JPS59101024A - Magnetic head - Google Patents
Magnetic headInfo
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- JPS59101024A JPS59101024A JP21039182A JP21039182A JPS59101024A JP S59101024 A JPS59101024 A JP S59101024A JP 21039182 A JP21039182 A JP 21039182A JP 21039182 A JP21039182 A JP 21039182A JP S59101024 A JPS59101024 A JP S59101024A
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
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- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は磁気ヘッドに関する。 さらに詳しくは、非晶
質磁性合金薄膜を有する磁気ヘッドに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Background of the Invention Technical Field The present invention relates to a magnetic head. More specifically, the present invention relates to a magnetic head having an amorphous magnetic alloy thin film.
先行技術とその問題点
高い飽和磁化と高い透磁率を示すことから、非晶質磁性
合金の薄板が磁気ヘッド材料として注目を集めている。Prior art and its problems Thin sheets of amorphous magnetic alloys have attracted attention as magnetic head materials because they exhibit high saturation magnetization and high magnetic permeability.
非晶質磁性合金薄板から、トラック11のせまい磁気ヘ
ッド、例えばビデオ用の録画、録再ないし音声用の回転
ヘッド、あるいは電算機用磁気ヘッド等を形成するには
、薄板をそのまま用いるか、あるいはその複数枚を積層
して、数十gm以下、特に20〜30gm程度の厚さの
トラック巾として、所定の形状としたコア半休をギャッ
プを介しつきあわせて作製している。In order to form a narrow magnetic head with track 11 from an amorphous magnetic alloy thin plate, for example, a rotary head for video recording, recording/playback or audio, or a magnetic head for a computer, the thin plate may be used as is, or A plurality of these sheets are laminated to form half-core cores of a predetermined shape with a track width of several tens of gm or less, particularly about 20 to 30 gm, with a gap interposed therebetween.
しかし、このようにして作製されるビデオ用等のヘッド
は、厚さがきわめて薄いため強度的に十分でなく、機械
的加工時に変形し、加工後の寸度精度が悪いという不都
合がある。However, heads for videos and the like manufactured in this manner are extremely thin and therefore do not have sufficient strength, deform during mechanical processing, and have poor dimensional accuracy after processing.
また、非晶質磁性合金の薄板は高弾性であるため、ビデ
オ用の磁気記録媒体との高速しゅう動にともない変形し
、ヘッドアームのバランスをくずして回転走行性が不良
となる。Furthermore, since the thin plate of amorphous magnetic alloy has high elasticity, it deforms as it slides at high speed with the video magnetic recording medium, causing the head arm to become unbalanced and resulting in poor rotational running performance.
このような不都合を解消するためには、基体上に、スパ
ッタリングにより非晶質磁性合金の薄膜を形成してコア
半休とし、これから磁気ヘッドを形成することが考えら
れる。 そ して、このように形成した磁気ヘッドでは
、上記したような不都合は解消する。In order to eliminate such inconveniences, it is conceivable to form a thin film of an amorphous magnetic alloy on the substrate by sputtering to make the core half-closed, and then form a magnetic head from this. In the magnetic head formed in this manner, the above-mentioned disadvantages are eliminated.
ところで、非晶質磁性合金のスパッタリング薄膜として
、Co−Zrが知られている。 しかし、Co−Zr
のスパッタリング薄膜を形成して磁気ヘッドを形成する
ときには、磁気記録媒体との高速しゆう動にともなう摩
耗量が大きいという欠点がある。By the way, Co--Zr is known as a sputtering thin film of an amorphous magnetic alloy. However, Co-Zr
When forming a magnetic head by forming a sputtered thin film, there is a drawback that the amount of wear caused by the high-speed movement with the magnetic recording medium is large.
また、合金磁性粉を用いる塗布型の媒体、いわゆるメタ
ルテープ等を使用するときには、使用に従い、薄膜が着
色して、出力低下を招くという欠点がある。Furthermore, when using a coating type medium using alloy magnetic powder, such as a so-called metal tape, there is a drawback that the thin film becomes colored as it is used, resulting in a decrease in output.
このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、Co−Z
r−Ru系の非晶質スパッタリング薄膜を磁気ヘッドと
して用いる旨を提案している。In view of these actual circumstances, the present inventors first developed Co-Z
It is proposed that an r-Ru based amorphous sputtered thin film be used as a magnetic head.
しかし、このヘッドは、高温高湿下での保存によって、
薄膜表面に酸化膜が形成され スペーシングロスが増大
し、特に高周波領域での自己録再出力が低下するという
欠点がある。However, when this head is stored under high temperature and high humidity,
The drawback is that an oxide film is formed on the surface of the thin film, increasing spacing loss and reducing self-recording/reproducing output, especially in the high frequency range.
II 発明の目的
本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、高速摩耗量が少なく、メタルテー
プの使用による出力低下が少なく、しかも高温高湿下で
の保存後の高周波領域の自己録再出力の低下の少ない非
晶質磁性合金薄膜を有する磁気ヘッドを提供することに
ある。II. Purpose of the Invention The present invention was developed in view of the above-mentioned circumstances, and its main purpose is to reduce the amount of wear at high speeds, reduce the output drop due to the use of metal tape, and also reduce storage under high temperature and high humidity conditions. It is an object of the present invention to provide a magnetic head having an amorphous magnetic alloy thin film in which the self-recording/reproducing output in the high frequency range is less degraded.
本発明者らは、このような目的につき鋭意研究を行い、
本発明をなすに至った。The present inventors have conducted intensive research for such purposes,
The present invention has been accomplished.
すなわち、本発明は、基体上に、下記式で示される組成
の非晶質磁性合金薄膜を形成してなることを特徴とする
磁気ヘッドである。That is, the present invention is a magnetic head characterized in that an amorphous magnetic alloy thin film having a composition represented by the following formula is formed on a substrate.
式
%式%
(上記式中、Tは、Co、またはCoとCo、Zr、R
uおよびVIB族元素以外の他の遷移金属元素の1種以
上との組合わせを表わし、Xは、Zr、またはZrと他
のガラス化元素の1種以上との組合わせを表わし、
Mは、VIB族元素の1種以上を表わし、x+y+z+
W= 100at%であり、このうち、yは5〜30a
t%であり、2は8at%以下であり、
Wは10at%以下である。)
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。Formula % Formula % (In the above formula, T is Co, or Co and Co, Zr, R
represents a combination of u and one or more transition metal elements other than group VIB elements, X represents Zr, or a combination of Zr and one or more other vitrification elements, and M is Represents one or more VIB group elements, x+y+z+
W = 100at%, of which y is 5 to 30a
t%, 2 is 8 at% or less, and W is 10 at% or less. ) ■Specific structure of the invention The specific structure of the present invention will be explained in detail below.
本発明における薄膜は、実質的に長範囲の規則性をもた
ない非晶質状態にある。The thin film in the present invention is in an amorphous state with substantially no long-range regularity.
そして、その組成は、上記式で示されるものである。The composition is shown by the above formula.
上記式において、T中にて、必要に応じ、COとともに
組合わせ添加される他の添加元素は・CO・Zr、Ru
およびVIB族元素以外の他の遷移金属元素(5c−Z
n;Y−Cd;La”Hg;Ac以上)であり、例えば
Fe、Ni、Ti、Hf、Mn、Rh、Pd、Os、I
r、Pt等の1種以上をその具体例として挙げることが
できる。In the above formula, other additive elements added in combination with CO as necessary in T are CO, Zr, and Ru.
and other transition metal elements other than group VIB elements (5c-Z
n; Y-Cd; La"Hg; Ac or more), such as Fe, Ni, Ti, Hf, Mn, Rh, Pd, Os, I
Specific examples include one or more of r, Pt, and the like.
一方、Xは、Zr単独か、あるいはZrと他のガラス化
元素の1種以上との組合わせであることが好ましい。On the other hand, X is preferably Zr alone or a combination of Zr and one or more other vitrifying elements.
この場合、必要に応じ、Zrとともに組合わせ添加され
る他のガラス化元素の好適例として−は、Si、B等の
1種以上を挙げることができる。In this case, preferred examples of other vitrifying elements added in combination with Zr as needed include one or more of Si, B, and the like.
さらに、本発明における組成においては、Ruを必須成
分とする。Furthermore, in the composition of the present invention, Ru is an essential component.
この場合、Ruを他の白金族金属元素、例えばPt、R
h等にかえたときには、高速耐摩耗性にすぐれ、メタル
テープ使用の際の出力低下が少ないという効果は実現し
ない。In this case, Ru may be replaced with other platinum group metal elements, such as Pt, R
If the tape is changed to H or the like, the effects of excellent high-speed abrasion resistance and little output drop when using a metal tape will not be achieved.
加えて、本発明の組成には、Vl、B族元素(Cr 、
Mo 、W) (7)1種以上Mが含有される。In addition, the composition of the present invention contains Vl, group B elements (Cr,
Mo, W) (7) One or more types of M are contained.
この場合、VIB族元素が含まれないか、それ以外の元
素では、本発明所定の効果は実現しない。In this case, if the VIB group element is not included or if other elements are used, the desired effects of the present invention will not be achieved.
これに対し、上記式において、x+y+z+w=100
at%の条件下にて、Ru添加量2は8at%以下であ
る。On the other hand, in the above formula, x+y+z+w=100
Under the condition of at%, the Ru addition amount 2 is 8 at% or less.
これは8at%をこえると、非晶質化しにくくなり、基
体との接着力も低下するからである。This is because if it exceeds 8 at%, it becomes difficult to become amorphous and the adhesive strength with the substrate decreases.
この場合、Ru添加量2が小さいと、本発明所定の効果
の実効がなくなるので、Zは、0.5〜6at%、より
好ましくは1〜5at%であることが好ましい。In this case, if the Ru addition amount 2 is small, the desired effect of the present invention will not be effective, so Z is preferably 0.5 to 6 at%, more preferably 1 to 5 at%.
これに対し、Zrを必須成分とするガラス化元素成分X
の添加量yは、5〜30at%である。On the other hand, the vitrification element component X which has Zr as an essential component
The addition amount y is 5 to 30 at%.
yが5at%未満となると、非晶質化が困難となり、ま
たyが30at%をこえると、十分な飽和磁束密度が得
られない。If y is less than 5 at%, it will be difficult to make it amorphous, and if y is more than 30 at%, sufficient saturation magnetic flux density will not be obtained.
この場合、yが5〜20at%となると、より好ましい
結果を得る。In this case, more preferable results are obtained when y is 5 to 20 at%.
またMの添加量Wは、10at%以下である。Further, the amount W added of M is 10 at % or less.
Wが1oat%をこえると、飽和磁束密度が0.6T以
下と小さくなって、高保磁力媒体への記録に適さなくな
る。When W exceeds 1 oat%, the saturation magnetic flux density becomes as small as 0.6 T or less, making it unsuitable for recording on a high coercive force medium.
ただ、Wが小さくなると、高温高湿下での保存による劣
化防止の効果の実効がなくなるので、Wは0.5%以上
であることが好ま゛しい。However, if W becomes small, the effect of preventing deterioration due to storage under high temperature and high humidity becomes ineffective, so W is preferably 0.5% or more.
そして、Wが特に、0.5〜6%、より好ましくは1〜
6%となるとさらに好ましい結果をえる。In particular, W is 0.5 to 6%, more preferably 1 to 6%.
Even more favorable results are obtained at 6%.
なお、Tの含有量Xは、1100−y−z−であるが、
75〜85at%であることが好ましい。Note that the T content X is 1100-y-z-,
It is preferably 75 to 85 at%.
この場合、Tは、Coを必須成分として含む。In this case, T contains Co as an essential component.
Tは上記したように、Coと、C01Ru、Zrおよび
VIB族元素以外の他の遷移金属元素の1種以上とから
なることができるが、他の遷移金属元素の1種以上は、
通常、総計最大10at%まで含有することができる。As mentioned above, T can be composed of Co and one or more transition metal elements other than C01Ru, Zr, and VIB group elements, but one or more of the other transition metal elements are
Usually, the total content can be up to 10 at%.
これ以上の含有量となると、飽和磁束密度Bsが低下す
る等の不都合が生じる。If the content exceeds this range, problems such as a decrease in the saturation magnetic flux density Bs will occur.
このような元素の1例としてはFeがある。One example of such an element is Fe.
Fe添加は磁歪を低下させる等の効果があるが、Fe量
が増大すると、逆に磁歪が大きくなり、加工歪の影響に
より磁気特性が劣化するので、Fe含有量は6at%以
下であることが好ましい。Addition of Fe has the effect of lowering magnetostriction, but as the amount of Fe increases, magnetostriction increases and magnetic properties deteriorate due to the influence of processing strain, so the Fe content should be 6 at% or less. preferable.
また、T中には、Niを添加することもできる。 Ni
添加は、Coを置換して、材料コスI・を低減する等の
効果があるが、Ni量が増大するとBsが減少するので
、Ni含有量は、好ましくは10at%以下である。Further, Ni can also be added to T. Ni
Addition has the effect of replacing Co and reducing material cost I. However, as the amount of Ni increases, Bs decreases, so the Ni content is preferably 10 at % or less.
さらに上記したように、Mnなども添加することができ
る。Furthermore, as described above, Mn or the like can also be added.
ただ、このようなものよりは、通常は、むしろTがCo
単独であることが好ましい。However, rather than something like this, it is usually better to
It is preferable that it be used alone.
これに対し、ガラス化元素成分Xは、Zrを必須成分と
する。On the other hand, the vitrification element component X has Zr as an essential component.
通常、XはZrのみからなるが、Xは、上記したB、S
i等の1種以上の総計10at%以下とZrとの組合わ
せであってもよい。Usually, X consists only of Zr, but X consists of the above-mentioned B, S
It may be a combination of one or more types such as i etc. in a total amount of 10 at % or less and Zr.
このような組成をもつ非晶質磁性合金薄膜は、基体上に
、概ね、o、t〜100ルm、好ましくは20〜50g
m程度の厚さに形成される。The amorphous magnetic alloy thin film having such a composition is deposited on the substrate in an amount of approximately 0.001 m to 100 g, preferably 20 to 50 g.
It is formed to have a thickness of about 1.0 m.
用いる基体としては、通常、非磁性のものを用いる。The substrate used is usually non-magnetic.
この場合、基体の材質には特に制限はない。In this case, there are no particular restrictions on the material of the base.
従って、各種酸化物、炭化物、ケイ化物、窒化物、ガラ
ス等はいずれも好適に使用できる。Therefore, any of various oxides, carbides, silicides, nitrides, glasses, etc. can be suitably used.
そして、基体材質は、非晶質磁性合金薄膜の物性と、加
工性、媒体とのしゅう動性などを考慮して適宜選択して
用いればよい。The substrate material may be appropriately selected and used in consideration of the physical properties of the amorphous magnetic alloy thin film, workability, slidability with the medium, and the like.
このような基体の厚さについては、特に制限はないが、
通常、0.1〜5 m m程度とする。There are no particular restrictions on the thickness of such a substrate, but
Usually, it is about 0.1 to 5 mm.
このような基体上に、非晶質磁性合金薄膜を形成するに
は、気相被着法、通常、スパッタリングに従う。To form an amorphous magnetic alloy thin film on such a substrate, a vapor phase deposition method, usually sputtering, is used.
用いるスパッタリングとしては、衝撃イオンにより、タ
ーゲットをスパッタし、通常、数eV〜約100 e
V程度の運動エネルギーにてターゲット物質を蒸散させ
る公知のスパッタリングはいずれも使用可能である。The sputtering used is to sputter a target using bombarded ions, usually at several eV to about 100 eV.
Any known sputtering method that evaporates the target material with a kinetic energy on the order of V can be used.
従って、Ar等の不活性ガス雰囲気中で、異常グロー放
電によるAr等のイオンによって、ターゲットをスパッ
タするプラズマ法を用いても、ターゲットにAr、Kr
、Xe等のイオンビームを照射して行うイオンビーム法
を用いてもよい。Therefore, even if a plasma method is used in which the target is sputtered with ions such as Ar caused by abnormal glow discharge in an inert gas atmosphere such as Ar,
An ion beam method in which ion beams such as , Xe, etc. are irradiated may be used.
プラズマ法によるときには、いわゆるRFスパッタであ
っても、また、いわゆるDCスパッタであってもよく、
その装置構成も2極、4極等いずれであってもよい。
さらには、いわゆるマグネトロンスパッタを用いてもよ
い。 また場合によっては、いわゆる反応性スパッタに
よることもできる。 さらに、イオンビーム法としては
、種々の方式に従うことができる。When using a plasma method, it may be so-called RF sputtering or so-called DC sputtering,
The device configuration may be either 2-pole, 4-pole, etc.
Furthermore, so-called magnetron sputtering may be used. In some cases, so-called reactive sputtering may also be used. Furthermore, various methods can be used as the ion beam method.
用いるターゲットとしては、通常の場合は、対応する組
成の母合金を用いればよい。In normal cases, a master alloy having a corresponding composition may be used as the target.
なお、動作圧力、プレート電圧、プレート電流、極間間
隙等には特別の制限はなく、これらは、条件に応じ、任
意の値に設定することができる。Note that there are no particular restrictions on the operating pressure, plate voltage, plate current, gap between electrodes, etc., and these can be set to arbitrary values depending on the conditions.
このような場合、基体の一面上には下地層を形成し、こ
の下地層上に非晶質磁性合金薄膜を形成してもよい。
また、非晶質磁性合金薄膜上に上層保護層を形成しても
よい。In such a case, an underlayer may be formed on one surface of the substrate, and an amorphous magnetic alloy thin film may be formed on this underlayer.
Further, an upper protective layer may be formed on the amorphous magnetic alloy thin film.
さらに、非晶質磁性合金薄膜と、非磁性の薄膜を交互に
積層することもできる。Furthermore, amorphous magnetic alloy thin films and non-magnetic thin films can be alternately laminated.
このように非晶質磁性合金薄膜3.3′を形成した基体
2.2′は、第1図および第2図に示されるように、所
定の形状に加工され、1字、C字状等のコア半体1.1
′とされ、前部ギヤ、プ部4および後部ギャップ部にて
、S I O2等のキャップ材40を介してつきあわさ
れて磁気ヘッド1とされる。The substrate 2.2' on which the amorphous magnetic alloy thin film 3.3' is formed is processed into a predetermined shape, such as a 1-shape, a C-shape, etc., as shown in FIGS. 1 and 2. Core half of 1.1
', and are brought together to form the magnetic head 1 through a cap material 40 such as SIO2 at the front gear, pull section 4, and rear gap section.
なお、コア半体1.1′の薄膜3.3′上には1.さら
に、基体2.2′と同種の材質からなる保護体5を接着
することもできる。Note that on the thin film 3.3' of the core half 1.1', 1. Furthermore, a protective body 5 made of the same material as the base body 2.2' can also be adhered.
このような場合、薄膜形成後には、必要に応じて、無磁
場中あるいは静磁場ないし回転磁場中での熱処理を施す
ことが好ましい。In such a case, after forming the thin film, it is preferable to perform heat treatment in a non-magnetic field or in a static magnetic field or a rotating magnetic field, if necessary.
次いで研削により所定の形状とし、また必要に応じ所定
膜厚となるように研削を行い、さらに必要に応じ研摩を
行いコア半休とする。Next, it is ground into a predetermined shape, and if necessary, it is ground to a predetermined thickness, and if necessary, it is further polished to make the core semi-dry.
そして、捲線8を施し、上記のようにつきあわせ、その
他必要な加工を行い、支持体9に固着されて、磁気ヘッ
ドが作製される。Then, winding 8 is applied, alignment is performed as described above, and other necessary processing is performed, and the magnetic head is fixed to a support 9 to produce a magnetic head.
なお、上記の熱処理は、形状加工後、捲線前に施しても
よい。Note that the above heat treatment may be performed after shape processing and before winding.
■ 発明の具体的作用効果
このような磁気ヘッドは、ビデオ用の録画、録再、音声
用等の回転ヘッド、あるいは電算機用磁気ヘッド等とし
てきわめて有用である。(2) Specific effects of the invention Such a magnetic head is extremely useful as a rotary head for video recording, recording/playback, audio, etc., or a magnetic head for computers.
そして、本発明の磁気ヘッドは、媒体の高速しゅう動に
ともなう摩耗がきわめて少ない。Furthermore, the magnetic head of the present invention suffers extremely little wear due to high-speed sliding of the medium.
また、メタルテープ等の合金磁性粉を用いる塗布型媒体
の使用による出力低下がきわめて少ない。In addition, there is very little reduction in output due to the use of coated media such as metal tapes that use alloyed magnetic powder.
さらに、高温高湿下での保存後の表面酸化膜の形成が少
なく、スペーシ、ングロスによる自己録再出力の低下が
きわめて少なくなる。Furthermore, there is little formation of a surface oxide film after storage under high temperature and high humidity conditions, and the decrease in self-recording/reproducing output due to spacing and loss is extremely small.
そして、このような効果は、所定量のRuおよびVIB
族元素を添加したときにのみ実現する。And, such an effect is caused by a predetermined amount of Ru and VIB.
This is achieved only when group elements are added.
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。(2) Specific Examples of the Invention Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown and the present invention will be explained in more detail.
実施例
2mm厚のアルミナ基板上に、下記表1に示される組成
の各非晶質磁性合金およびセンダストの薄膜を3071
m厚に形成した。Example 3071 thin films of each amorphous magnetic alloy and sendust having the compositions shown in Table 1 below were deposited on a 2 mm thick alumina substrate.
It was formed to have a thickness of m.
薄膜の形成は、スパッタリングによって行った。The thin film was formed by sputtering.
この場合、ターゲットとしては、対応する組成の合金の
鋳造体を用い、動作アルゴン圧5 、5 X I 0−
3Torr、プレート電圧2KV、投入電力4 W /
Cm’にて、RFマグネトロンスパッタリングを行っ
た。In this case, a cast body of an alloy with a corresponding composition is used as a target, and an operating argon pressure of 5,5 X I 0-
3Torr, plate voltage 2KV, input power 4W/
RF magnetron sputtering was performed at Cm'.
次に、これを研削および研摩し、第1図および第2図に
示されるようなコア半体l、1′を得、これを0.37
pmの前部ギャップ材S iO2を介してつきあわせ、
所定の捲線8を施し、磁気ヘッドを作製した。Next, this was ground and polished to obtain core halves l, 1' as shown in Figs.
The front gap material of pm is brought together via SiO2,
A predetermined winding 8 was applied to produce a magnetic head.
次いで、各磁気ヘッドを8 m mビデオ方式のデツキ
に搭載し、以下の1)および2)の測定を行なった。Next, each magnetic head was mounted on an 8 mm video deck, and the following measurements 1) and 2) were performed.
1)摩耗量
25°C150%RHにて、塗布型のメタルテープを3
.75m/seeで100時間走行させて、走行後の摩
耗量を表面粗さ計で測定した。 結果をセンダストの場
合の摩耗量を10とし、これに対する相対値として表1
に示す。1) Abrasion amount At 25°C and 150%RH, apply 3 coated metal tape.
.. It was run at 75 m/see for 100 hours, and the amount of wear after running was measured using a surface roughness meter. The results are shown in Table 1 as relative values, assuming that the amount of wear in the case of Sendust is 10.
Shown below.
2)5MHz信号の出力低下
25°C550%RHにて、塗布型のメタルテープを3
.75m/secで4時間短行させて、走行後の出力低
下を測定した。2) Decrease in output of 5MHz signal At 25°C, 550%RH, apply coated metal tape to
.. A short run was made for 4 hours at 75 m/sec, and the decrease in output after the run was measured.
結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.
3)高温高湿下での保存後の自己録再出方低40°C1
相対湿度90〜95%にて240時間保存後、保磁力1
5000eの塗布型のメタルテープを用いて自己録再出
力を測定して、その出力低下(dB)を測定した。3) Self-recorded reappearance after storage under high temperature and high humidity conditions (low 40°C1)
After storage for 240 hours at relative humidity 90-95%, coercive force 1
The self-recording/reproducing output was measured using a coated metal tape of 5000e, and the output drop (dB) was measured.
結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.
表1に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。From the results shown in Table 1, the effects of the present invention are clear.
第1図および第2図は、本発明の磁気ヘッドの構造の1
例を示す図であり、このうち、第1図が斜視図、第2図
が拡大部分正面図である。
1.1′・・・・・・コア半休
2.2′・・・・・・基体
3.3′・・・・・・非晶質磁性合金薄膜出願人 東京
電気化学工業株式会社
代理人 弁理士 石 井 陽 −
第1図
第2図1 and 2 show one example of the structure of the magnetic head of the present invention.
1 is a perspective view, and FIG. 2 is an enlarged partial front view. 1.1'...Core half-break 2.2'...Substrate 3.3'...Amorphous magnetic alloy thin film Applicant Tokyo Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Agent Patent attorney Mr. Yo Ishii - Figure 1 Figure 2
Claims (1)
薄膜を形成してなることを特徴とする磁気ヘッド。 式 %式% (上記式中、Tは、Co、またはco、l!:co、Z
r、RuおよびVIB族元素以外の他の遷移金属元素の
1種以上との組合わせを表わし、Xは、Zr、またはZ
rと他のガラス化元素の1種以上との組合わせを表わし
、 Mは、VIB族元素の1種以上を表わし、x+y+z+
W=100at%であり、このうち、yは5〜30at
%であり、Zは8at%以下であり、 Wは10at%以下である。) 2、TがCoからなる特許請求の範囲第1項に記載の磁
気ヘッド。 3、Xが、Zrからなるか、あるいはBおよびSiのう
ちの1種以上の総計10at%以下とZrとの組合わせ
である特許請求の範囲第1項または第2項に記載の磁気
ヘッド。 4、Yか5〜20at%である特許H1’i求の範囲第
1ゲ1ないし第3項のいずれかに記載の磁気ヘッド。 5、zが0.5〜6at%である特許請求の範囲第1項
ないし第4項のいずれかに記載の磁気ヘット。 6、wが0.5〜6at%である特許請求の範囲第1項
ないし第5項のいずれかに記載の磁気ヘッド。 7、薄膜の厚さが0.1−100 p−mである特許請
求の範囲第1項ないし第6項のいずれかに記載の磁気ヘ
ッド。 8、基体が非磁性である特許請求の範囲第1項ないし第
7項のいずれかに記載の磁気ヘッド。[Claims] (1) A magnetic head characterized by forming an amorphous magnetic alloy thin film having a composition represented by the following formula on a substrate. Formula % Formula % (In the above formula, T is Co, or co, l!: co, Z
r, Ru and one or more transition metal elements other than group VIB elements, and X is Zr or Z
represents a combination of r and one or more other vitrifying elements, M represents one or more VIB group elements, x+y+z+
W=100at%, of which y is 5 to 30at%
%, Z is 8 at% or less, and W is 10 at% or less. 2. The magnetic head according to claim 1, wherein T is made of Co. 3. The magnetic head according to claim 1 or 2, wherein X is composed of Zr or a combination of Zr and at least 10 at % in total of one or more of B and Si. 4. The magnetic head according to any one of paragraphs 1 to 3 of the first range of patent H1'i, wherein Y is 5 to 20 at%. 5. The magnetic head according to claim 1, wherein z is 0.5 to 6 at%. 6. The magnetic head according to any one of claims 1 to 5, wherein w is 0.5 to 6 at%. 7. The magnetic head according to any one of claims 1 to 6, wherein the thin film has a thickness of 0.1-100 pm. 8. A magnetic head according to any one of claims 1 to 7, wherein the base is nonmagnetic.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21039182A JPS59101024A (en) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21039182A JPS59101024A (en) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | Magnetic head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59101024A true JPS59101024A (en) | 1984-06-11 |
Family
ID=16588551
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21039182A Pending JPS59101024A (en) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | Magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59101024A (en) |
-
1982
- 1982-11-30 JP JP21039182A patent/JPS59101024A/en active Pending
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