JPS58224425A - Magnetic head - Google Patents
Magnetic headInfo
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- JPS58224425A JPS58224425A JP10962882A JP10962882A JPS58224425A JP S58224425 A JPS58224425 A JP S58224425A JP 10962882 A JP10962882 A JP 10962882A JP 10962882 A JP10962882 A JP 10962882A JP S58224425 A JPS58224425 A JP S58224425A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は磁気ヘッドに関する。 さらに詳しくは、非晶
質磁性合金薄膜を有する磁気ヘッドに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Background of the Invention Technical Field The present invention relates to a magnetic head. More specifically, the present invention relates to a magnetic head having an amorphous magnetic alloy thin film.
先行技術とその問題点
高い飽和磁化と高い透磁率を示すことから、非晶質磁性
合金の薄板がミスヘッド材料として注目を集めている。Prior art and its problems Thin sheets of amorphous magnetic alloys have attracted attention as mishead materials because they exhibit high saturation magnetization and high magnetic permeability.
非晶質磁性合金薄板から、トラック中のせまい磁気ヘッ
ド、例えば、ビデオ用の録画、録再ないし音声用の回転
ヘッド、あるl、iま電算機用磁気ヘッド等を形成する
に(よ、薄板をそのまま用いるか、あるいはその複数枚
を積層して、数十μm以下、特に20〜30μm程度の
厚さのトラック中として、所定の形状としたコア半休を
ギャップを介しつきあわせて作製している。Narrow magnetic heads in tracks, for example, rotating heads for video recording, recording/playback or audio, magnetic heads for computers, etc., are formed from amorphous magnetic alloy thin sheets (thin sheets). is used as it is, or a plurality of them are laminated to form a track with a thickness of several tens of micrometers or less, especially about 20 to 30 micrometers, and half cores of a predetermined shape are made by butting them together through a gap. .
しかし、このようにして作製されるビデオ用等のヘッド
は、厚さがきわめて薄いため強度的に十分でなく、機械
的加工により変形し、加工後の寸法精度が悪いという不
都合がある。However, heads for videos and the like manufactured in this manner are extremely thin and therefore do not have sufficient strength, are deformed by mechanical processing, and have the disadvantage of poor dimensional accuracy after processing.
また、非晶質磁性合金の薄板は高弾性であるため、ビデ
オ用の磁気記録媒体との高速摺動にともない、変形し、
ヘッドアームのバランスをくずして回転走行性が不良と
なる。In addition, since the thin plate of amorphous magnetic alloy is highly elastic, it deforms when sliding at high speed with the magnetic recording medium for video.
The head arm becomes unbalanced, resulting in poor rotational running performance.
このような不都合を解消するためには、基体上に、スパ
ッタリングにより非晶質磁性合金の薄膜を形成してコア
半休とし、これから磁気ヘッドを形成することが考えら
れる。In order to eliminate such inconveniences, it is conceivable to form a thin film of an amorphous magnetic alloy on the substrate by sputtering to make the core half-closed, and then form a magnetic head from this.
そして、このような磁気ヘッドでは、上記したような不
都合は解消する。In such a magnetic head, the above-mentioned disadvantages can be solved.
しかし、通常の組成の非晶質磁性合金薄膜を形成すると
きには、磁気記録媒体との高速摺動にともなう摩耗量が
大きいという欠点がある。However, when forming an amorphous magnetic alloy thin film with a normal composition, there is a drawback that the amount of wear caused by high-speed sliding with a magnetic recording medium is large.
また、合金磁性粉を用いる塗布型の媒体、いわゆるメタ
ルテープ等を用いるときには。Also, when using a coating type medium using alloy magnetic powder, such as a so-called metal tape.
使用に従い、薄膜が着色して、出力低下を招くという欠
点がある。The disadvantage is that the thin film becomes colored as it is used, resulting in a decrease in output.
このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、Ruを含
む非晶質磁性合金薄膜を用いる旨の提案を行っている。In view of this situation, the present inventors have previously proposed the use of an amorphous magnetic alloy thin film containing Ru.
このような場合には、高速摩耗tは減少し。In such a case, high speed wear t is reduced.
メタルテープ使用による出力低下は減少する。Output reduction due to the use of metal tape is reduced.
しかし、高温高湿下での保存により1周波数特性(f特
)が劣化するという欠点がある。However, there is a drawback that the single frequency characteristic (f characteristic) deteriorates due to storage under high temperature and high humidity conditions.
■ 発明の目的
本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、高速摩耗量が少なく、メタルテー
プの使用による出力低下が少なく、保存性の良好な非晶
質磁性合金薄膜を有する磁気ヘッドを提供することにあ
る。■ Purpose of the Invention The present invention was made in view of the above-mentioned circumstances, and its main purpose is to create an amorphous material that has less high-speed wear, less output loss due to the use of metal tape, and has good storage stability. An object of the present invention is to provide a magnetic head having a magnetic alloy thin film.
本発明者らは、このような目的につき鋭意研究を行い、
本発明をなすに至った。The present inventors have conducted intensive research for such purposes,
The present invention has been accomplished.
すなわち、本発明は、基体上に、下記式で示される組成
の非晶質磁性合金薄膜を形成してなることを特徴とする
磁気ヘッドである。That is, the present invention is a magnetic head characterized in that an amorphous magnetic alloy thin film having a composition represented by the following formula is formed on a substrate.
式 T X X y a u 2Cr w(上式中、
Tは、C01COおよびFe 、またはCOlもしくは
COおよびFeどの他の遷移金属ス化元累の1種以上と
の組合せを表わす。Formula T X X y a u 2Cr w (in the above formula,
T represents CO1CO and Fe, or a combination with one or more of CO1 or other transition metal sulfide groups such as CO and Fe.
x 十y ±z 十w=100at%であり、このうち
yは16〜35 at%であり、2は8at%以下であ
り、
WをまSat%以下である。)
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。x y ± z w = 100 at%, of which y is 16 to 35 at%, 2 is 8 at% or less, and W is Sat% or less. ) ■Specific structure of the invention The specific structure of the present invention will be explained in detail below.
本発明における薄膜は、実質的に、長範囲の規則性をも
たない非晶質状態にある。The thin film in the present invention is substantially in an amorphous state with no long-range regularity.
そして、その組成は、上記式にて示されるものである。The composition is shown by the above formula.
上記式において、T中にて、必要に応じ、Co 、また
はFeおよびCOとともに組合せ絵加される他の添加元
素は、FeおよびCoならびにRu以外の他の遷移金属
元素(Sc −Zn ;Y % Cd ; La −H
f ; Ac以上)であり、例えばN1、Mn、 R
h、 Pd、 Os、 Ir、 Pt等の1種以上
をその具体例として挙げることができる。In the above formula, in T, if necessary, Co or other additive elements added in combination with Fe and CO are transition metal elements other than Fe and Co and Ru (Sc-Zn; Y% Cd; La-H
f ; Ac or higher), for example, N1, Mn, R
Specific examples include one or more of H, Pd, Os, Ir, and Pt.
一方、Xは、B、SiおよびB1またはBもしくはSi
およびBと他のガラス化元素の1棟以上との組合せであ
ることが好ましい。On the other hand, X is B, Si and B1 or B or Si
A combination of B and one or more other vitrification elements is preferred.
この場合、必要に応じ、B、またはSlおよびBととも
に組合せ添加される他のガラス化元素の1例としては、
P、C,Ge、Sn、At等の1種以上を挙げることが
できる。In this case, an example of other vitrifying elements that may be added as necessary in combination with B or Sl and B is:
One or more types of P, C, Ge, Sn, At, etc. can be mentioned.
さらに、本発明における組成においては、RuおよびC
rを必須成分とする。Furthermore, in the composition of the present invention, Ru and C
Let r be an essential component.
この場合、Ruを他の白金族金属元素、例えばPt、R
h等にかえたとき、あるいハCrを他の遷移金属元素、
例えばMo、W、■、Nb、Ta、 Ti 、 Zr等
にかえたときには、本発明所定の効果は実現しない。In this case, Ru may be replaced with other platinum group metal elements, such as Pt, R
When changing to h etc., or replacing Cr with other transition metal elements,
For example, when the material is changed to Mo, W, ■, Nb, Ta, Ti, Zr, etc., the desired effects of the present invention will not be achieved.
これに対し、上記式において、x+y+z+W=10Q
at%の条件下にて、Ru添加−Ikzは、8at%以
下である。On the other hand, in the above formula, x+y+z+W=10Q
Under the condition of at%, Ru addition -Ikz is 8 at% or less.
これは8at%をこ、・えると、非晶質化しにくくなり
、また逆に、耐高速摩耗性等が低下し。When the content exceeds 8 at%, it becomes difficult to become amorphous, and conversely, high-speed wear resistance etc. decrease.
メタルテープ使用による出力低下が大きくなるからであ
る。This is because the use of a metal tape causes a large decrease in output.
この場合、 Ru添加i′zが小さいと、これらの効果
の実効がなくなるので、2は、0.5〜6at%より好
ましくは0.5〜5at%であることが好ましい。In this case, if Ru addition i'z is small, these effects will be lost, so 2 is preferably 0.5 to 5 at%, more preferably 0.5 to 5 at%.
一方、C「添加量W&′!、13at%以下である。On the other hand, C'addition amount W&'! is 13 at% or less.
8at%をこえると、非晶質化しにくくなり。When it exceeds 8 at%, it becomes difficult to become amorphous.
また、逆に、特に、高温高湿下での保存性等が悪化する
からである。Moreover, on the contrary, the storage stability, etc., especially under high temperature and high humidity conditions, deteriorates.
この場合、 Or添加量Wが小さいと、これらの効果の
実効がなくなるので、Wは0.5〜6at%、より好ま
しくは05〜5at%であることが好ましい。In this case, if the amount W of Or added is small, these effects will not be effective, so it is preferable that W is 0.5 to 6 at%, more preferably 05 to 5 at%.
これに対し、ガラス化元素成分Xの添加量yは16〜3
5at%である。On the other hand, the amount y of the vitrification element component X added is 16 to 3
It is 5at%.
yが16at%未満となると、非晶質化が困難となり、
またyが35at%をこえると、十分な飽和磁束密度が
得られない。When y is less than 16 at%, it becomes difficult to make it amorphous,
Moreover, when y exceeds 35 at%, sufficient saturation magnetic flux density cannot be obtained.
この場合、yが18〜30at%どなると、より好まし
い結果を得る。In this case, more preferable results are obtained when y is 18 to 30 at%.
なお、上記′rの含有量Xは、100−Y−Z−Wであ
り、48at%以上、84at%未満であるが、48〜
83 at%であることが好ましい。The content X of 'r above is 100-Y-Z-W, which is 48 at% or more and less than 84 at%, but 48 to
Preferably, it is 83 at%.
この場合、Tは、Co、あるいはCOおよびFeを含む
。In this case, T includes Co or CO and Fe.
T中における元素組成比は、磁歪を零に近くするように
選択する。The elemental composition ratio in T is selected so that the magnetostriction is close to zero.
このため、Feの含有量は、通常、0または6at%以
下とされる。 Pe含有量が6at%をこえると、磁
歪が大きくなってしまい、磁気ヘッド作製工程において
、種々の応力により透磁率が減少してしまう。Therefore, the Fe content is usually 0 or 6 at% or less. When the Pe content exceeds 6 at %, magnetostriction increases, and magnetic permeability decreases due to various stresses in the magnetic head manufacturing process.
なお、T中にはFeが含まれ、Fe含有量が0.1〜5
at%、より好ましくしi2〜5at%であると、磁歪
の点でより好ましい結果を得る。Note that T contains Fe, and the Fe content is 0.1 to 5.
At %, more preferably i2 to 5 at %, more favorable results can be obtained in terms of magnetostriction.
他方、Co含有量は、50a1%以上となることが好ま
しい。 Co含有量が50at%未満となると、飽和磁
束密度Bsが減少してしまう。On the other hand, the Co content is preferably 50a1% or more. If the Co content is less than 50 at%, the saturation magnetic flux density Bs will decrease.
さらに、上記したように、Tは、上記含有量範囲内にて
、COlあるいはFeおよびCOのみからなっても、C
OlあるいはFeおよびCOと上記した他の元素の1種
以上とからなってもよい。Furthermore, as mentioned above, within the above content range, T may consist of only COl or Fe and CO;
It may consist of Ol or Fe and CO and one or more of the other elements mentioned above.
Tか、 CoあるいはFeとCOに加え、他の元素の1
種以上を含む場合、他の遷移金属元素の1種以上は、通
常、総計最大10at%まで含有することができる。
これ以上の含有量となると、 Bsが低下し、耐摩耗性
、メタルテープ適合性、保存性が悪くなる等の不都合が
生じる。T, Co or Fe and CO plus one of the other elements
When more than one species is included, one or more of the other transition metal elements can usually be contained up to a maximum of 10 at% in total.
If the content exceeds this range, Bs decreases, causing problems such as deterioration of abrasion resistance, metal tape compatibility, and storage stability.
このような元素の1例としてをまNiがある。An example of such an element is Ni.
N1添加は、 Coを置換して、材料コストを低減する
等の効果があるがlNi1L−が増大するとBsが減少
するので、Nj含有量は、好ましくは8at%以下であ
る。The addition of N1 has the effect of replacing Co and reducing material costs, but as lNi1L- increases, Bs decreases, so the Nj content is preferably 8 at% or less.
あってよいが、これら他の遷移金属元素の1橿以上は、
総計10at%以下であることが好ましい。 このとき
、 Bsの低下は少なく、各添加元来特有の効果が実現
する。However, one or more of these other transition metal elements may be present.
The total amount is preferably 10 at% or less. At this time, the decrease in Bs is small and effects unique to each addition are realized.
このような元素のうち好適なものとしては、Mnなどを
挙げることができる。Suitable examples of such elements include Mn and the like.
これに対し、ガラス化元素成分Xは、B、またはSiお
よびBを必須成分とする。On the other hand, the vitrification element component X has B or Si and B as essential components.
この場合、B含有量が16〜35 at%、Si含有量
が0〜6at%となると、Bsが高くなり、耐摩耗性、
メタルテープ適合性、保存性が向上し、好ましい結果を
得る。In this case, when the B content is 16 to 35 at% and the Si content is 0 to 6 at%, Bs becomes high, and the wear resistance and
Metal tape compatibility and storage stability are improved to obtain favorable results.
そして、8行有量が15.2〜24at%、Sr含有量
が0.1〜48at%どなると、 Bsがさらに高くな
り、耐摩耗性、メタルテープ適合性、保存性がさらに向
上し、より好ましい結果を得る。When the 8th row content is 15.2 to 24 at% and the Sr content is 0.1 to 48 at%, Bs becomes even higher, and wear resistance, metal tape compatibility, and storage stability are further improved. Get favorable results.
このような場合、X中でのSi /(Si 十B )比
(原子比)は0または02以下であることが好ましい。In such a case, the Si 2 /(Si 1 B ) ratio (atomic ratio) in X is preferably 0 or 0.02 or less.
Si /(Si +B )比]が0.2以下となると、
高速摩耗がきわめて小さくなり、しかもメタルテープ使
用による出力低下がきわめて小さくなり、高温高湿下で
の保存によるf%劣化がきわめて小さくなる。When the Si/(Si + B) ratio] becomes 0.2 or less,
High-speed wear becomes extremely small, output decrease due to the use of metal tape becomes extremely small, and f% deterioration due to storage under high temperature and high humidity becomes extremely small.
そして、別/(81+B )比が0.05〜0.15と
なると、より一層好ましい結果をうる。Further, when the ratio/(81+B) is 0.05 to 0.15, even more favorable results can be obtained.
なお、ガラス化元本成分X中には、必要に応じ、Siお
よびB以外の他の元素の1種以上が含まれていてもよい
。 ただ、その総計が0.5at%を超えると非晶質化
しにくくなるので、その含有量は0.5at%以下であ
ることが好ましい。Note that the vitrification principal component X may contain one or more elements other than Si and B, if necessary. However, if the total amount exceeds 0.5 at%, it becomes difficult to form amorphous, so the content is preferably 0.5 at% or less.
このような組成をもつ非晶質磁性合金薄膜は、基体上に
、概ね、0,1〜100μ講、特に1〜100μ得程度
の厚さに形成される。An amorphous magnetic alloy thin film having such a composition is formed on a substrate to a thickness of approximately 0.1 to 100 μm, particularly 1 to 100 μm.
用いる基体としては、通常、非磁性のものを用いる。The substrate used is usually non-magnetic.
この場合、基体の材質には特に制限はない。In this case, there are no particular restrictions on the material of the base.
従って、各種酸化物、炭化物、窒化物、ケイ化物、ガラ
ス等はいずれも使用でき、非晶質磁性合金薄膜の物性や
、加工性、媒体との摺動性などを考慮して、適宜選択し
て使用すればよい。Therefore, any of various oxides, carbides, nitrides, silicides, glasses, etc. can be used, and should be selected as appropriate, taking into consideration the physical properties of the amorphous magnetic alloy thin film, workability, slidability with the medium, etc. Just use it.
このような基体の厚さについては、特に制限はないが、
通常、01〜5mm程度とする。There are no particular restrictions on the thickness of such a substrate, but
Usually, it is about 01 to 5 mm.
このような基体上に、非晶質磁性合金薄膜を形成するに
は気相被着法、通常、スパッタリングに従う。A vapor phase deposition method, usually sputtering, is used to form an amorphous magnetic alloy thin film on such a substrate.
用いるスパッタリングとしては、衝撃イオンにより、タ
ーゲットをスパッタし、通常、数eV〜約100eV程
度の運動エネルギーにてターゲット物質を蒸散させる公
知のスパッタリングはいずれも使用可能である。As the sputtering method used, any known sputtering method can be used, in which a target is sputtered by bombarded ions and the target material is usually evaporated with a kinetic energy of several eV to about 100 eV.
従って、Ar、 Kr、 Xe等の不活性ガス雰囲気中
で、異常グロー放電にによるAr等のイオンによってタ
ーゲットをスパッタするプラズマ法を用いても、ターゲ
ットにAr、 Kr。Therefore, even if a plasma method is used in which the target is sputtered with ions such as Ar caused by abnormal glow discharge in an atmosphere of an inert gas such as Ar, Kr, or Xe, the target will not contain Ar or Kr.
Xe等ノイオンビームを照射して行うイオンビーム法を
用いてもよい。An ion beam method using a neutral ion beam such as Xe may also be used.
プラズマ法によるときには、いわゆるit Fスパッタ
であっても、また、いわゆるDCスパッタであってもよ
く、その装Wt#!l成も2極、4極等いずれであって
もよい。 さらには。When using the plasma method, it may be so-called IT F sputtering or so-called DC sputtering, and the method Wt#! The configuration may also be bipolar, quadrupolar, etc. Furthermore.
いワユるマグネトロンスパッタを用〜・でもよい。 ま
た、場合によっては、いわゆる反応性スパッタによるこ
ともできる。 さらに、イオンビーム法としては、種々
の方式に従うことができる。It is also possible to use magnetron sputtering. In some cases, so-called reactive sputtering may also be used. Furthermore, various methods can be used as the ion beam method.
用いるターゲットとしては、通常の場合は、対応する組
成の母合金を用いればよい。In normal cases, a master alloy having a corresponding composition may be used as the target.
なお、動作圧力、プレート電圧、プレート電流、極間間
隙等には特別の制限はなく、これらは、条件に応じ、任
意の値に設定することができる。Note that there are no particular restrictions on the operating pressure, plate voltage, plate current, gap between electrodes, etc., and these can be set to arbitrary values depending on the conditions.
このような場合、基体の一面上には下地層を形成し、こ
の下地層上に非晶質磁性合金薄膜を形成してもよい。
また、非晶質磁性合金薄膜上に上層保護層を形成しても
よい。In such a case, an underlayer may be formed on one surface of the substrate, and an amorphous magnetic alloy thin film may be formed on this underlayer.
Further, an upper protective layer may be formed on the amorphous magnetic alloy thin film.
さらに、非晶質磁性合金薄膜と、非磁性の薄膜を交互に
積層することもできる。Furthermore, amorphous magnetic alloy thin films and non-magnetic thin films can be alternately laminated.
このように非晶質磁性合金薄膜4.4′を形成した基体
3,3′は、第1図および第2図に示されるように、所
定の形状に加工され、1字、C字状等のコア半休2.2
′とされ、前部ギャップtlJitおよび後部ギャップ
部13にて、例えばSiO□等のギャップ材6.7を介
してつきあわされて磁気ヘッド1とされる。The substrates 3, 3' on which the amorphous magnetic alloy thin film 4.4' is formed are processed into a predetermined shape, such as a 1-shape, a C-shape, etc., as shown in FIGS. 1 and 2. core half-day break 2.2
', and are brought together at the front gap tlJit and the rear gap part 13 via a gap material 6.7, such as SiO□, to form the magnetic head 1.
なお、コア半休2.2′上には、さらに、基体3.3′
と同様の材質からなる保護体を接着することもできる。Furthermore, on the core half-hole 2.2', there is also a base body 3.3'.
A protector made of the same material can also be attached.
このような場合、薄膜形成後には、必要に応じて、無磁
場中あるいは静磁場ないし回転磁場中での熱処理を施す
。In such a case, after forming the thin film, heat treatment is performed in a non-magnetic field or in a static or rotating magnetic field, if necessary.
次いで研削により所定形状とし、また必要に応じ所定膜
厚となるように研削を行い、さらに必要に応じ、研摩を
行いコア半休とする。Next, it is ground to a predetermined shape, and if necessary, it is ground to a predetermined film thickness, and if necessary, it is further polished to make the core semi-dry.
そして、捲線を行い、上記のようにつきあわせ、その他
必要な加工を行い、磁気ヘッドが作製される。Then, winding is performed, alignment is performed as described above, and other necessary processing is performed to produce a magnetic head.
なお、上記の熱処理は、形状加工後、捲線前に施しても
よい。Note that the above heat treatment may be performed after shape processing and before winding.
■ 発明の具体的作用効果
このような磁気ヘッドは、ビデオ用の録画、録再、音声
用等の回転ヘッド、電算機用磁気ヘッド等としてきわめ
て有用である。(2) Specific effects of the invention Such a magnetic head is extremely useful as a rotary head for video recording, recording/playback, audio, etc., a magnetic head for computers, and the like.
本発明の磁気ヘッドは、媒体の高速摺動にともなう摩耗
がきわめて少ない。The magnetic head of the present invention has extremely little wear due to high-speed sliding of the medium.
また、メタルテープ等の合金磁性粉を用いる塗布型媒体
の使用による出力低下がきわめて少ない。In addition, there is very little reduction in output due to the use of coated media such as metal tapes that use alloyed magnetic powder.
しかも、高温高湿下での1時の劣化がきわめて少ない。In addition, there is very little deterioration even under high temperature and high humidity conditions.
そして、これらの効果は、所定量のRuとCrとを含有
するときにのみ実現する。These effects are achieved only when Ru and Cr are contained in predetermined amounts.
■ 発明の具体的実施例
以下1本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。(1) Specific Examples of the Invention One specific example of the present invention will be shown below to explain the present invention in further detail.
実施例
2■厚のアルミナ基体上に、下記表1に示される組成の
各非晶質磁性合金およびセンダストの薄膜を30μm厚
に形成した。Example 2 Thin films of each amorphous magnetic alloy and sendust having the compositions shown in Table 1 below were formed to a thickness of 30 μm on an alumina substrate having a thickness of 30 μm.
薄膜の形成は、スパッタリングによって行った。The thin film was formed by sputtering.
この場合、ターゲットとしては、対応する組成の合金の
鋳造体を用い、動作アルゴン圧5.5X10 ”Tor
r、プレー ト![2KV、 投入電力4W/−にて、
ILFマグネトロンスパッタリングを行った。In this case, a cast alloy of the corresponding composition was used as the target, and an operating argon pressure of 5.5×10” Tor
r, plate! [At 2KV, input power 4W/-,
ILF magnetron sputtering was performed.
次に、これを研削および@厚し、第1図および第2図に
示されるようなコア半休2.2′を得、これを、03μ
愼のギャップ材5I02を介してつきあわせ、所定の捲
線を施し、各種磁気ヘッドを作製した。Next, this was ground and @thickened to obtain a core half-hole 2.2' as shown in Figs. 1 and 2.
They were brought together via a gap material 5I02 and wound in a predetermined manner to produce various magnetic heads.
次いで、各磁気ヘッドを8闇ビデオ方式のデツキに塔載
し、以下の各測定を行った。Next, each magnetic head was mounted on an 8-dark video deck, and the following measurements were performed.
1)摩耗量(μm)
25℃、50%RHにて、塗布型のメタルテープを4.
75m/secで100時間走行させて、走行後0摩耗
量を表面粗さ計で測定した。 精米をセンダストの場合
の摩耗量を1とし、これに対する相対値として表1に示
す。1) Amount of wear (μm) At 25°C and 50% RH, coated metal tape was applied to 4.
It was run at 75 m/sec for 100 hours, and the zero wear amount after running was measured using a surface roughness meter. The amount of wear when milled rice is Sendust is assumed to be 1, and Table 1 shows relative values to this.
2)5MHz信号の出力低下(dB)
25℃、50%f−LHにて、塗布型のメタルテープな
4.75m/secで4時間短行させて、走行後の出力
低下を測定した。2) Output drop (dB) of 5 MHz signal At 25° C. and 50% f-LH, a coated metal tape was run for 4 hours at 4.75 m/sec, and the output drop after running was measured.
結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.
3)保存後の1%変化
70℃、95%FLHにて、240時間保存した後、保
存前との0.5 M Hzのf時変化(dB)を測定し
た。3) 1% change after storage After storage at 70° C. and 95% FLH for 240 hours, the change in f at 0.5 MHz (dB) from before storage was measured.
結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.
表1に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。From the results shown in Table 1, the effects of the present invention are clear.
第1図は、本発明の磁気ヘッドの構造の1例を示す正面
図であり、第2図は第1図の右側面図である。
1・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・磁気ヘ
ッド2.2′ ・・・・・・・・・・・・コア半体3
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・基 体
4・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・非晶質
磁性合金薄膜出願人 東京電気化学工業株式会社代
坤人 升埋十 石 井 陽 −
(22)
153−
第1図
第2図FIG. 1 is a front view showing an example of the structure of the magnetic head of the present invention, and FIG. 2 is a right side view of FIG. 1. 1・・・・・・・・・・・・・・・・・・Magnetic head 2.2′・・・・・・・・・Core half 3
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・Base 4・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・Amorphous magnetic alloy Thin film applicant Tokyo Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Daikonto Masumaku Ju Ishii Hiroshi - (22) 153- Figure 1 Figure 2
Claims (1)
金薄膜を形成してなることを%徴とする磁気ヘッド。 式 T xX y Ru z Cr w(上式中、T
は、C01COおよびFe1またはCOlもしくはCO
およびFeと他の遷移金属元素のlli以上との組合せ
を表わし、 Xは、B、もしくはBおよびSi、またはBもしくはB
およびSiと他のガラス化元素の1種以上との組合せを
表わす。 X’+y+Z+W=loOat%であり、このうちyは
16〜35 at%であり、2は8at%以下であり、 Wは8at%以下である。) 2、 TがCOおよびFe、またはCOおよびFeと
他の遷移金属元素の1種以上であり、F”e含有量が0
.1〜6at%である特許請求の範囲第1項に記載の磁
気ヘッド。 3 Xが、B、もしくはBおよびSl、また(まBもし
くはBおよびSiと他のガラス化元素の1種以上との組
合せであり、X中のSj/(Si十B)比が0または0
.2以下である特許請求の範囲第1項または第2項に記
載の磁気ヘッド。 4、 X中のSi/(Si十B)比が0.05〜0.
15である特許請求の範囲第3項に記載の磁気ヘッド。 5、 Yが18〜3Qat%である特許請求の範囲第
1項ないし第4項のいずれかに記載の磁気ヘッド。 5、 zが0.5〜5at%である特許請求の範囲第
1項ないし第5項のいずれかに記載の磁気ヘッド。 7、 wが0゜5〜5at%である特許請求の範囲第
1項ないし第6項のいずれかに記載の磁気ヘッド。 8. 薄膜の厚さが01〜100μ霜である特許請求の
範囲第1項ないし第7項のいずれかに記載の磁気ヘッド
。 9、基体が非磁性の絶縁性のものである特許請求の範囲
第1項ないし第8項のいずれかに記載の磁気ヘッド。[Claims] 1. A magnetic head characterized by forming an amorphous magnetic alloy thin film having a composition represented by the following formula on a substrate. Formula T xX y Ru z Cr w (in the above formula, T
is C01CO and Fe1 or CO1 or CO
and represents a combination of Fe and lli or more of another transition metal element, X is B, or B and Si, or B or B
and represents a combination of Si and one or more other vitrifying elements. X'+y+Z+W=loOat%, of which y is 16 to 35 at%, 2 is 8 at% or less, and W is 8 at% or less. ) 2. T is CO and Fe, or CO and Fe and one or more other transition metal elements, and the F"e content is 0
.. The magnetic head according to claim 1, wherein the content is 1 to 6 at%. 3 X is B, or B and Sl, or a combination of B or B and Si with one or more other vitrifying elements, and the Sj/(Si + B) ratio in X is 0 or 0
.. 2. The magnetic head according to claim 1 or 2, wherein the magnetic head is 2 or less. 4. Si/(Si + B) ratio in X is 0.05 to 0.
15. The magnetic head according to claim 3, which is No. 15. 5. The magnetic head according to any one of claims 1 to 4, wherein Y is 18 to 3 Qat%. 5. The magnetic head according to any one of claims 1 to 5, wherein z is 0.5 to 5 at%. 7. The magnetic head according to any one of claims 1 to 6, wherein w is 0°5 to 5 at%. 8. 8. The magnetic head according to claim 1, wherein the thin film has a thickness of 01 to 100 μm. 9. The magnetic head according to any one of claims 1 to 8, wherein the base is nonmagnetic and insulating.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10962882A JPS58224425A (en) | 1982-06-24 | 1982-06-24 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10962882A JPS58224425A (en) | 1982-06-24 | 1982-06-24 | Magnetic head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58224425A true JPS58224425A (en) | 1983-12-26 |
Family
ID=14515097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10962882A Pending JPS58224425A (en) | 1982-06-24 | 1982-06-24 | Magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58224425A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002252115A (en) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Alps Electric Co Ltd | Impedance element and its manufacturing method |
-
1982
- 1982-06-24 JP JP10962882A patent/JPS58224425A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002252115A (en) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Alps Electric Co Ltd | Impedance element and its manufacturing method |
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