摺動にともなう摩耗量が
太きいという欠点がある。However, when forming an amorphous magnetic alloy thin film having a typical composition, there is a drawback that the amount of wear caused by high-speed sliding with a magnetic recording medium is large.
また、合金磁性粉を用いる塗布型の媒体。Also, a coating type medium that uses alloy magnetic powder.
いわゆるメタルテープ等を用いるときには、使用に従い
、薄膜が着色して、出力低下を招くという欠点がある。When a so-called metal tape or the like is used, there is a drawback that the thin film becomes colored as it is used, resulting in a decrease in output.
このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、 Ruを
含む非晶質磁性合金薄膜を用いる旨の提案を行っている
。In view of these circumstances, the present inventors have previously proposed the use of an amorphous magnetic alloy thin film containing Ru.
このような場合には、高速摩耗量は減少し、メタルテー
プ使用による出力低下は減少する。In such a case, the amount of high-speed wear is reduced, and the reduction in output due to the use of metal tape is reduced.
しかし、高温高湿下での保存により、周波数特性(f特
)が劣下するという欠点がある。However, there is a drawback that the frequency characteristics (f characteristics) deteriorate due to storage under high temperature and high humidity conditions.
これに対し、本発明者らは、先に、RuとCrとを含む
非晶質磁性合金薄膜を用いる旨の提案を行っている。
そして、このような場合には、高温高湿下での保存後の
f特の劣下は減少し、しかも高速摩耗量も少なく、メタ
ルテープ使用による出力低下も少ない。In contrast, the present inventors have previously proposed the use of an amorphous magnetic alloy thin film containing Ru and Cr.
In such a case, the deterioration of the f characteristic after storage under high temperature and high humidity conditions is reduced, the amount of high-speed wear is also small, and the decrease in output due to the use of metal tape is also small.
しかし、高温高湿下での高速摩耗量が大きいという欠点
がある。However, it has the disadvantage of a large amount of high-speed wear under high temperature and high humidity conditions.
■ 発明の目的
本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、通常の条件下はもとより、高温高
湿下においても高速摩耗量が少なく、メタルテープの使
用による出力低下が少なく、保存後のf特の劣化が少な
い非晶質磁性合金薄膜を有する磁気ヘッドを提供するこ
とにある。■ Purpose of the Invention The present invention was made in view of the above-mentioned circumstances, and its main purpose is to reduce the amount of high-speed wear even under normal conditions as well as under high temperature and high humidity, and to reduce the amount of wear due to the use of metal tape. It is an object of the present invention to provide a magnetic head having an amorphous magnetic alloy thin film that exhibits less decrease in output and less deterioration of f-characteristics after storage.
本発明者らは、このような目的につき鋭意研究を行い、
本発明をなすに至った。The present inventors have conducted intensive research for such purposes,
The present invention has been accomplished.
すなわち本発明は、基体上に、下記式で示される組成の
非晶質磁性合金薄膜を形成してなることを特徴とする磁
気ヘッドである。That is, the present invention is a magnetic head characterized in that an amorphous magnetic alloy thin film having a composition represented by the following formula is formed on a substrate.
式’rxX、Ruz CrwMv
(上式中、Tは、Co、CoおよびFe、またはCo、
もしくはCoおよびFeと他の遷移金属元素の7種以上
との組合せを表わし、
Xは、B、BおよびSi 、またはB、もしくはBおよ
びSiと他のガラス化元素の7種以上との組合せを表わ
し、
Mは、Cr以外の他のR’B、VBおよびVIB族元素
の7種以上を表わす。Formula 'rxX, Ruz CrwMv (wherein T is Co, Co and Fe, or Co,
or a combination of Co and Fe and seven or more other transition metal elements; X represents B, B and Si, or B, or a combination of B and Si and seven or more other vitrification elements where M represents 7 or more of R'B, VB, and VIB group elements other than Cr.
x+y+z+w+v=10θat%であシ、このうちy
は/6−3!rat%であり、2はffat%以下であ
り、
Wはgat%以下であシ、
■は5at%以下である。)
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。x+y+z+w+v=10θat%, of which y
Ha/6-3! rat%, 2 is ffat% or less, W is gat% or less, and (2) is 5at% or less. ) ■Specific structure of the invention The specific structure of the present invention will be explained in detail below.
本発明における薄膜は、実質的に、長範囲の規則性をも
たない非晶質状態にある。The thin film in the present invention is substantially in an amorphous state with no long-range regularity.
そして、その組成は、上記式に示されるものである。The composition is shown in the above formula.
上記式において、T中にて、必要に応じ、Co、または
FeおよびCOとともに組合せ添加される他の添加元素
は、Fe、 Co、 Ruおよび■B、VB%VIB族
以外の他の遷移全以外素(5c−Zn : Y−Cd
; La−Hp : Ac以上)であし、例えばNil
Mn%Rh%Pd、 Os、 Ir。In the above formula, in T, if necessary, Co or other additive elements added in combination with Fe and CO include Fe, Co, Ru, and all other transitions other than B, VB% and VIB group. Element (5c-Zn: Y-Cd
; La-Hp: Ac or higher), for example Nil
Mn%Rh%Pd, Os, Ir.
pt等の7種以上をその具体例として挙げることができ
る。Specific examples include seven or more types such as pt.
一方%Xは、B、SiおよびB1またはBもしくはSi
およびBと他のがラス化元素の7種以上との組合せであ
ることが好ましい。On the other hand, %X is B, Si and B1 or B or Si
It is preferable that B is combined with seven or more lath-forming elements.
この場合、必要に応じ、B、またはStおよびBととも
に組合せ添加される他のガラス化元素の7例としては%
P、C%Ge%Sr1.AN等の7種以上を挙げること
ができる。In this case, if necessary, B or other vitrifying elements added in combination with St and B may be added in %
P, C%Ge%Sr1. Seven or more types, such as AN, can be mentioned.
さらに1本発明における組成においては、RuおよびC
rと、他のIVB、VB、VIB族元素とを必須成分と
する。Furthermore, in the composition in the present invention, Ru and C
r and other IVB, VB, and VIB group elements as essential components.
この場合、 Ruを他の白金族金属元素1例えばPt、
Rh等にかえ、Crを他のIVB、 VB。In this case, Ru is replaced by another platinum group metal element such as Pt,
Replace Cr with Rh, etc., with other IVB, VB.
VIB族元素、例えばTi、 Zr%V、 Nb、 T
a。Group VIB elements, such as Ti, Zr%V, Nb, T
a.
Mo、W等にかえたときには、本発明所定の効果は実現
しない。When the material is replaced with Mo, W, etc., the desired effects of the present invention will not be achieved.
これに対し、上記式において、x、’+y+z+w+v
=100at%の条件下にて、 Ru添加量2は、ga
t%以下である。On the other hand, in the above formula, x,'+y+z+w+v
= 100at%, Ru addition amount 2 is ga
t% or less.
これはgat%をこえると、非晶質化しにくくなり、ま
た逆に、耐高速摩耗性が低下し、メタルテープ使用によ
る出力低下が大きくなるからである。This is because when gat% is exceeded, it becomes difficult to become amorphous, and conversely, high-speed wear resistance decreases, and the output decrease due to the use of metal tape increases.
この場合、 Ru添加量2が小さいと、これらの効果の
実効がなくなるので、2は、0.5−gat%、よシ好
ましくは0.3 3at%であることが好ましい。In this case, if the Ru addition amount 2 is small, these effects will not be effective, so 2 is preferably 0.5-gat%, more preferably 0.33 at%.
一方、 Cr添添加量線、gat%以下である。On the other hand, the Cr addition amount curve is less than gat%.
gat%をこえると、非晶質化しにくくなシ、また、逆
に、特に高温高湿下での耐高速摩耗性や保存性が悪化す
るからである。This is because if it exceeds gat%, it becomes difficult to become amorphous, and conversely, high-speed abrasion resistance and storage stability, especially under high temperature and high humidity conditions, deteriorate.
この場合、Wが小さくなると、これらの効果の実効がな
くなるので%Wは0.!; −6at%、より好ましく
ほの5−5at%であることが好ましい。In this case, when W becomes small, these effects become ineffective, so %W becomes 0. ! -6 at%, more preferably just 5-5 at%.
他方、Cr以外の他のIVB、 VB、 VIB族元素
Mとしては、Ti、 Zr、 Hf%V、 Nb、 T
a。On the other hand, other IVB, VB, and VIB group elements M other than Cr include Ti, Zr, Hf%V, Nb, and T.
a.
Mo、Wのいずれであっても、あるいはこれらコ種以上
であってもよい。It may be Mo, W, or more than these types.
この場合、Mは、特に、Ti1Ta、 Nb、 Vお
よびZrのうちの1種以上であることが好ましい。In this case, M is particularly preferably one or more of Ti1Ta, Nb, V and Zr.
そして1Mの添加量Vは5at%以下である。The addition amount V of 1M is 5 at% or less.
Vが5at%をこえると、非晶質化しにくくなシ、また
、逆に、高温高湿下での高速摩耗量が増大する。When V exceeds 5 at%, it becomes difficult to become amorphous, and conversely, the amount of high-speed wear increases under high temperature and high humidity conditions.
この場合、■が小さいと、高温高湿下での高速摩耗量減
少の効果の実効がなくなるのでVは0./−2at%で
あることが好ましい、。In this case, if ■ is small, the effect of reducing the amount of wear at high speed under high temperature and high humidity becomes ineffective, so V is 0. /-2at% is preferable.
さらに、ガラス化元素成分Xの添加量yは/1−−33
at%である。Furthermore, the addition amount y of the vitrification element component X is /1--33
It is at%.
yが76a′t%未満となると、非晶質化が困難となり
、またyが33at%をこえると、十分な飽和磁束密度
が得られない。When y is less than 76 at%, it becomes difficult to make the material amorphous, and when y exceeds 33 at%, a sufficient saturation magnetic flux density cannot be obtained.
この場合、yが1g 30at%となると。In this case, if y is 1g 30at%.
よシ好ましい結果を得る。Get better results.
なお、Tの含有量Xは、100− y −z −w −
vであシ、弘3at%以上、gtl、at%未満である
が、ly2 g/、9at%であることが好ましい。Note that the T content X is 100-y-z-w-
V and Hiroshi3 at% or more and gtl and less than at%, but preferably ly2 g/ and 9 at%.
この場合、Tは、Co、あるいはCoおよびFeを含む
。In this case, T includes Co or Co and Fe.
T中における元素組成比は、磁歪を零に近くするように
選択する。The elemental composition ratio in T is selected so that the magnetostriction is close to zero.
このため、 Feの含有量は、通常、θまたは乙at%
以下とrれる。 Fe含有量がbat%をこえると、磁
歪が大きくなってしまい、磁気ヘッド作製工程において
、種々の応力により透磁率が減少してしまう。For this reason, the Fe content is usually θ or Oat%.
The following is said. When the Fe content exceeds bat%, magnetostriction increases, and magnetic permeability decreases due to various stresses in the magnetic head manufacturing process.
なお、T中にはFeが含まれ、Fe含有量が0、/ ”
b at%、よシ好ましくはコー5at%であると、
磁歪の点でよシ好ましい結果を得る。Note that T contains Fe, and the Fe content is 0, / ”
b at%, preferably 5 at%,
Very favorable results are obtained in terms of magnetostriction.
他方、Co含有量は、弘Oat%、よシ好ましくは30
at%以上となることが好ましい。On the other hand, the Co content is approximately Oat%, preferably 30
It is preferable that it be at % or more.
Co含有量が’I Oat%未満となると、飽和磁束密
度Bs が減少してしまう。If the Co content is less than 'I Oat%, the saturation magnetic flux density Bs will decrease.
さらに、上記したように、Tは、上記含有量範囲内にて
、 CoあるいはFeおよびCOのみからなっても、C
o6るいはFeおよびCOと上記した他の元素の7種以
上とからなってもよい。Furthermore, as mentioned above, within the above content range, T can be composed of only Co or Fe and CO;
The o6 fluorine may be composed of Fe, CO, and seven or more of the other elements listed above.
Tが、COあるいはFe (!: Coに加え、他の元
素の7種以上を含む場合、他の遷移金属元素の7種以上
は、通常、総計最大10at%まで含有することができ
る。 これ以上の含有量となると、 Bsが低下し、表
面性が悪くなる等の不都合が生じる。When T contains CO or Fe (!: 7 or more other elements in addition to Co, the 7 or more other transition metal elements can usually be contained up to a maximum of 10 at% in total. More than this) When the content of Bs decreases, problems such as poor surface properties occur.
このような元素の7例としてはNiがある。Seven examples of such elements include Ni.
Ni添加は、 Coを置換して、材料コストを低減する
等の効果があるが、 Ni量が増大するとBsが減少す
るので、 Ni含有量は、好ましくはgat%以下であ
る。Addition of Ni has the effect of replacing Co and reducing material costs, but as the amount of Ni increases, Bs decreases, so the Ni content is preferably at most gat%.
一方、他の元素の7種以上としては、鉄族(Fe%Co
%Ni )、RuおよびIVB −VIB族元素以外の
遷移金属元素であってよいが、これら他の遷移金属元素
の7種以上は、総計/θat%以下であることが好まし
い。 このとき、 Bsの低下は少なく、各添加元素特
有のすぐれた効果が実現する。On the other hand, as seven or more other elements, iron group (Fe%Co
%Ni), Ru, and transition metal elements other than the IVB-VIB group elements, it is preferable that the total amount of seven or more of these other transition metal elements is less than or equal to /θat%. At this time, the decrease in Bs is small and excellent effects unique to each additive element are realized.
このような元素のうち、特に好適なものとしては、Mn
などを挙げることができる。Among these elements, Mn is particularly preferable.
etc. can be mentioned.
これに対し、ガラス化元素成分Xは、B。On the other hand, the vitrification element component X is B.
またはStおよびBを必須成分とする。Alternatively, St and B are essential components.
この場合、B含有量が/b”3!;at%、Si含有量
がθ−6at%となると、 Bsが高くなシ、耐摩耗性
な、どが向上し、好ましい結果を得る。In this case, when the B content is /b''3!;at% and the Si content is θ-6at%, Bs is high, wear resistance is improved, and favorable results are obtained.
そして、B含有量が/3−2”21Iat%、Si含有
量が0./ −’1.g at%となると、Bsがさら
に高くなfi、■B、yB1.WB族元素、Crおよび
。Then, when the B content becomes /3-2''21 Iat% and the Si content becomes 0./-'1.g at%, Bs becomes even higher fi, ■B, yB1.WB group elements, Cr and.
Ruの添加効果も顕著となシ、よシ好ましい結果を得る
。The effect of adding Ru is also significant, and very favorable results are obtained.
このような場合%X中でのSi/(Si+B)比(原子
比)は0または0.2以下であることが好ましい。In such a case, the Si/(Si+B) ratio (atomic ratio) in %X is preferably 0 or 0.2 or less.
Si/(Si+B)比が0.2をこえると、高速摩耗が
大きくなシ、シかも保存によるf特劣化が大きくなる。When the Si/(Si+B) ratio exceeds 0.2, high-speed wear becomes large, and f-characteristic deterioration due to storage becomes large.
そして、特に、 Si/(Si+B)比が0.05−〇
、/Sとなると、よル一層好ましい結果をうる。In particular, when the Si/(Si+B) ratio is 0.05-0, /S, even more favorable results can be obtained.
なお、ガラス化元素成分X中には、必要に応じ、Siお
よびB以外の他の元素の7種以上が含まれていてもよい
。 ただ、その総計が0、!rat%を超えると非晶質
化しにくくなるので、その含有量は0−!; at%以
下であることが好ましい。Note that the vitrification element component X may contain seven or more elements other than Si and B, if necessary. However, the total is 0! If it exceeds rat%, it becomes difficult to become amorphous, so its content should be 0-! ; It is preferably at % or less.
このような組成をもつ非晶質磁性合金薄膜は、基体上に
、概ね、0./−100μm程度の厚さに形成される。An amorphous magnetic alloy thin film having such a composition is deposited on a substrate at a thickness of about 0. It is formed to have a thickness of about /-100 μm.
用いる基体としては、通常、非磁性のものを用いる。The substrate used is usually non-magnetic.
この場合、基体の材質には特例制限はない。In this case, there are no special restrictions on the material of the base.
従って、各種酸化物、炭化物、窒化物、ケイ化物、ガラ
ス等はいずれも使用でき、非晶質磁性合金薄膜の物性や
、加工性、摺動性などを考慮して、適宜選択して使用す
ればよい。Therefore, any of various oxides, carbides, nitrides, silicides, glasses, etc. can be used, and should be selected and used appropriately, taking into consideration the physical properties of the amorphous magnetic alloy thin film, workability, sliding properties, etc. Bye.
このような基体の厚さについては特に制限はないが、通
常、0./−3TItm程度とする。There is no particular limit to the thickness of such a substrate, but it is usually 0. /-3TItm.
このような基体上に、非晶質磁性合金薄膜を形成するに
は、気相被着法、通常、スパッタリングに従う。To form an amorphous magnetic alloy thin film on such a substrate, a vapor phase deposition method, usually sputtering, is used.
用いるスパッタリングとしては、衝撃イオンによシ、タ
ーゲットをスパッタし1通常。The sputtering used is usually one in which a target is sputtered using bombarded ions.
数eV−約/ 00 eV程度の運動エネルギーにてタ
ーデッド物質を蒸散させる公知のスパッタリングはいず
れも使用可能である。Any known sputtering method that evaporates the tarded material at a kinetic energy of several eV to approximately 0.000 eV can be used.
従って、Ar、 Kr、 Xe等の不活性ガス雰囲気中
で、異常グロー放電によるAr等のイオンによって、タ
ーデッドをスパッタするプラズマ法を用いても、ターゲ
ットにAr、Kr%Xe等のイオンビームを照射して行
うイオンビーム法を用いてもよい。Therefore, even if a plasma method is used in which tarded material is sputtered using ions such as Ar caused by abnormal glow discharge in an inert gas atmosphere such as Ar, Kr, or Xe, the target cannot be irradiated with an ion beam of Ar, Kr%Xe, etc. An ion beam method may also be used.
プラズマ法によるときには、いわゆるRFスパッタであ
って−も、また、いわゆるDCスパッタであってもよく
、その装置構成もコ極、ダ極等いずれであってもよい。When using the plasma method, it may be so-called RF sputtering or so-called DC sputtering, and the device configuration may be either co-pole, dipole, etc.
さらには、いわゆるマグネトロンスパッタを用いても
よい。 また場合によっては、いわゆる反応性スパッタ
によることもできる。 さらに、イオンビーム法として
は、種々の方式に従うこ%式%
用いるターデッドとしては1通常の場合は、対応する組
成の母合金を用いればよい。Furthermore, so-called magnetron sputtering may be used. In some cases, so-called reactive sputtering may also be used. Furthermore, as the ion beam method, various methods can be used.For the tarded material used, in the normal case, a master alloy having a corresponding composition may be used.
なお、動作圧ノハゾレート電圧、プレート電流、極間間
隙等には特別の制限はなく、これらは1条件に応じ、任
意の値に設定することができる。Note that there are no particular restrictions on the operating pressure, the plate current, the gap between electrodes, etc., and these can be set to arbitrary values depending on one condition.
このような場合、基体の一面上には下地層を形成し、こ
の下地層上に非晶質磁性合金薄膜を形成してもよい。
また、非晶質磁性合金薄膜上に上層保護層を形成しても
よい。In such a case, an underlayer may be formed on one surface of the substrate, and an amorphous magnetic alloy thin film may be formed on this underlayer.
Further, an upper protective layer may be formed on the amorphous magnetic alloy thin film.
さらに、非晶質磁性合金薄膜と、非磁性の薄膜を交互に
積層することもできる。Furthermore, amorphous magnetic alloy thin films and non-magnetic thin films can be alternately laminated.
このように非晶質磁性合金薄膜4,4′を形成した基体
3,3′は、第1図および第コ図に示されるように、所
定の形状に加工され、1字、C字状等のコア半体2,2
′とされ、前部ヤヤツゾ部11および後部ギャップ部1
3にて、 5i02等のギャップ材6,7を介してつき
あわされて磁気ヘッド1とされる。The substrates 3, 3' on which the amorphous magnetic alloy thin films 4, 4' are formed are processed into a predetermined shape, such as a 1-shape, a C-shape, etc., as shown in FIGS. core half 2,2
', and the front thickening part 11 and the rear gap part 1
3, they are brought together via gap materials 6 and 7 such as 5i02 to form the magnetic head 1.
なお、コア半体2,2′の薄膜4,4′上には、さらに
、基体3,3′と同種の拐質からなる保護体を接着する
こともできる。It is also possible to further adhere a protective body made of the same type of microorganism as the substrates 3, 3' onto the thin films 4, 4' of the core halves 2, 2'.
このような場合、薄膜形成後には、必要に応じて、無磁
場中ないし静磁場ない己回転磁場中での熱処理を施す。In such a case, after the thin film is formed, heat treatment is performed in a non-magnetic field or in a self-rotating magnetic field without a static magnetic field, if necessary.
次いで、研削によシ所定形状とし、また必要に応じ所定
膜厚となるように研削を行い。Next, grinding is performed to form a predetermined shape and, if necessary, to obtain a predetermined film thickness.
さらに必要に応じ研摩を行いコア半休とする。Furthermore, polishing is performed as necessary to give the core a half-day rest.
そして、捲線を行い、上記のようにつきあわせ、その他
必要な加工を行い、磁気ヘッドが作製される。Then, winding is performed, alignment is performed as described above, and other necessary processing is performed to produce a magnetic head.
なお、上記の熱処理は、形状加工後、捲線前に施しても
よい。Note that the above heat treatment may be performed after shape processing and before winding.
■ 発明の具体的作用効果 このような磁気ヘッドは、ビデオ用の録画。■Specific effects of the invention Such magnetic heads are used for video recording.
録再、音声用等の回転ヘッド、電算機゛用磁気ヘソP等
としてきわめて有用である。It is extremely useful as a rotary head for recording/playback, audio, etc., a magnetic belly button P for computers, etc.
本発明の磁気ヘッドは、媒体の高速摺動にともなう摩耗
がきわめて少ない。 そして、特に、高温高湿下での高
速摩耗はきわめて少ない。The magnetic head of the present invention has extremely little wear due to high-speed sliding of the medium. In particular, high-speed wear under high temperature and high humidity conditions is extremely low.
また、メタルテープ等の合金磁性粉を用いる塗布型媒体
の使用による出力低下がきわめて少ない。In addition, there is very little reduction in output due to the use of coated media such as metal tapes that use alloyed magnetic powder.
さらに、高温高湿下での保存による、f特劣下もきわめ
て少ない。Furthermore, there is very little deterioration in f due to storage under high temperature and high humidity conditions.
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し5本発明をさらに詳
細に説明する。(2) Specific Examples of the Invention Hereinafter, five specific examples of the present invention will be shown and the present invention will be explained in further detail.
実施例
、1mx厚のアルミナ基板上に、下記表/に示される組
成の各非晶質磁性合金およびセンダストの薄膜を30μ
m厚に形成した。Example: A 30μ thin film of each amorphous magnetic alloy and sendust having the composition shown in the table below was deposited on a 1mx thick alumina substrate.
It was formed to have a thickness of m.
薄膜の形成は、スパッタリングによって行った。The thin film was formed by sputtering.
この場合、ターデッドとしては対応する組成の合金の鋳
造体を用い、動作アルゴン圧!−!;X10 Tor
r、プレート電圧、2KV。In this case, a cast body of an alloy of the corresponding composition is used as the tarded, and the operating argon pressure! -! ;X10 Tor
r, plate voltage, 2KV.
投入電力lIW/CIFL2にて、RFマグネトロンス
パッタリングを行った。RF magnetron sputtering was performed at input power lIW/CIFL2.
次に、これを研削および研摩し、第1図および第2図に
示されるようなコア半休2.2′を得、これを、ギャッ
プ材S i Oz O−3μmを介してつきあわせ、
所定の捲線を施し、磁気ヘッドを作製した。Next, this was ground and polished to obtain a half core 2.2' as shown in FIGS.
A predetermined winding was applied to produce a magnetic head.
次りで、各磁気ヘッドをgwtnビデオ方式のデツキに
塔載し、以下の各測定を行った。Next, each magnetic head was mounted on a gwtn video deck, and the following measurements were performed.
/)摩耗量(μm)
25℃、50%圧およびダo ’c、7o%RHにて、
塗布型のメタルテープを乞7りm/secで100時間
時間短せて、走行後の摩耗量を表面粗さ計で測定した。/) Amount of wear (μm) At 25℃, 50% pressure and 7o%RH,
The coated metal tape was run at a rate of 7 m/sec for 100 hours, and the amount of wear after running was measured using a surface roughness meter.
結果をセンダストの場合の摩耗量を/とじ、これに対
する相対値として表/に示す。The results are summarized as the amount of wear in the case of Sendust, and are shown in Table 1 as relative values.
、2)5MHz信号の出力低下(dB )23oC%S
O%RHにて、塗布型のメタルテープをケ、75m/s
eeでq時間短行させて、走行後の出力低下を測定した
。結果を表/に示す。, 2) Output drop of 5MHz signal (dB) 23oC%S
Applying metal tape at O%RH, 75m/s
The vehicle was run for q hours in EE mode, and the decrease in output after running was measured. The results are shown in Table/.
3)保存後のfl#変化
70℃、ヲS%RHにて、2’IO時間保存した後、保
存前との0.!; MHz/3 MHzのf特変化(d
B)を測定した。3) Change in fl# after storage After storage at 70°C and %RH for 2'IO hours, the change in fl# from before storage was 0. ! ; MHz/3 MHz f characteristic change (d
B) was measured.
結果を表/に示す。The results are shown in Table/.
表/に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。From the results shown in Table 1, the effects of the present invention are clear.
第1図は5本発明の磁気ヘッドの構造の7例を示す正面
図であシ、第一図は第1図の右側面図である。
1・・・磁気ヘッド、2.2’・・・コア半休、3・・
・基体、 4・・・非晶質磁性合金薄膜出願人
東京電気化学工業株式会社
代理人 弁理士 石 井 陽 −
第1図FIG. 1 is a front view showing seven examples of the structure of a magnetic head according to the present invention, and FIG. 1 is a right side view of FIG. 1...Magnetic head, 2.2'...Core half-off, 3...
・Substrate, 4... Amorphous magnetic alloy thin film applicant
Tokyo Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Representative Patent Attorney Yo Ishii - Figure 1
Claims (1)
薄膜を形成してなることを特徴とする磁気ヘッド。 式 TXXyRu2CrwMv (上式中、Tは、Go、CoおよびFe、またはCo、
もしくはCOおよびFeと他の遷移金属元素の7種以上
との組合せを表わし、 Xは、B%BおよびSi、またはB1 もしくはBおよ
びStと他のガラス化元素の7種以上との組合せを表わ
し、 Mは、Cr以外の他+7)IvB%VBオよびVIB族
元素の7種以上を表わす。 x 十y + z + w + v == /θθat
%であシ、このうちyは/l−−,33at%であシ、
2はgat%以下であシ、 wUgat%以下でおシ。 Vは5at%以下である。) 2、 TがCoおよびFe、またはCOおよびFeと
他の遷移金属元素の/S以上であF>、Fe含有量が0
./ −b at%である特許請求の範囲第1項に記載
の磁気ヘッド。 3、 Xが、B、もしくはBおよびSi、またはBも
しくはBおよびSiと他のガラス化元素の7種以上との
組合せであシ、X中の St/(Si+B)比がOまたは0.2以下である特許
請求の範囲第1項または第2項に記載の磁気ヘッド。 4、 X中のSt/(Si+B)比がo、s−i、s
である特許請求の範囲第3項に記載の磁気へツー。 5、 yがIg−30at%である特許請求の範囲第
1項ないし第を項のいずれかに記載の磁気ヘッド。 6、 gが0−3− b at%である特許請求の範
囲第1項ないし第5項のいずれかに記載の磁気ヘッド。 7、 Wが0.!;−6at%である%詐請求の範囲
第1項ないし第6項のいずれかに記載の磁気ヘソ比 8、 vが0./−2at%である特許請求の範囲第
1項ないし第7項のいずれかに記載の磁気ヘッド。 9、 Mが、TI、Ta、Nb、VおよびZrからな
る群から選ばれた元素の7種以上である特許請求の範囲
第1項ないし第g項のいずれかに記載の磁気ヘッド。 10、 薄膜の厚さが0./−10θμ肌である特許
請求の範囲第1項ないし第9項のいずれかに記載の磁気
ヘッド。 11 基体が非磁性の絶縁性のものである特許請求の
範囲第1項々いし第10項のいずれかに記載の磁気ヘッ
ド。[Scope of Claims] 1. A magnetic head characterized in that an amorphous magnetic alloy thin film having a composition represented by the following formula is formed on a substrate. Formula TXXyRu2CrwMv (wherein T is Go, Co and Fe, or Co,
or represents a combination of CO and Fe with 7 or more types of other transition metal elements; , M represents 7 or more of +7)IvB%VBO and VIB group elements in addition to Cr. x y + z + w + v == /θθat
%, of which y is /l--, 33at%,
2 must be less than gat%, and less than wUgat%. V is 5 at% or less. ) 2. T is Co and Fe, or CO and Fe and other transition metal elements /S or more, F>, Fe content is 0
.. /-b at%. The magnetic head according to claim 1. 3. X is B, or B and Si, or a combination of B or B and Si and 7 or more other vitrifying elements, and the St/(Si+B) ratio in X is O or 0.2 A magnetic head according to claim 1 or 2 below. 4. St/(Si+B) ratio in X is o, s-i, s
A magnetic tool according to claim 3. 5. The magnetic head according to any one of claims 1 to 3, wherein y is Ig-30 at%. 6. The magnetic head according to any one of claims 1 to 5, wherein g is 0-3-bat%. 7. W is 0. ! ; -6 at %, the magnetic heel ratio 8 according to any one of claims 1 to 6, where v is 0. The magnetic head according to any one of claims 1 to 7, wherein the magnetic head is: /-2at%. 9. The magnetic head according to claim 1, wherein M is seven or more elements selected from the group consisting of TI, Ta, Nb, V, and Zr. 10. The thickness of the thin film is 0. The magnetic head according to any one of claims 1 to 9, which has a thickness of /-10θμ. 11. The magnetic head according to any one of claims 1 to 10, wherein the base is nonmagnetic and insulating.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10953882A JPS592220A (en) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10953882A JPS592220A (en) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | Magnetic head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS592220A true JPS592220A (en) | 1984-01-07 |
Family
ID=14512783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10953882A Pending JPS592220A (en) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | Magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS592220A (en) |
-
1982
- 1982-06-25 JP JP10953882A patent/JPS592220A/en active Pending
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